「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(287ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an automatic pattern extraction method and an automatic pattern extraction system which can automatically extract an enormous number of normal patterns to be used for performing abnormality diagnosis especially by collation processing with a normal pattern and can easily register the extracted normal patterns in a pattern library.例文帳に追加

特に正常パターンとの照合処理によって異常診断を行う際に用いる膨大な数の正常パターンを自動抽出して容易にパターンライブラリに登録することができるパターン自動抽出方法およびパターン自動抽出システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern with high sensitivity, excellent resolution of a trench pattern and good density distribution dependency, in order to stably form a high-precision fine pattern for producing a high-integration and high-precision electronic device.例文帳に追加

高集積且つ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、高感度、且つトレンチパターンの解像性に優れ、更には疎密依存性の良好なパターンを形成する為のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This measuring instrument acquires image data as to a first graphic pattern and a second graphic pattern concerned in a single measuring object, and extracts respectively the feature portion of the first graphic pattern and the feature portion of the second graphic pattern from the image data.例文帳に追加

この計測装置では、単一の計測対象にかかる第一図形パターンおよび第二図形パターンについて画像データがそれぞれ取得され、これらの画像データから第一図形パターンの特徴部分および第二パターンの特徴部分がそれぞれ抽出される。 - 特許庁

The surface pattern of the genuineness determination object is acquired newly when determining the authenticity of the authenticity determination object, and the similarity degree calculation part 48 calculates the similarity degree between the surface pattern therein and the reference pattern stored in the reference pattern storage part 46.例文帳に追加

真偽判定対象物の真偽を判定する場合には、あらためて真偽判定対象物の表面パターンを取得し、類似度算出部４８が、この表面パターンと基準パターン格納部４６に格納されている基準パターンとの類似度を算出する。 - 特許庁

This playing machine is provided with a slot machine comprising a pattern variation display device 20, a start switch 40, a stop switch 50 and a lot means 120, a direction pattern display device 30, and a direction decision means 130 for deciding whether or not a direction pattern is displayed on the direction pattern display device 30.例文帳に追加

図柄変動表示装置20と、スタートスイッチ40と、ストップスイッチ50と、抽選手段120とを備えたスロットマシン遊技機10に、演出図柄表示装置30と、演出図柄表示装置30に演出図柄を表示させるか否かを決定する演出決定手段130とを備える。 - 特許庁

A means for controlling a variable display mode of a pattern 405b for controlling the display mode of a pattern in a special pattern display device 350 controls the display mode of the pattern based on the ball entering information stored in a ball entering storage means of a starting hole 401c.例文帳に追加

特別図柄表示装置３５０における図柄の表示態様を制御する図柄変動表示態様制御手段４０５ｂは、始動口入球記憶手段４０１ｃに記憶された入球情報に基づき、前記図柄の表示態様を制御する。 - 特許庁

The apparatus for checking the drawing of the exposure pattern obtained from exposure pattern data formed by data conversion of the layout design data of a semiconductor device has a hierarchical structure information extraction section 102, an exposure pattern data hierarchy section 106 and an exposure pattern data display section 109.例文帳に追加

半導体装置のレイアウト設計データをデータ変換してなる露光パターンデータから得られる露光パターンの検図装置であり、階層構造情報抽出部１０２、露光パターンデータ階層化部１０６及び露光パターンデータ表示部１０９を備えている。 - 特許庁

The TEG pattern includes a plurality of element isolation film patterns 123 with a predetermined space between; an active region pattern 125 formed between these element isolation film patterns 123; and a metal 1 contact pattern 127 formed in the active region pattern 125.例文帳に追加

テグパターンは、所定の間隔を置いて複数で形成される素子分離膜パターン１２３と、該素子分離膜パターン１２３の間に形成されたアクティブ領域パターン１２５と、及びアクティブ領域パターン１２５内に形成されたメタル１コンタクトパターン１２７とを含む。 - 特許庁

The reproduced signal evaluation circuit 10 extracts path metric differences corresponding to a specific pattern and a reverse pattern detected by the first specific pattern detection circuit 8 and the first reverse pattern detection circuit 9 and evaluates the reproduced signal on the basis of the results.例文帳に追加

再生信号評価回路１０は、第１特定パターン検出回路８及び第１反転パターン検出回路９で検出された特定パターン及び反転パターンに対応するパスメトリック差を抽出し、その結果に基づいて再生信号の評価を行う。 - 特許庁

In a photomask having a plurality of ring gate patterns 122 having a vertical symmetric structure used in a semiconductor exposure step, a subsidiary pattern 124 is added in the hole of each ring gate pattern 122 on the photomask, the subsidiary pattern separated from the ring gate pattern by a designated distance.例文帳に追加

