「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(291ページ目) - Weblio英語例文検索

A pilot pattern information generating section 278 generates pilot pattern information by selecting a pilot pattern which optimizes a location of the pilot symbol in a frame in response to the delay dispersion, movement speed and other-cell interference.例文帳に追加

パイロットパタン情報生成部２７８は、遅延分散、移動速度、および他セル干渉に応じて、フレーム内のパイロットシンボルの配置が最適となるパイロットパタンを選択しパイロットパタン情報を生成する。 - 特許庁

When the first variation pattern is selected in mission performance, a task pattern is selected from among many kinds of task patterns including a matching task pattern for identifying tasks matching variation contents.例文帳に追加

ミッション演出において第１の変動パターンが選択された場合には、変動内容に合致する課題を特定可能な合致課題パターンを含む複数種類の課題パターンから課題パターンを選択する。 - 特許庁

A pattern image forming position adjusting part 46 changes the position of the pattern image of the reference light formed by the micro mirror device 27 by a pixel unit and determines the position in which the best reproduction pattern image is obtained.例文帳に追加

パターン像形成位置調整部４６は、マイクロミラーデバイス２７に形成される参照光のパターン像の位置を画素単位で変化させ、最良の再生パターン像が得られる位置を決定する。 - 特許庁

A pattern collation part 18 compares the model of the source code object storage part 15 with defective pattern information of a defective pattern information storage part 16, and outputs a corresponding object as defect detection information 9.例文帳に追加

パターン照合部１８は，ソースコードオブジェクト記憶部１５のモデルを不良パターン情報記憶部１６の不良パターン情報と比較し，該当するオブジェクトを不良性検出情報９として出力する。 - 特許庁

If a color scheme of the design image is completed, a pattern image formation portion overlaps a pattern image with the colored design image, and sets up a color in the pattern image to a color of a position corresponding to the design image.例文帳に追加

デザイン画像の配色が完了したら、地紋画像生成部は地紋画像と配色されたデザイン画像を重ね合わせ、地紋画像の色を対応するデザイン画像の位置の色に設定する。 - 特許庁

The can body C is provided with the pattern 11 which is printed on the outer peripheral face of the can barrel 1, a recess 12 which is positioned in the pattern 11 and worked, and a mark 4 for positioning the pattern 11 and the recess 12.例文帳に追加

缶体Ｃは、缶胴１の外周面に印刷された模様１１と、模様１１に位置合わせして加工される凹部１２と、模様１１と凹部１２との位置合わせ用のマーク４とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, by which a required wiring pattern having a uniform pattern pitch smaller than a pattern pitch obtained by the minimum resolution capacity of an exposure device can be formed.例文帳に追加

露光装置の最小解像能力で得られるパターンピッチよりも小さく且つ均一なパターンピッチを有する所望の配線パターンを形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

DUMMY PATTERN INFORMATION PREPARING DEVICE, PATTERN INFORMATION PREPARING DEVICE, MASK, EXPOSURE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING MASK, METHOD OF PREPARING DUMMY PATTERN INFORMATION, PROGRAM, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM RECORDING THE PROGRAM例文帳に追加

ダミーパターン情報生成装置、パターン情報生成装置、マスク、露光装置、マスク作成方法、ダミーパターン情報生成方法、プログラム及び上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

When the mask comprising a resist layer is formed on the film to be patterned, a layered resist pattern containing a lower layer resist pattern 111 and an upper layer resist pattern 112 is formed on the film 102 to be patterned.例文帳に追加

被パターニング膜上にレジスト層でなるマスクを形成するにあたり、被パターニング膜１０２上に、下層レジストパターン１１１と、上層レジストパターン１１２とを含む積層レジストパターンを形成する。 - 特許庁

The IC chip 60 has an outer edge at a position beyond outer edges of the first wiring pattern and the second wiring pattern in the wiring layer 110 to inhibit the leakage of the electromagnetic field from both the wiring pattern.例文帳に追加

ＩＣチップ６０は、配線層１１０における第１配線パターンおよび第２配線パターンの外縁を越えた位置に外縁をもち、両配線パターンからの電磁界の漏洩を抑制する。 - 特許庁

To provide a forming method of a wiring pattern wherein a fine wiring pattern having desired dimension, a shape and precision can be formed by restraining deformation of a resist pattern which is caused by heat and stress.例文帳に追加

熱や応力によるレジストパターンの変形を抑制し、所望の寸法、形状および精度を有する微細な配線パターンを形成することができる配線パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

