「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(286ページ目) - Weblio英語例文検索

This mask M used in the proximity exposure device PE includes a mask pattern provided with a main pattern part 81 having a line-like opening, and a transmissive line-like auxiliary pattern part 83 formed in a side of the main pattern part 81 and not resolved after development processing.例文帳に追加

近接露光装置ＰＥで使用されるマスクＭには、ライン状の開口を有する主パターン部８１と、該主パターン部８１の側方に形成され、現像処理後に解像されない透過性でライン状の補助パターン部８３とを備えるマスクパターンが形成されている。 - 特許庁

The simulation method includes step S2 of applying bias processing to a mask pattern to be simulated with reference to a reference table wherein relations between pattern sizes and pattern bias amounts are regulated and step S3 of obtaining an optical image of the mask pattern subjected to the bias processing.例文帳に追加

リソグラフィシミュレーションの対象となるマスクパターンに対して、パターン寸法とパターンバイアス量との関係が規定された参照テーブルを参照してバイアス処理を施す工程Ｓ２と、バイアス処理が施されたマスクパターンの光学像を求める工程Ｓ３とを備える。 - 特許庁

The portable information terminal apparatus extracts the features of a personal authentication pattern, encodes the feature-extracted personal authentication pattern, buries the encoded personal authentication pattern in data, and transmits the data in which the pattern is padded to an authentication device.例文帳に追加

携帯情報端末装置は、本人認証用のパターンを特徴抽出し、特徴抽出した本人認証用のパターンを符号化し、符号化された本人認証用のパターンをデータの中に埋め込み、そのパターンが埋め込まれたデータを認証装置に送信する。 - 特許庁

To precisely, easily and inexpensively form a pattern with large bumps, a pattern with fine bumps, a pattern with variously geometric and endless bumps, a pattern with irregular bumps, or a groovy part harmonized with a printing figure, on the surface of a roll by an ink-jet printing technology.例文帳に追加

インクジェットプリント技術により、ロール表面に、大柄な凹凸模様ないし微細で凹凸模様、あるいは様々な幾何学的なエンドレスな凹凸模様や不規則な凹凸模様や、印刷模様に一致させた凹条部を高精密に容易に安価に形成できること。 - 特許庁

In the case of discriminating that it is the chance spot, the main CPU 30a (pattern control means) performs the control of newly selecting a different pattern combination which is not the chance spot and deciding the newly selected pattern combination as the pattern combination to be finally stopped at.例文帳に追加

メインＣＰＵ３０ａ（図柄制御手段）は、チャンス目であると判定した場合に、チャンス目ではない別の図柄組み合わせを新たに選択し、その新たに選択された図柄組み合わせを、最終停止させるべき図柄組み合わせとして決定する制御を行う。 - 特許庁

By appropriately selecting the interval and thickness of a resist pattern, a fine pattern having a three-dimensional height or a fine pattern having a pattern width equal to or smaller than the resolution of exposure light can be formed in a single lithographic process.例文帳に追加

本発明の構成によれば、レジストパターンの間隔と、レジストパターンの厚みを適宜選択することにより、単一のリソグラフィ工程で、３次元的な高さを持った微細パターンや、露光光の解像限界以下のパターン幅を持った微細パターンを形成することが出来る。 - 特許庁

A processing area setting method in pattern matching sets a processing condition on the basis of the degree of overlapping between a pattern area and a mask area when the pattern area overlaps on a target area and the mask area in the process of moving the pattern area.例文帳に追加

パターンマッチングにおける処理領域設定方法は、パターン領域を移動させる段階でパターン領域が前記対象領域とマスク領域にまたがるとき、パターン領域とマスク領域との重なりの程度に基づいて処理条件を設定する。 - 特許庁

To provide a method for treating shape data of a pattern for casting with which the optimum partition to the pattern for casting (lost foam pattern) can be performed while restraining the generation of a machined remaining part as much as possible and the efficient work for manufacturing the pattern for casting can be obtained.例文帳に追加

鋳造用模型（消失模型）を、加工残り部の発生を極力抑制して最適な分割を行うことができ、鋳造用模型作製のための作業の効率化を図ることが可能な鋳造用模型の形状データ処理方法を提案する。 - 特許庁