半導体露光工程に用いられる上下対称構造を有する複数個のリングゲートパターン１２２を備えるフォトマスクにおいて、フォトマスク上の各リングゲートパターン１２２の穴中に、該当のリングゲートパターンから一定距離離隔して補助パターン１２４を追加する。 - 特許庁

The line width W of a character pattern 20 is obtained by line width detecting processing of a line width detecting part 5 and a sub-pattern consisting of the directional components of the character is obtained by sub- pattern extracting processing of a sub-pattern extracting part 7 to be stored respectively in plural memories 8 to 11.例文帳に追加

文字パタン２０の線幅Ｗが線幅検出部５の線幅検出処理により求められ、文字の方向成分で構成されたサブパタンが、サブパタン抽出部７のサブパタン抽出処理で求められてそれぞれ複数のメモリ８〜１１に格納される。 - 特許庁

Next, an operation pattern of each of users is extracted from the obtained operation history information, and an incorrect operation pattern as the operation pattern due to user's incorrect operation is extracted from the extracted operation pattern and then the kinds of incorrect operation patterns are used to specify the cause of the incorrect operation.例文帳に追加

次に、取得した操作履歴情報から各ユーザの操作パターンを抽出し、抽出した操作パターンから各ユーザの誤操作による操作パターンである誤操作パターンを抽出し、その誤操作パターンの種類から誤操作の原因を特定する。 - 特許庁

A path pattern generating circuit 18 provides a pattern generated thereby to a path pattern insertion selector 17, which inserts the pattern to a prescribed position of a transmission frame of an input signal and supplies the resulting frame to the switch core circuit 12, and the comparator circuit 14 compares its output with an expected value generated by path setting of the switch.例文帳に追加

パスパターン生成回路18で生成したパターンをパスパターン挿入セレクタ17に提供して入力信号の伝送フレームの所定位置に挿入してスイッチコア回路12に供給し、その出力とスイッチのパス設定で生成した期待値とを比較する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color imaging device by which a pattern shape (three-dimensional shape) sis not collapsed by a film hardening treatment and a pattern width is not widened in the lateral direction even when the pattern of a color filter is a fine pattern of 3 μm×3 μm or less.例文帳に追加

カラーフィルタのパターンが３μｍ×３μｍ以下の微細なパターンであっても、硬膜処理によってパターン形状（立体形状）が崩れることのない、同時に横方向にパターン幅が拡がることのないカラー撮像素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the circuit device, the substrate, further, has a ground pattern on the wiring pattern and a lower layer of the concave portion, in the lower layer of the concave portion, and the ground pattern may be provided, at a location farther away from the top surface of the substrate than the lower layer of the wiring pattern.例文帳に追加

また、上記回路装置において、基板は、上記配線パターンおよび上記凹部の下層にグランドパターンを更に有し、上記グランドパターンは、上記凹部の下層において、上記配線パターンの下層より、上記基板の上面から遠い位置に設けられてもよい。 - 特許庁

This three-dimensional shape measuring system is a pattern-projecting device, using emission from a stroboscope of a camera as a light source, transmitting light through a pattern mask, and projecting a three-dimensional position detection pattern to an object, and the pattern-projecting device is mountable on the camera and dismountable therefrom.例文帳に追加

本発明の三次元形状計測システムは、カメラのストロボの発光を光源とし、パターンマスクを透過させて、被写体に三次元位置検出用パターンを被写体に投影するパターン投影装置であって、該パターン投影装置はカメラに対して着脱可能とした。 - 特許庁

In a synchronizing signal detection circuit device, when a wobble pattern of a synchronizing signal is inputted from a synchronous detection circuit 7 in a synchronizing signal detection circuit 8, a first sync pattern comparing section 14 compares the wobble pattern with a first sync pattern which is the same as a sync signal stored in a first storage part 11.例文帳に追加

【解決手段】 同期信号検出回路８では、同期検波回路７から同期信号のウォブルパターンが入力されると、第１同期パターン比較部１４が第１記憶部１１に記憶された同期信号と同じ第１同期パターンと比較をする。 - 特許庁

Exposure with a shifted position of a pattern for exposure is introduced in multiple exposure to form a level of dose for the pattern without affecting the accuracy of the position and to enable to conduct pattern size control in accordance with dose and the extent of pattern shift.例文帳に追加

多重露光において露光パターンの位置をシフトさせた露光を導入することにより位置精度に影響を与えること無くパターンの照射量水準を生成させパターン寸法制御を照射量とパターンシフト量によって制御可能となる。 - 特許庁

