「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(288ページ目) - Weblio英語例文検索

A PN pattern detection circuit 21 of an opposite station side detects the PN pattern from the data of its own station side and provides the output of a fact that the control signal is reset, when the PN pattern is detected and that the control signal is set, when no PN pattern is detected.例文帳に追加

対局側のＰＮパターン検出回路２１は自局側のデータからＰＮパターンを検出し、ＰＮパターンを検出した時に制御信号がオフであることを、ＰＮパターンを検出できない時に制御信号がオンであることを出力する。 - 特許庁

As a result of the lottery, the variable display is decided to be started with the special pattern display device A and when the variable display is already carried out by the special pattern display device A, the display is taken over by the special pattern display device B from the special pattern display device A.例文帳に追加

抽選の結果、特別図柄表示器Ａで可変表示を開始することに決定された場合に、既に特別図柄表示器Ａで可変表示が行われているときには、特別図柄表示器Ａで行われている特別図柄表示器Ｂに引き継がせる。 - 特許庁

The printing system provided with a printer driver 13 having a design pattern image generating function includes an attaching range particularizing module 14 for particularizing an attaching range of the design pattern image, and a design pattern image generating module 15 for generating the design pattern image of the particularized range.例文帳に追加

地紋画像作成機能を有するプリンタドライバ１３を備えた印刷システムにおいて、地紋画像の付加範囲を特定する付加範囲特定モジュール１４と、特定された範囲の地紋画像を作成する地紋画像作成モジュール１５とを備えるようにした。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern in lumber, formable of a clear irregular pattern on a lumber surface, continuously in a short time, without generating a crack or distortion in the lumber; and the lumber imparted with the pattern formed by the method for forming the pattern.例文帳に追加

連続的に短時間で木材表面にくっきりした凹凸模様を、木材の割れや歪みなどが発生せずに形成することのできる木材の模様形成方法と、この模様形成方法によって模様が付与された木材を提供すること。 - 特許庁

If a specific pattern or a pattern identical to the ready-to-win condition pattern is displayed on the normal pattern display device 140 before the active period ends, the display mode on the variable display device is shifted from the losing display mode to a specific display mode.例文帳に追加

有効期間が終了する前に普通図柄表示装置１４０に特定図柄やリーチ図柄と同一の図柄が表示されたことを条件に、可変表示装置における表示態様を外れ表示態様から特定表示態様に移行させる。 - 特許庁

As opposed to this, by using a reticle that is so formed that the phase of electrons passing through a periodical pattern on the reticle is alternately shifted by (n+1/2)λ for each unit pattern of the periodical pattern, the pattern of a distribution of the electron beam taking account of phase is, as shown in (c).例文帳に追加

これに対し、レチクル上周期パターンを通過する電子の位相が、当該周期パターンの単位パターン毎に、交互に（ｎ+1/2）λずれるように形成されたレチクルを用いているので、位相を考慮した電子線の分布のパターンは（ｃ）に示すようになる。 - 特許庁

In each of the game patterns, a predetermined area in a part facing the game pattern in the adjacent pattern row is recessed inward, and consequently, each of the game patterns is displayed so that a clearance between the game patterns in the adjacent pattern rows appears to be widened during fluctuation of the pattern rows.例文帳に追加

各遊技図柄を、隣の図柄列の遊技図柄に臨む部分の所要範囲を内側に凹ませた形状にすることで、隣り合う図柄列の遊技図柄相互の間隔が、図柄列の変動中には広がって見えるように各遊技図柄を表示させる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be suitably used when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, excels in line edge roughness, and causes neither pattern collapse nor problem of development defects, and a pattern forming method using the same, and to further provide a positive resist composition excellent in pattern profile and exposure latitude and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This cosmetic display stand set 1 can thus forms four types of display patterns, a life-size large display pattern 21 with the holders, an article hanging type life-size large display pattern 22, a life-size advertisement pattern 23, and a small board use display pattern 24.例文帳に追加

これにより、化粧品陳列用スタンドセット１は、保持具付き等身大陳列パターン２１、商品吊下げ式等身大陳列パターン２２、等身大宣伝パターン２３および小型ボード利用陳列パターン２４の４種類の陳列パターンを形成することができる。 - 特許庁

A test transfer pattern is formed on a wafer by using a test exposure mask having a mask pattern with varied pattern area rates in the peripheral region so as to obtain the proximity correction data for each pattern area rate based on the transfer patterns (ST5, ST6).例文帳に追加