The background pattern processing section 305 creates a background pattern on the basis of background pattern printing setting information in the intermediate data, and also stores individual intermediate creations and creation information created in the middle of the creation of the background pattern, and then reuses the stored intermediate creations.例文帳に追加

地紋処理部３０５は、中間データ内の地紋印刷設定情報をもとに地紋パターンを生成するとともに、この地紋パターンの生成途中に作成した各中間生成物および生成情報を記憶し、記憶した中間生成物を再利用する。 - 特許庁

More than one ticket is manufactured and has a 1st ground pattern and a 2nd ground pattern on one surface, and on each ticket, the 2nd ground pattern 14 is formed shifting in position relatively to the 1st ground pattern 12.例文帳に追加

複数枚、製造される券であって、券が一方の面に第１の地紋１２と第２の地紋１４とを有し、複数枚の券の各券ごとに、第２の地紋１４が前記第１の地紋１２に対して相対的に位置を変えて形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

An insulating film 3 having a conductor pattern 32 corresponding to a conductor pattern 92 of a connector 1 is fixed, and a plurality of pressing parts 42 pressing the conductor pattern 32 to a contact part 93a of the conductor pattern 92 are installed in an elastic member 4 to be installed in an insulator 2.例文帳に追加

プラグコネクタ１の導体パターン９２に対応する導体パターン３２を有する絶縁フィルム３が固定され、インシュレータ２に設けられる弾性部材４に、導体パターン３２を導体パターン９２の接触部９３ａに押圧する複数の押圧部４２を形成した。 - 特許庁

A pattern matrix generating method comprises the processes of preparing a reference pattern matrix composed of one type of reference block patterns; preparing a distributed type sequence matrix; and generating a pattern matrix by using the reference pattern matrix and the sequence matrix.例文帳に追加

パターンマトリクス生成方法は、１種類の基準ブロックパターンで構成される基準パターンマトリクスを準備する工程と、分散型の順序マトリクスを準備する工程と、基準パターンマトリクスと順序マトリクスとを用いてパターンマトリクスを生成する工程と、を備える。 - 特許庁

In the drawing method, data 1 are read as pattern layout data and data 2 are read as a drawing information in a step S_1 to produce a path figure, showing the profile of the boundary part and a pattern in the boundary part (shown as an original pattern hereinafter) upon producing the pattern data for drawing the boundary part.例文帳に追加

本方法では、境界部描画用のパターンデータを作成する際、ステップＳ_１ で、パターンレイアウトデータとしてデータ１を、描画情報としてデータ２を読み込み、境界部の輪郭及び境界部内のパターン（以下、元パターンと言う）を示すパス図形を生成する。 - 特許庁

A tip part 22A of a lead wire 22 for the thermoelectric module is bent, made to penetrate a through hole between the surface side lead pattern 16A and the back side lead pattern 16B from a surface side lead pattern 16A side, and bonded to the back side lead pattern 16B using solder 25.例文帳に追加

熱電モジュール用リード線22の先端部22Aを曲げ、熱電モジュール用表側リードパターン16A側から、熱電モジュール用表側リードパターン16Aと熱電モジュール用裏側リードパターン16Bとの間のスルーホールに通した後、熱電モジュール用裏側リードパターン16Bにハンダ25で接合する。 - 特許庁

The image of a 1st master pattern serving as a check standard is contracted to produce a 2nd master pattern that is used for detecting the deficiency or disconnection and then the 1st master pattern is expanded to produce a 3rd master pattern that is used for detecting a projection or short circuit (103).例文帳に追加

検査の基準となる第１のマスタパターンの画像を収縮処理して欠損又は断線検出用の第２のマスタパターンを作成し、第１のマスタパターンを膨張処理して突起又は短絡検出用の第３のマスタパターンを作成する（ステップ１０３）。 - 特許庁

The probability of the deterministic display of 'a big hit pattern' is higher in the case of displaying 'a ready-to-win pattern' as the second stage display, compared to the case of displaying 'the ready-to-win pattern' without the temporary display of the special pattern as the first stage display.例文帳に追加