When another pattern other than user's own pattern is included in a pattern extracted from a taken image by the imaging device 30, the time of projecting his own pattern on the road surface and the time of not projecting it are alternately shown in a random duration to generate a code signal.例文帳に追加

撮像装置３０による撮像画像から抽出されるパターンに自パターン以外の他パターンが含まれる場合、自パターンが道路路面上に映し出される時期と映し出されない時期とをランダムな継続時間で交互に現し、コード信号を生成する。 - 特許庁

Furthermore, in a losing variation pattern kind determination table used for determining the variation pattern, irrespective of the storage number of total reservations, a common determination value is allocated to one portion of a variation pattern kind including a variation pattern accompanying the super ready-to-win state.例文帳に追加

また、変動パターンを決定する際に用いるはずれ用変動パターン種別判定テーブルは、スーパーリーチを伴う変動パターンを含む変動パターン種別の一部分に対しては、合算保留記憶数にかかわらず、共通の判定値が割り当てられている。 - 特許庁

Shielding in the thickness direction of a board is naturally attained by providing vertically an upper shield pattern 22 and a lower shield pattern 20 for a wiring 21, and shielding is further attained also in a surface direction by providing sidewalls 30, 40 connected from the upper shield pattern 22 to the lower shield pattern 20.例文帳に追加

配線２１の上下に上シールドパターン２２および下シールドパターン２０を設けて基板の厚み方向のシールドを図ることはもちろん，さらに，上シールドパターン２２から下シールドパターン２０につながるサイドウォール３０，４０を設けて面内方向にもシールドを図る。 - 特許庁

The resin duplication plate comprises a rugged pattern layer made of a resin and having a rugged pattern as a master for duplication on a base material, and a silica thin film and a fluorine-containing thin film layered in this order on the rugged pattern face of the pattern layer.例文帳に追加

基材上に樹脂製で且つ複製の親となる凹凸パターンが形成された表面を有する凹凸パターン層の凹凸パターン面に、シリカ薄膜及び含フッ素薄膜がこの順序で積層されていることを特徴とする樹脂製複製版である。 - 特許庁

To provide a scanning exposure apparatus using microlens arrays, even if an exposure pattern is deviated from a reference pattern, capable of preventing a displacement of an exposure pattern by detecting deviation during the exposure, and improving the accuracy of the exposure pattern in overlay exposure.例文帳に追加

露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。 - 特許庁

The CPU 27 uses a designated spiral servo pattern to perform positioning processing for positioning a head 22 in a target position to write a final pattern, and generation processing for generating sector address data contained in the final pattern based on the designated spiral servo pattern.例文帳に追加

ＣＰＵ２７は、指定のスパイラルサーボパターンを使用して、ヘッド２２をファイナルパターンを書き込むための目標位置に位置決めする位置決め処理と、指定のスパイラルサーボパターンに基づいて、ファイナルパターンに含まれるセクタアドレスデータを生成する生成処理とを実行する。 - 特許庁

The surface of a transparent substrate is provided with colored picture element patterns at least composed of a red picture element pattern, a green picture element pattern and a blue picture element pattern having respectively different retardation, and each colored picture element pattern is respectively provided with a phase difference control layer.例文帳に追加

透明基板上に、それぞれ異なるリタデーションを有する、少なくとも赤色画素パターン、緑色画素パターン、および青色画素パターンからなる着色画素パターンを設け、前記着色画素パターン毎にそれぞれ位相差制御層を設けることにより解決した。 - 特許庁

As a result, possibility of defects existing on the same positions in pattern regions on the different masks can be practically avoided, so that a mask pattern image which is deteriorated by defects is overlapped with a mask pattern image which has no defects, and restoration of the mask pattern image becomes possible.例文帳に追加

この結果、異なったマスク上のパターン領域の同一位置に欠陥がある可能性はほとんど回避されるため、欠陥によって劣化したマスクパターン像には、欠陥の無いマスクパターン像が重ね合わされることとなり、その修復が可能となる。 - 特許庁

A transmission document analyzing part 19 detects whether or not an encoded external character font pattern is included in the character code string of the inputted electronic document; and when an encoded font pattern is included, the font pattern is stored in a temporary font string part 20 as a temporary font pattern.例文帳に追加

送信文書解析部１９は、入力された電子文書の文字コード列中に符号化された外字のフォントパターンが含まれているかどうか検出し、含まれているときには、一時的なフォントパターンとして一時フォント記憶装置２０に記憶する。 - 特許庁