周辺領域におけるパターン面積率を変化させたマスクパターンを有するテスト用の露光マスクを用いてウェハ上にテスト用の転写パターンを形成し、当該転写パターンに基づいて前記パターン面積率毎の近接効果補正用データを得る（ＳＴ５，ＳＴ６）。 - 特許庁

The substrate SB for electroforming comprises: a fine pattern region FA having a fine pattern for transferring to an electroformed body; a flat region MA surrounding the fine pattern region FA; and an anchor pattern region AA arranged at the outer side than the flat region MA.例文帳に追加

電鋳用基板ＳＢは、電鋳体に転写するための微細パターンを有する微細パターン領域ＦＡと、微細パターン領域ＦＡを取り囲む平坦領域ＭＡと、平坦領域ＭＡよりも外側に配置されたアンカーパターン領域ＡＡとを備えている。 - 特許庁

In determining the number of effective lines to display the combination of patterns (determining a variation pattern for which effective lines are fixed) in this pattern combination game, the number of effective lines in the preceding pattern combination game is determined and a variation pattern is determined.例文帳に追加

そして、今回の図柄組み合わせゲームにて図柄組み合わせを表示させる有効ラインの本数を決定（有効ラインが定められた変動パターンの決定）する際には、前回の図柄組み合わせゲームにおける有効ラインの本数を判定し、変動パターンを決定する。 - 特許庁

To provide the controller of a game machine capable of ending the fluctuation display of a series of fluctuation patterns specified by a fluctuation pattern specifying command at a stop pattern specified by a stop pattern specifying command without changing the control pattern of the fluctuation display.例文帳に追加

変動表示の制御パターンを変更することなく、変動パターン指定コマンドにより指定された一連の変動パターンの変動表示を停止図柄指定コマンドにより指定された停止図柄で終了させることができる遊技機の制御装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a correcting method of a design pattern which performs the correction of proximity effect to a design pattern by converting the area density of the design pattern into figure data so that the area density of the design pattern can be inputted into a general-purpose figure operating tool as a parameter.例文帳に追加

設計パターンの面積密度を汎用的な図形演算ツールにパラメータとして入力できるように、設計パターンの面積密度を図形データに変換し、設計パターンに対して近接効果の補正を行う設計パターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

This method has a resist pattern forming process (ST201-ST203) for forming a resist coat on a substrate by a prescribed optical pattern from a resist to be hardened by burning, and a burning process (ST204) for burning and hardening the resist pattern formed in the resist pattern forming process.例文帳に追加

焼成により硬化するレジストを所定光学パターンで基板上にレジストコートするレジストパターン形成工程（ＳＴ２０１〜ＳＴ２０３）と、前記レジストパターン形成工程で形成されたレジストのパターンを焼成して硬化させる焼成工程（ＳＴ２０４）と、を備える。 - 特許庁

In the first type game specification, a player winning a special pattern drawing by lottery can receive many prize balls in a short time, and game properties can be visually improved by giving a twist to a pattern variation pattern performance to announce the result of the special pattern drawing.例文帳に追加

第１種の遊技仕様では特図抽選に当選することで短期間で多くの賞球を受けることが可能であり、かつ特図抽選結果の報知のための図柄変動パターン演出に趣向を凝らすことで、視覚的に遊技性を高めることができる。 - 特許庁

Tables for determining failure variation pattern types which are used for determining the variation pattern, have common determination values partially allocated for variation pattern types including the variation pattern with super ready-to-win status, regardless of the total count of saved prize ball data.例文帳に追加

また、変動パターンを決定する際に用いるはずれ用変動パターン種別判定テーブルは、スーパーリーチを伴う変動パターンを含む変動パターン種別の一部分に対しては、合算保留記憶数にかかわらず、共通の判定値が割り当てられている。 - 特許庁

To provide a substrate processing method in which a partial erase of a pattern in a pattern formation region can be prevented, a projected portion which projects from the pattern formation region can be easily removed, and to provide a production method of a member having a pattern region.例文帳に追加

パターン形成領域におけるパターンの部分的消失を防ぐことができ、パターン形成領域からはみ出した、はみ出し部分を容易に除去することが可能となる基板の加工方法、パターン領域を有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this process, a defect is detected by comparing a basic inspection image obtained from the basic pattern formed in the basic pattern region of the mask for inspection of pattern defect detection sensitivity with a defect reference image produced by image processing based on the design data of the defect pattern.例文帳に追加