By the pattern etching of the second semiconductor film 6 in which the insulative pattern 5 serves as a stopper, source/drain regions 6s, 6d are formed, which separate the second semiconductor film 6 on the central portion of the insulative pattern 5.例文帳に追加

絶縁性パターン５をストッパとした第２半導体膜６のパターンエッチングにより、第２半導体膜６を絶縁性パターン５の中央部上で分離したソース／ドレイン領域６ｓ，６ｄを形成する。 - 特許庁

The flexible substrate includes a wiring pattern to which the plurality of light sources are electrically connected, and a metal heat dissipating region which is arranged by spacing apart from the wiring pattern and is electrically independent from the wiring pattern.例文帳に追加

フレキシブル基板は、複数の光源が電気的に接続される配線パターンと、配線パターンから離間して配置され、配線パターンとは電気的に独立した金属製の放熱領域とを有する。 - 特許庁

Transmission data and error pattern data corresponding to these transmission data are added and output by an adder circuit 6 and transmitted, while being combined (9) with an error pattern signal corresponding to the error pattern data.例文帳に追加

送信データと、その送出データに対応した誤りパターンデータとを加算回路６で加算出力するとともに、誤りパターンデータに対応した誤りパターン信号と合成（９）して送信する。 - 特許庁

To provide a color image forming apparatus capable of achieving binarization of a pattern signal faithfully to a predetermined pattern on an endless carrier even when the waveform of the pattern signal is varied.例文帳に追加

パターン信号の波形が変動した場合であっても、無端状担持体上の所定のパターンに忠実にパターン信号の２値化を行うことのできるカラー画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resistor pattern and its forming method, in which, even if the pattern is formed by printing, changing state of output of the pattern can be obtained correctly as desired.例文帳に追加

例え印刷による抵抗体パターンであっても、各部の出力の変化の状態が正確に所望のものとなるようにすることができる抵抗体パターン及びその形成方法を提供すること。 - 特許庁

A UV light absorbing film 6 is formed on the film 2 and the resist pattern 5, so that the upper side of the resist pattern 4 and the upper portion of the side wall of the resist pattern 5 are exposed.例文帳に追加

また、レジストパターン４の上側部分と、レジストパターン５の側壁部上部とが露出するようにして、被加工膜２およびレジストパターン５の上にＵＶ光吸収膜６が形成されている。 - 特許庁

Finally, a second gate insulating film 207 is formed only on a high-voltage element forming area 203 by using the silicon nitride film pattern 205a as an oxidation preventing mask pattern and the pattern 205a is removed.例文帳に追加

最後に、シリコン窒化膜パターン２０５ａを酸化防止マスクパターンとして高電圧素子形成領域２０３上のみに第２ゲート絶縁膜２０７を形成し、シリコン窒化膜パターン２０５ａを除去する。 - 特許庁

To provide pattern forming processes that may form permanent patterns such as a wiring pattern with high fineness and preciseness, and sufficient efficiency due to suppressing the deformation of images formed on pattern forming materials.例文帳に追加

前記パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A thumbnail pattern storage section 92 stores a thumbnail pattern representing the features of a prescribed scene, and a matching scene detection section 272 detects a scene, in matching with the thumbnail pattern as a matching scene from the moving picture content.例文帳に追加

サムネイルパターン記憶部９２は、所定のシーンの特徴を表すサムネイルパターンを記憶し、マッチングシーン検出部２７２は、動画コンテンツから、サムネイルパターンに合致するシーンを、マッチングシーンとして検出する。 - 特許庁

A transmitter 3 inserts a prescribed test pattern into an undefined area of a transmission frame, compensates difference of parity by insertion of the test pattern and transmits the test pattern to the respective transmission lines with the redundancy configuration.例文帳に追加

送信装置３は、送信フレームの未定義領域に所定のテストパターンを挿入すると共に、テストパターンの挿入によるパリティの差分を補償し、冗長構成の各伝送路に送信する。 - 特許庁

In the panel substrate 11a on a viewing side of the display panel 1, a fixed pattern portion 13 corresponding to a fixed pattern is formed, by laser processing, matching the position where the fixed pattern desires to be displayed.例文帳に追加

表示パネル１の視認側のパネル基板１１ａの内部には、固定図柄を表示させたい位置に合わせて、その固定図柄に対応する固定図柄部１３がレーザ加工によって形成されている。 - 特許庁