A pattern for defect inspection formed of the circuit pattern and a produced defect of a predetermined dimension is formed on the semiconductor wafer, the pattern for defect inspection is detected, prior to the defect inspection of the circuit pattern, and the inspection sensitivity is adjusted, based on the inspection result.例文帳に追加

半導体ウェーハ上に回路パターンとともに所定寸法の作り込み欠陥からなる欠陥検査用パターンを形成し、該回路パターンの欠陥検査に先立って該欠陥検査用パターンを検出し、その検出結果に基づいて検査感度の調整を行う。 - 特許庁

To provide a marking apparatus, capable of performing marking of high contrast between a first pattern and a second pattern in both bright and dark periods, and capable of performing brightness/darkness inverted marking between the first pattern and the second pattern in both the bright and dark periods, with a simple configuration.例文帳に追加

明時及び暗時の双方において第１パターンと第２パターンとの間でのコントラストの高い標示が可能で、明時と暗時とで第１パターンと第２パターンとの間の明暗関係の反転した標示が可能で、構成が簡単な標示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a game machine constituted so as to improve a performance effect when playing by using holding pattern which are other performance elements related to a pattern performance at a pattern display device provided with at least functions equivalent to the ones of an existing pattern display device.例文帳に追加

少なくとも既存の図柄表示装置と同等の機能を有する図柄表示装置での図柄演出に絡めて、他の演出要素である保留図柄を用いることにより、遊技する際の演出効果をより高めるように構成した遊技機を提供する。 - 特許庁

Concerning this phased array antenna system, a sum pattern and a difference pattern can be obtained while utilizing the fact that the bore site direction (direction of tracking axis) of the sum pattern is same as that of the difference pattern even when the number of phase shifters capable of adjusting the phase shift quantity is equal to the number of element antennas.例文帳に追加

和パターンと差パターンのボアサイト方向（トラッキング軸の方向）が同じであることを利用して、移相量を調整可能な移相器の数が素子アンテナの数と同じでも和パターンと差パターンを得ることができるフェーズドアレーアンテナシステムを構成する。 - 特許庁

When a sewing machine is stopped, and the needle traverse pattern is changed during the needle traverse pattern sewing, the sewing start position by the changed needle traverse pattern is controlled to the closer or farther sewing start position of the right and left sewing start position of the changed needle traverse pattern.例文帳に追加

針振りパターン縫製途中で、ミシンを停止して針振りパターンを変更した場合、変更後の針振りパターンによる縫製開始位置が、変更後の針振りパターンの左右の縫い始め位置のうち近い方、あるいは遠い方の縫い始め位置に制御される。 - 特許庁

A dummy pattern to be preliminarily included in the design pattern is produced not in the whole memory cell array which contains not only a memory cell part but a sense-up part and a decoder part, but in an individual block unit by using CAD tools so as to obtain a desired pattern form of the transfer pattern after exposure.例文帳に追加

露光後の転写パターンを所望のパターン形状にするために、ＣＡＤツールを用いて、メモリセル部のみならずセンスアンプ部やデコーダ部を含んだメモリセルアレイ部全体ではなく、個別ブロック単位に、予め設計パターンに入れておくダミーパターンを発生させる。 - 特許庁

The position with the highest correlative value is deemed the second positioning mark of the measuring pattern, and the mutual second position marks of the measuring pattern and the mask patterns are aligned, so that the mask pattern and the measuring pattern are aligned by each division region (step 109).例文帳に追加

最も相関値が高い位置を被測定パターンの第２の位置決めマークと見なし、被測定パターンとマスタパターンの互いの第２の位置決めマークの位置を合わせることにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを分割領域毎に行う（ステップ１０９）。 - 特許庁

An electron emitting part of the surface conduction type electron emitters is formed by a dot pattern of the solution, the element electrodes are constituted by a rectangular pattern or a combination of the rectangular patterns, and a corner part of the rectangular pattern is implanted to cover it with the dot pattern.例文帳に追加

表面伝導型電子放出素子の電子放出部が溶液のドットパターンによって形成され、素子電極が矩形パターンまたは矩形パターンの組み合わせによって構成されるとともに、矩形パターンのコーナー部をドットパターンによって被覆するように打ち込む。 - 特許庁

A specific pattern and a non-specific pattern are set as the big prize patterns, and when the displayed big prize pattern is the specific pattern, a high probability condition which is advantageous to the player is generated after completion of the big prize condition.例文帳に追加

また、「大当たり図柄」として予め「特定図柄」と「非特定図柄」とが設定されており、表示された「大当たり図柄」が「特定図柄」である場合には、「大当たり状態」終了後に、遊技者にとって有利な「高確率状態」が生起するようになっている。 - 特許庁