また、第二段階表示として「リーチ図柄」が表示された場合の方が、第一段階表示として特別図柄が仮停止表示されることなく「リーチ図柄」が表示された場合に比べて、「大当たり図柄」が確定表示される確率が高くなっている。 - 特許庁

Also, a 'specific picture pattern' and a 'non-specific picture pattern' are previously set as 'jackpot picture patterns,' and when a displayed 'jackpot picture pattern' corresponds to the 'specific picture pattern,' a high probability state 'favorable to the player is brought about after the 'jackpot state' is finished.例文帳に追加

また、「大当たり図柄」として予め「特定図柄」と「非特定図柄」とが設定されており、表示された「大当たり図柄」が「特定図柄」である場合には、「大当たり状態」終了後に、遊技者にとって有利な「高確率状態」が生起するようになっている。 - 特許庁

The convergence controller is equipped with a pattern generator which generates a reference pattern, a photosensor which senses the change of the brightness of the reference pattern shifted on a screen, and a convergence control part which compensates the inclination of the reference pattern, based on the output result of the photosensor.例文帳に追加

コンバージェンス制御装置は、基準パターンを発生させるパターン発生部と、スクリーン上で移動される基準パターンの輝度変化を感知する光センサと、光センサの出力結果に基づき基準パターンの傾斜を補償するためのコンバージェンス制御部とを備える。 - 特許庁

Therefore, by judging the examination pattern where the maximum value of the amplitude difference is the smallest to be the best examination pattern, even if the density data is a gradually changing examination pattern, it can be judged as the best examination pattern, to be able to obtain the result of judgement close to a sense of the human being.例文帳に追加

このため、振幅差分最大値が最も小さい検査パターンを最良検査パターンと判定することで、濃度データが緩やかに変化する検査パターンであっても、最良検査パターンと判定でき、人間の感覚に近い判定結果を得ることができる。 - 特許庁

When constituting a mask 10 for exposure whereby a desired pattern is exposed and transcribed to an exposed substance, the desired pattern is divided into a plurality of after-division patterns A, B in response to differences between the inspection accuracies required by the pattern portions constituting the desired pattern.例文帳に追加

被露光体上に所望パターンを露光転写するための露光用マスク１０を構成するのにあたり、前記所望パターンを構成するパターン部分が要求する検査精度の違いに応じて当該所望パターンを複数の分割後パターンＡ，Ｂに分割する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a pattern especially a planar pattern can be efficiently formed from at least either two dimensional or three dimensional pattern in a short period of time by simple equipment, causing extremely small mechanical deterioration in a master.例文帳に追加

二次元及び三次元の少なくともいずれかのパターンからパターン、特に平面状パターンを複製することができ、マスターの機械的劣化が極めて小さく、簡便な設備により短時間で効率よく複製可能なパターンの形成方法及びパターンの提供。 - 特許庁

A normal account journalizing pattern is stored in a normal account journalizing pattern master 4 in association with each assets class and a account journalizing pattern according to a source of revenue is stored in an account journalizing pattern master 5 according to the source of revenue in association with each assets class and each assets number.例文帳に追加

また、通常会計仕訳パターンマスタ４に各資産クラスに対応付けて通常会計仕訳パターンを記憶し、財源別会計仕訳パターンマスタ５に各資産クラスおよび各財源番号に対応付けて財源別会計仕訳パターンを記憶する。 - 特許庁

In this case, it is desirable that when supplying more abrasive particles to the cleaning blade 92, the toner image pattern includes a grating pattern or a halftone dot pattern, and when supplying more lubricant particles to the cleaning blade 92, the toner image pattern includes a solid image.例文帳に追加

ここで、クリーニングブレード９２に研磨粒子を多く供給する場合には、トナー画像パターンを格子模様又は網点模様で構成し、クリーニングブレード９２に滑剤粒子を多く供給する場合には、トナー画像パターンをベタ画像で構成するのが好ましい。 - 特許庁

Copper foil and resist are laminated on a substrate, drawing is directly performed by using the width of the pattern line specified by pattern data for machining for exposure, the exposed resist is developed for forming a resist pattern, and the copper foil on the substrate is etched for forming a formation pattern.例文帳に追加