To make generatable a simulation test bench capable of compression test pattern files of plural input signal lines into one test pattern file thereby reducing the occupied quantity of the test pattern file in a recording medium.例文帳に追加

複数の入力信号線のテストパターンファイルを一つのテストパターンファイルにデータ圧縮し、テストパターンファイルの記録媒体における占有量を減少させるシミュレーションテストベンチ生成を可能とする。 - 特許庁

By paying attention to a characteristic pattern of acceleration of a leg part formed according to the walking and monitoring whether the pattern appears from acceleration data of the leg pattern or not, one step by the leg part is detected.例文帳に追加

歩行に応じて形成される脚部の加速度の特徴的パターンに着目し、脚部の加速度データからそのパターンが現れるか否かの監視をすることにより、脚部による一歩を検出する。 - 特許庁

A name is formed by selecting characters out of a character string displayed on a picture capable of editing the embroidery pattern data at the time of preserving an embroidery pattern in a folder and with that name, the embroidery pattern is stored in the folder.例文帳に追加

刺繍模様をホルダーに保存するとき、刺繍模様データを編集できる画面に表示される文字列から文字を選択して名前が形成され、その名前で刺繍模様がホルダーに記憶される。 - 特許庁

To provide a wiring pattern forming method which suppresses failures of the formed wiring pattern, and an apparatus for manufacturing a high reliability display by this wiring pattern forming method.例文帳に追加

形成される配線パターンの不具合を抑制した配線パターン形成方法、およびこの配線パターン形成方法で信頼性の高い表示装置を製造するための製造装置を提供する。 - 特許庁

Next, a 2nd pattern part area formed in the pattern area is positioned with respect to the optical system 16 and its pattern is exposed to a 2nd unit exposure area adjacent to the 1st unit exposure area.例文帳に追加

次いで、パターン領域に形成された第２パターン部分領域を投影光学系に対して位置決めし、そのパターンを第１単位露光領域と隣り合う第２単位露光領域に露光する。 - 特許庁

To carry out inspection with high accuracy without causing any pseudo defects by performing the pattern data collation corresponding to a small change of the pattern generated by an etching process of the pattern formed on a photo mask.例文帳に追加

フォトマスク上に形成されるパターンのエッチングプロセスによって生じるパターンの微妙な変化に対応したパターンデータの合わせを行い、疑似欠陥の発生を招くことなく精度良い検査を行う。 - 特許庁

The computer apparatus 30 modulates the brightness band-like pattern Gn with four sine curves of different phases, then composes each brightness band-like pattern Gn, and calculates brightness band-like pattern composed images SGk.例文帳に追加

コンピュータ装置３０は、明暗縞状パターンＧｎを位相が異なる４つのサインカーブによって変調した後、各明暗縞状パターンＧｎを合成して明暗縞状パターン合成画像ＳＧｋを計算する。 - 特許庁

The coating agent for making the pattern finer, used to cover a resist pattern formed on a substrate to form the fine pattern, contains water-soluble peptide and water-soluble resin.例文帳に追加

基板上に形成されたレジストパターンを被覆し、微細パターンを形成するために用いられるパターン微細化用被覆剤であって、水溶性ペプチドと、水溶性樹脂と、を含有するパターン微細化用被覆剤。 - 特許庁

A wiring structure having a hollow part between the wiring patterns is realized by defining the area where the gap of a final wiring pattern comprising a wiring pattern and a dummy pattern is not larger than a specified as a hollow part.例文帳に追加

配線パターンとダミーパターンとからなる最終配線パターンの間隙がある値以下の領域を中空部と定義することにより、配線パターン間に中空部を有する配線構造が実現する。 - 特許庁

A personal computer(PC) 1 recognizes the pattern of a 2D bar code 101 from the image data of the 2D bar code 101 and when that pattern shows a local 2D bar code, executes a prescribed processing corresponding to that code pattern.例文帳に追加

パーソナルコンピュータ１は、２Ｄコード１０１の画像データから、２Ｄコード１０１のパターンを認識し、それがローカル２Ｄコードである場合、そのコードパターンに対応した所定の処理を実行する。 - 特許庁

A wiring pattern is formed on at least one plane of a substrate to form a wiring board, and adhesives for adhering the substrate to the wiring pattern are disposed only beneath the wiring pattern.例文帳に追加