To provide a material for forming a reverse pattern that has good embedding property, has high etching selection ratio to organic material, and forms a fine reverse pattern in a sufficient shape, and to provide a pattern forming method using the material for forming the reverse pattern.例文帳に追加

埋め込み性が良好で、有機材料に対して高いエッチング選択比を有し、微細な反転パターンを良好な形状で形成できる反転パターン形成用材料、および該反転パターン形成用材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A pattern change means 40 changes a pattern displayed on a variable display means 20 over a prescribed time every random lottery, and then stops the pattern in the state where a pattern showing the lottery result of the random lottery performed this time is displayed therein.例文帳に追加

図柄変更手段４０は、無作為抽選が行われるごとに可変表示手段２０に表示される図柄を所定時間に渡って変更した後、今回行われた無作為抽選の抽選結果を表した図柄パターンを表示した状態で停止させる。 - 特許庁

A main display control means 118 fluctuatingly shows a first special pattern showing the result of the first lottery in the first special pattern display 70, and fluctuatingly shows a second special pattern showing the result of the second lottery in the second special pattern display 71.例文帳に追加

メイン表示制御手段１１８は、第１抽選の結果を示す第１特別図柄を第１特別図柄表示装置７０に変動表示させ、第２抽選の結果を示す第２特別図柄を第２特別図柄表示装置７１に変動表示させる。 - 特許庁

The method further comprises the steps of storing the imaging pattern suitably adhering the ACF4 to the board 2A in the second memory 74, and storing the difference between the imaging pattern of the memory 74 and the imaging pattern of the memory 73 as a reference pattern in a third memory 75 (second memory).例文帳に追加

次に、基板２ＡにＡＣＦ４が適正に貼付された撮像パターンを第２メモリ７４に記憶し、この第２メモリ７４の撮像パターンと、先の第１メモリ７３の撮像パターンとの差を基準パターンとして第３メモリ７５（第２のメモリ）に記憶する。 - 特許庁

When a product is cast while losing the pattern with poured molten metal by pouring the molten metal into a mold embedding the pattern into molding sand, as the pattern, the pattern having 500-500,000 pieces of penetrated holes per 1 m^3, is used to perform the casting.例文帳に追加

鋳物砂内に模型を埋設してなる鋳型に注湯し、注湯した該湯によって前記模型を消失させながら製品を鋳造する際に、前記模型として１ｍ^3あたり５００〜５００，０００本の貫通孔を有する模型を使用して、鋳造を行う。 - 特許庁

An image processing device includes a tint block image creation section 80 that has spatial frequency of a pattern forming a half-tone pattern in a chromatic color that becomes apparent in duplication lower than spatial frequency of a pattern forming a half-tone pattern in an achromatic color that becomes apparent in duplication.例文帳に追加

地紋画像生成部８０において、複写時に顕在化する有彩色の中間調パターンを構成するパターンの空間周波数を、複写時に顕在化する無彩色の中間調パターンを構成するパターンの空間周波数よりも低くした。 - 特許庁

A primary duplicate pattern having the same dimensional shape as the microstructure 11 is respectively formed by using the master pattern by Ni plating, and a secondary duplicate pattern 8 having a dimensional shape of reversing the microstructure 11 is formed by using the primary duplicate pattern.例文帳に追加

各々Ｎｉめっきにより、マスター型を使用して微細構造体１１と同一の寸法形状を有する１次複製型を形成し、１次複製型を使用して微細構造体１１が反転された寸法形状を有する２次複製型８を形成する。 - 特許庁

When a user performs, on an operation part 5, generation operation of a map coloring pattern which is coloring of each map element such as a road, a park, a river or a sea on the map, a registration part 13 generates the map coloring pattern corresponding to the operation, and adds the pattern to a map coloring pattern storage part 11.例文帳に追加

ユーザが操作部５で地図の道路、公園、河川、海等の地図要素毎の配色である地図配色パターンの作成操作をすると、登録部１３は操作に応じて地図配色パターンを作成し地図配色パターン記憶部１１に追加する。 - 特許庁

Further, a first insert 31 for the intermediate pattern and a first insert 41 for the movable pattern are exchanged to form a second cavity 56 and a second runner 58, so that the die 1 with a two piece type structure in which the movable pattern 4 is moved to the intermediate pattern 3 is formed.例文帳に追加

また，中間型用第１入子３１及び可動型用第１入子４１を交換して，第２キャビティ５６及び第２ランナー５８を形成し，中間型３に対して可動型４を移動させる２枚型構造のダイカスト用金型１を形成する。 - 特許庁