基板上に銅箔およびレジストを積層し、加工用パターンデータにより指定されたパターン線の線幅を用いて直接描画して露光し、露光されたレジストを現像してレジストパターンを形成して、基板上の銅箔をエッチングして形成パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a circuit pattern forming method capable of easily forming a circuit pattern on a transferring means for transferring the circuit pattern to the board based on a circuit to be formed on a board, and a circuit forming method of the board which uses the above circuit pattern forming method.例文帳に追加

基板に形成する回路に基づく回路パターンを基板に転写するための転写手段に回路パターンを容易に形成することができる回路パターン形成方法及びこの回路パターン形成方法を利用した基板の回路形成方法を提供すること。 - 特許庁

To simplify pattern data as well as to form a narrow pattern beyond the conventional resolving power and to form a fine pattern with enhanced resolution, in relation to a mask and a pattern forming method using the mask.例文帳に追加

本発明はマスク及びマスクを用いたパターン形成方法に関し、従来の解像力を越えて幅の狭いパターンを結像することができ、微細なパターンを解像度を向上させて形成することができると共に、パターンデータを簡略化可能とすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern formation device, a pattern formation method, and a mold for pattern formation, capable of measuring accurately a spatial positional relation between a surface including a working face formed with a transfer pattern of a mold, and a substrate of a worked member.例文帳に追加

モールドの転写パターンが形成された加工面を含む表面と、被加工部材である基板との間の空間的な位置関係を正確に計測することが可能となるパターン形成装置、パターン形成方法およびパターン形成用モールドを提供する。 - 特許庁

In a step S1, an exposure amount corresponding to the size difference between a sparse pattern and a dense pattern is determined by using first correlation between the exposure amount of pre-acquired exposure light with which an exposure device is irradiated and variations in size of the sparse pattern and dense pattern.例文帳に追加

ステップＳ１では、予め取得された、露光装置で照射する露光光の露光量と疎パターン及び密パターンの各寸法の変化との第１の相関関係を用いて、疎パターンと密パターンとの寸法差に対応した露光量を決定する。 - 特許庁

To provide a photomask which prevents the degradation in pattern accuracy during etching by a difference in aperture ratios from appearing at a chip pattern 11 by improving the unbalance of the aperture ratios between the peripheral region of the chip pattern 11 and the central part of the chip pattern 11 and a method for manufacturing the photomask.例文帳に追加

チップパターン１１の周辺領域とチップパターン１１の中央部との開口率の不均衡を改善し、開口率の違いによるエッチング時のパターン精度低下がチップパターン１１に現れることのないフォトマスク及びフォトマスク製造方法を提供する - 特許庁

The sub-control part 40 is provided with a performance pattern select means 41 for selecting one performance pattern from predetermined plural performance patterns and a performance executing means 46 for executing the selected performance pattern selected by the performance pattern select means 41.例文帳に追加

副制御部40は、あらかじめ定めた複数の演出パターンの中から１の演出パターンを選択するための演出パターン選択手段41と、この演出パターン選択手段41が選択した演出パターンを実行するための演出実行手段46とを備える。 - 特許庁

Path image data 14 is pattern-matched with reference pattern data to select a reference pattern with the highest degree of conformity, and the operation of a player character 6 is controlled based on a magic actuation operation input instruction associated with the selected reference pattern.例文帳に追加

そして、軌跡画像データ１４を、参照パターンデータとパターンマッチングして最も適合する参照パターンを選択し、この選択された参照パターンに対応づけられている魔法発動の操作入力命令に従ってプレーヤキャラクタ６の動作を制御する。 - 特許庁

In the pattern forming method in which the surface layer of a substrate 1 is patternwise etched using a resist pattern as a mask, the pattern forming region of the surface of the substrate 1 is divided into a dense first region 2a and a thin second region 2b in accordance with pattern forming density.例文帳に追加

基板１の表面層に対して、レジストパターンをマスクに用いたパターンエッチングを施すパターン形成方法において、基板１表面のパターン形成領域を、パターンの形成密度に応じて密な第１領域２ａと疎な第２領域２ｂとに分割する。 - 特許庁