基材の少なくとも片面に配線パターンが形成されている配線板であり、基材と配線パターンを接着する接着剤が該配線パターン下部にのみ配置されていることを特徴とする配線板。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, capable of efficiently and uniformly performing formation and correction of pattern design data along a production process of semiconductor device or a request on pattern design process.例文帳に追加

パターンの設計データの作成および修正を、半導体装置の製造プロセスやパターン設計プロセス上の要請に沿って効率良く、かつ、均一に行うことができるパターン作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern for alignment measurement preventing image processing signals of a pattern edge from being asymmetrical to the center line even when a heat flow treatment is executed to the resist pattern for the alignment measurement.例文帳に追加

合わせ測定用のレジストパターンに熱フロー処理を施しても、パターンエッジ部の画像処理信号が左右非対称とならないようにする合わせ測定用のレジストパターンを提供することである。 - 特許庁

The pattern density PD in the drawing region is calculated based on the drawing data of the reticle pattern and the heating energy on the chemically amplifying resist film in the PEB treatment process is controlled based on the pattern density.例文帳に追加

レチクルパターンの描画データに基づいて、描画領域のパターン密度ＰＤを算出し、該パターン密度に基づいてＰＥＢ処理工程における化学増幅型レジスト膜への加熱量を調節する。 - 特許庁

In a pattern display device capable of stationarily displaying a plurality of patterns of guidance patterns, at least two kinds of winning patterns including patterns of a first pattern and patterns of a second pattern are provided.例文帳に追加

複数パターンの誘導図柄を停止表示可能な図柄表示装置において、当たり図柄を、第１のパターンの図柄と第２のパターンの図柄の、少なくとも２種類の当たり図柄を設けておく。 - 特許庁

To realize synchronous pattern removal processing for performing conversion so as not to be a synchronous pattern by inserting delimiter data into a bit string coinciding with a synchronous pattern in an encoded signal with a small amount of processing.例文帳に追加

符号化信号中から同期パターンに一致するビット列に区切りデータを挿入し同期パターンにならならいように変換する同期パターン除去処理を、少ない処理量で実現すること。 - 特許庁

Consequently, the uneven pattern can be suitably changed in accordance with a desired three-dimensional pattern structure, thereby suppressing the number of imprint molds needed to form the desired three-dimensional pattern structure.例文帳に追加

このため、所望する３次元パターン構造体に応じて、適宜凹凸パターンを変更することが出来、所望する３次元パターン構造体の形成に必要なインプリントモールド個数を抑制することが出来る。 - 特許庁

To provide a thermal transfer sheet which can prevent migration of a dye to a colored pattern, can vividly express the colored pattern and further can easily obtain a thermal transfer layer of desired colored pattern.例文帳に追加

色柄への染料の移染を防止できるだけでなく、色柄を鮮明に現すことができ、また、所望の色柄の熱転写層を容易に得ることができる、熱転写シートを、提供する。 - 特許庁

In this case, in the shift pattern selection part 323, the tendency of selecting the first shift pattern or selecting the second shift pattern is different between the case of winning the big winning and the case of winning the small winning.例文帳に追加

ここで、移行パターン選択部３２３は、大当たりに当選した場合と、小当たりに当選した場合とで、第１移行パターンを選択するか第２移行パターンを選択するかの傾向が異なる。 - 特許庁

The ejection operation of the ink by the recording head 202 is controlled on the basis of the test pattern of the first test pattern and the second test pattern which has a smaller placement amount of the ink per unit area.例文帳に追加

そして、第一のテストパターンと第二のテストパターンとのうち、単位面積当たりのインクの打ち込み量の少ない方のテストパターンに基いて記録ヘッド２０２によるインクの吐出動作が制御される。 - 特許庁

For the normalization of the read pattern, a length of the normalized pattern is calculated by comparison with the reference data, and read pattern expanding or shortening processing is executed so as to obtain the calculated length.例文帳に追加

読取パターンの正規化は、基準データとの比較によって正規化後のパターンの長さを算出し、算出した長さとなるように読取パターンの伸張処理または短縮処理を実行する。 - 特許庁

To provide a method capable of forming a fine pattern without deteriorating the line width precision nor shape of a resist pattern when a remaining film of the pattern obtained by pressing a mold is removed.例文帳に追加

モールドをプレスすることにより得られたパターンの残膜を除去する際、そのレジストパターンの線幅精度、形状を劣化させることなく、微細なパターンを形成可能にする方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enables formation of a pattern having good pattern collapse resistance and few development defects, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターン倒れが良好であり、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