この際、パターン欠陥検出感度検査用マスクの基本パターン領域に形成された基本パターンから取得した基本検査画像と、欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像とを、比較して欠陥を検出する。 - 特許庁

A Pachinko game machine is provided with the first special pattern display device for variable display based on the winning of the first starter slot (first special pattern) and the second special pattern display device for variable display based on the winning of the second starter slot (second special pattern).例文帳に追加

パチンコ遊技機に、第１始動口に入賞したことに基づいて可変表示を行う第１特別図柄表示装置（第１特図）と、第２始動口に入賞したことに基づいて可変表示を行う第２特別図柄表示装置（第２特図）と、を設ける。 - 特許庁

This imaging device has an original image read part 3 which reads an original image, a copy-restriction pattern detecting part 7 which detects a copy-inhibition pattern included in image data, and a copy-inhibition pattern imparting part 8 which imparts the copy-inhibition pattern for inhibiting copying.例文帳に追加

原稿画像を読み込む原稿画像読み取り部３、画像データに含まれる複写禁止パターンを検知する複写制限パターン検知部７と、複写を禁止するための複写禁止パターンを付与する複写禁止パターン付与部８とを有して構成されている。 - 特許庁

At the time of deciding that prescribed pattern fluctuation is to be displayed at the pattern display device 23 by drawing, the drawn pattern fluctuation is displayed in the first display area 23a and the pattern fluctuation selected by the player is displayed in the second display area 23b.例文帳に追加

抽選で所定の図柄変動を図柄表示器２３に表示することを決定すると、第１表示領域２３ａには抽選された図柄変動が表示され、第２表示領域２３ｂには遊技者によって選択された図柄変動が表示される。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method by which, even when patterning with a second resist composition is performed without using a freezing material in the formation of a resist pattern by double patterning, a fine resist pattern can be formed while retaining the good shape of a first resist pattern.例文帳に追加

ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、フリージング材を用いることなく第二のレジスト組成物によりパターニングした場合でも、第一のレジストパターンの形状を良好に保持したまま微細なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a resin composition for pattern reverse, the resin composition capable of being suitably embedded in a resist pattern formed on a substrate without mixing the resist pattern and showing excellent durability against oxygen ashing and storage stability, and to provide a method for forming a reversed pattern.例文帳に追加

基板に形成されたレジストパターンとミキシングすることがなく、且つこのパターン間に良好に埋め込むことができると共に、酸素アッシング耐性及び保存安定性に優れるパターン反転用樹脂組成物及び反転パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern defect repairing device where a problem when a laser beam is adopted as a light source of an inspection device of a pattern defect, the defect of a pattern is inspected with higher resolution and the defect of the mask pattern can highly precisely be repaired.例文帳に追加

レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁

A performance determination means selects the first pseudo continuous variation pattern or the second pseudo continuous variation pattern so that the reliability in the selection of the first pseudo continuous variation pattern is higher than the reliability in the selection of the second pseudo continuous variation pattern.例文帳に追加

演出決定手段は、第１擬似連続変動パターンが選択されたときの信頼度が、第２擬似連続変動パターンが選択されたときの信頼度よりも高くなるよう、第１擬似連続変動パターンまたは第２擬似連続変動パターンを選択する。 - 特許庁

Then the pattern 91 is erased and a pattern 92 consisting of toner images 91B and 92M is similarly formed and after the pattern is erased, a pattern 93 consisting of toner images 91B and 93C is formed to detect relative position shifts between the toner images respectively.例文帳に追加

その後、パターン９１を消去して、同様にトナー像９１Ｂ，９２Ｍからなるパターン９２を、さらにその消去後にトナー像９１Ｂ，９３Ｃからなるパターン９３を同様に形成して、互いのトナー像の相対的な位置ずれをそれぞれ検出する。 - 特許庁

The semiconductor device is manufactured by using a first photomask 106 having a first rectangular pattern 104a obtained by dividing a mask pattern, and a second photomask 108 having a second rectangular pattern 104b obtained by dividing the mask pattern.例文帳に追加

本発明によれば、フォトマスクとして、マスクパターンを分割して得られる第１矩形パターン１０４ａを有する第１フォトマスク１０６、および前記マスクパターンを分割して得られる第２矩形パターン１０４ｂを有する第２フォトマスク１０８を用いて半導体装置を製造する。 - 特許庁

"Futaeorimono" (or "Futabeorimono") is a fabric on which two kinds of patterns are arranged; the one is called 'jimon' (textile pattern), running patterns such as kikko (hexagonal pattern) and karakusa (arabesque) that spread over a fabric, and the other called 'uwamon,' patterns of marumon (round pattern) and kachomon (pattern of flowers and birds) which are woven with colored threads different from those of jimon and arranged at random. 例文帳に追加

二陪織物（ふたえおりもの、ふたべおりもの）は全面に亀甲や唐草などの連続紋を織り出して地紋とし、その上に「上紋（うわもん）」と称して丸文や花鳥文などを地とは別の色糸で飛び飛びに織り出したもの。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a pattern defect repair apparatus capable of repairing the defect of a higher fineness mask pattern by solving the problem of the case a laser beam is employed as a light source for an inspection apparatus for the pattern defect and by inspecting the defect of the pattern with higher resolution.例文帳に追加

レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁

Concerning the device for measuring and evaluating the form of the mask pattern, mask pattern image data are inputted and after pattern form data are extracted by processing these data by a computer, a prescribed form characteristic value is measured so that the pattern form can be evaluated.例文帳に追加

マスクパターンの形状計測評価装置において、マスクパターン画像データを入力し、これをコンピュータ処理してパターン形状データを抽出した後、所定の形状特性値を計測処理することにより、パターン形状を評価することを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of the conductive pattern, the conductive pattern is formed on an ink acceptable base material via a process of forming a conductive pattern image using a conductive ink, and a heating/pressurizing process of simultaneously applying thermal energy and pressure to the formed conductive pattern image.例文帳に追加

インク受容基材に、導電性インクを用いて導電性パターン像を形成する工程と、形成した該導電性パターン像に熱エネルギー及び圧力を同時に付与する加熱・加圧工程とを経て形成することを特徴とする導電性パターンの作製方法。 - 特許庁

This pachinko machine 1 has the function of making a temporary stop display of a special pattern as a first stage display after the start of variation of the special pattern, then varying the special pattern displayed as the first stage display and displaying the special pattern as a second stage display.例文帳に追加

パチンコ機１は、特別図柄の変動開始後に、第一段階表示として特別図柄を仮停止表示した後、第一段階表示された特別図柄を再度変動させ、しかる後に、第二段階表示として特別図柄を表示する機能を有している。 - 特許庁

In the organic film pattern processing treatment, a heating process for heating the organic film pattern 901a from above, and a main process for reducing at least a part of the organic film pattern 901a or removing a part of the organic film pattern 901a, are conducted in this order.例文帳に追加

有機膜パターン加工処理では、有機膜パターン９０１ａを上方から加熱する加熱処理と、有機膜パターン９０１ａの少なくとも一部を縮小するか又は有機膜パターン９０１ａの一部を除去する本処理とをこの順に行う。 - 特許庁

Projections 611 of electrode pattern layers 61 of the power supply substrates 6a and 6b are pressed in the elliptic holes 241 of the electrode pattern layers 24a and 24b of the LED mounted substrate 21 to join the electrode pattern layers 61 and electrode pattern layers 24a and 24b together.例文帳に追加

通電基板６ａ、６ｂの電極パターン層６１の突起６１１をLED搭載基板２１の電極パターン層２４ａ、２４ｂの楕円形穴２４１に圧入することにより電極パターン層６１と電極パターン層２４ａ、２４ｂとを接合させる。 - 特許庁

The correction unit includes: a first filter (91) with a first dimming pattern formed thereon; a second filter (92) with a second dimming pattern formed thereon; a third filter (93) with a third dimming pattern formed thereon; and a fourth filter (94) with a fourth dimming pattern formed thereon.例文帳に追加

補正ユニットは、第１減光パターンが形成された第１フィルタ（９１）と第２減光パターンが形成された第２フィルタ（９２）と第３減光パターンが形成された第３フィルタ（９３）と第４減光パターンが形成された第４フィルタ（９４）とを備えている。 - 特許庁

A monitoring pattern 104-3, which varies more in line width due to the attachment of the contamination 105 than the transferring pattern, is previously formed on a mask provided with a transferring pattern, and a variation in a line width of the monitoring pattern 104-3 due to the contamination 105 is monitored.例文帳に追加

転写用パターンをもつマスクに、転写用パターンよりもコンタミネーション１０５の付着による線幅の変動が大きいモニタ用パターン１０４−３を予め形成しておき、コンタミネーション１０５によるモニタ用パターン１０４−３の線幅の変動をモニタする。 - 特許庁

To bring a picture pattern film into intimate contact with a cavity forming face not so as to have damage and excess extension of the picture pattern film and damage and strain of the picture pattern by heating enough the picture pattern film regardless of depth of a cavity forming face.例文帳に追加

キャビティ形成面の深度の大小にかかわらず、絵柄フィルムの加熱を十分にすることによって、絵柄フィルムの損傷や展延のし過ぎがなく絵柄の損傷や歪みもないように、絵柄フィルムをキャビティ形成面に密着させることができる。 - 特許庁

In the array forming method, the pattern arranged as the mask pattern of an LSI is divided into groups to generate the array structure data in such a manner that when the congruent pattern with the master pattern as the base of repetition is repeatedly arranged at a specified repetition pitch, the largest number of repetition is obtained.例文帳に追加

アレイ化方法は、ＬＳＩのマスクパターンとして並ぶパターンにおいて、繰返しの基準となるマスタパターンに合同なパターンを、所定の繰返しピッチで繰返し配置したときの繰返し数が最大となるようにグループ化し、アレイ構造データを生成する。 - 特許庁

The sum total of the intensity of the magnetization of a burst part of the servo pattern is made 0 by forming a dc signal part involved in the burst part of the servo pattern with a combination of positive and negative dc signal components and low density dummy bits or a pattern shifted in its phase from the servo pattern.例文帳に追加

サーボパターンのバースト部分に含まれる直流信号部分を、正と負の直流信号要素の組み合わせ、低密度のダミービット、もしくは位相をずらしたパターンで構成することにより、サーボパターンのバースト部分の磁化量の総和を０とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a substrate with a polyorganosiloxane cured relief pattern which is a relief pattern having practical mechanical properties to be provided to a cured relief pattern as a permanent material, and free of residue and damage such as peeling at the bottom of the cured relief pattern after development.例文帳に追加

硬化レリーフパターンが永久材料として具備すべき実用レベルの力学物性を有し、現像後の硬化レリーフパターン底部に残滓や剥離などのダメージの無いレリーフパターンであるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン付き基材の製造方法の提供。 - 特許庁

An image cut out from the image of a dot pattern printed in a good state is taken as a reference pattern, and each pixel constituting the reference pattern is shifted in x-axial direction or y-axial direction on the basis of a preset parameter to form a deformed pattern.例文帳に追加

良好な状態で印字されたドットパターンの画像から切り出された画像を基準パターンとして、この基準パターンを構成する各画素を、あらかじめ設定されたパラメータに基づき、ｘ軸方向またはｙ軸方向に位置ずれさせて変形パターンを作成する。 - 特許庁

To provide a game machine for providing the expectation of shifting to a specified pattern extremely advantageous to a player in the case that pattern re-fluctuation is performed after tentatively stopping at a large winning pattern as a result of the fluctuation of a pattern due to a start winning signal.例文帳に追加

始動入賞信号に起因する、図柄の変動の結果、大当り図柄で一旦停止した後、図柄再変動が行われた場合、遊技者に極めて有利な特定の図柄へ移行するかもしれないという期待感を持たせた遊技機を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the evaporative pattern having a deep groove corresponding to the relieving groove is worked based on the evaporative pattern data (S4); a press pattern raw blank is molded by the full-mold method using the evaporative pattern (S5); and finally the press die raw blank is finished (S6).例文帳に追加

その後は、前記消失模型データに基づいて前記逃がし溝に対応する深溝を有する消失模型を加工し（Ｓ４）、該消失模型を用いてフルモールド法によりプレス型粗形材を鋳造し（Ｓ５）、最終的に前記プレス型粗形材を仕上加工する（Ｓ６）。 - 特許庁

The pattern film 2 is supplied in the lengthwise direction with a supply means, and during supplying the film a downstream end 75 or an upstream end 76 in the supplying direction of the pattern area formed on the pattern film is detected with a position detector detecting the pattern area.例文帳に追加

パターンフィルム２を長尺方向に供給手段によって供給し、この供給中、パターン領域を検出する位置検出装置によって、パターンフィルムに形成されているパターン領域の供給方向下流または上流の端部７５，７６を検出する。 - 特許庁