The first antenna pattern 19 for constituting an antenna body part 21 includes: a tapered pattern 21a formed to be widened from a power feeding part 21e; and an upper pattern 21b formed to come into contact with an upward oblique side from the tapered pattern 21a.例文帳に追加

アンテナ本体部２１を構成する第１アンテナパターン１９は、給電部２１ｅから幅が広がるように形成されているテーパ状パターン２１ａと、該テーパ状パターン２１ａから上方へ斜辺に接するまで形成されている上部パターン２１ｂとを有している。 - 特許庁

To provide a photomask provided with a non-resolution pattern having a desired pattern shape by preventing a resist pattern for forming the non-resolution pattern from falling into a state which differs from a desired shape and being transferred to a metal film on the photomask, in this state.例文帳に追加

非解像パターンを形成するためのレジストパターンが所望の形状とは異なった状態となり、その状態でフォトマスク上の金属膜に転写されることを防止することで、所望のパターン形状の非解像パターンを備えたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern and a method of forming an electrode pattern for obtaining an electrode pattern with high quality and high reliability by forming, on a piezoelectric substrate, the resist pattern of an inversely tapered shape which has excellent exfoliation performance and does not cause resist falling.例文帳に追加

圧電基板に、レジスト倒れが発生することなく、逆テーパー形状で剥離性の良いレジストパターンを形成することで、高品質で信頼性の高い電極パターンを得るレジストパターンの形成方法および電極パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

An edge pattern of a white line 30 in a photographed image is detected (S12), and the detected edge pattern is verified with an ideal pattern (S28), and a line type of the white line 30 is settled on the basis of a prescribed frequency in coincidence between edge lines and the ideal pattern (S32).例文帳に追加

撮影画像における白線３０のエッジパターンを検出し（Ｓ１２）、検出されたエッジパターンを理想パターンと照合し（Ｓ２８）、それらのエッジ線が理想パターンと所定回数一致したことに基づいて白線３０の線種を確定する（Ｓ３２）。 - 特許庁

To form an alignment mark capable of improving superposition accuracy, and of reducing an exposure and superposition measurement processing time when a new pattern is formed by superposing a new pattern on a pattern formed by a double pattern to be exposed to light.例文帳に追加

ダブルパターンで形成されたパターンに新たなパターンを重ね合わせて露光して、新たなパターンを形成する際、重ね合わせ精度を向上させると共に、露光及び重ね合わせ計測処理時間を短縮することができるアライメントマークを形成できるようにする。 - 特許庁

Differences among predicted pattern data are detected by predicting a plurality of finish patterns in accordance with a plurality of different pattern forming process conditions and/or a plurality of verification layout pattern data and by performing figure operation on the predicted plurality of finished pattern data.例文帳に追加

複数の異なるパターン形成プロセス条件、及び／又は、複数の検証レイアウトパターンデータに対応して複数の仕上がりパターンを予測し、予測された複数の仕上がり予測パターンデータを図形演算することにより、予測パターンデータ間の相違箇所を検出する。 - 特許庁

An error rate detecting part 20 identifies the pattern of a signal level in the measured signal which is inputted via a tested device 50, compares identification pattern data indicating the identification result with a reference pattern held by a reference pattern generating part 10, and then calculates an error rate.例文帳に追加

誤り率検出部２０は、被試験デバイス５０を介して入力した被測定信号の信号レベルのパターンを識別し、その識別結果を示す識別パターンデータと基準パターン発生部１０が保持する基準パターンとを比較してエラーレートを算出する。 - 特許庁

To provide a communication pattern switching device of an electronic key system, which sets a communication pattern of a communication master as a pattern best suited to a communication state and copes with even when a standard on the Radio Law is an issue in pattern switching.例文帳に追加

通信マスタの通信パターンを通信状態に応じた最適なパターンに設定することができ、仮にパターン切り換えに際して電波法の規格が問題となる場合であっても、これに対応することができる電子キーシステムの通信パターン切換装置を提供する。 - 特許庁

In this automatic accompaniment device, automatic accompaniment pattern data in a prescribed meter including at least a main pattern Pm and a fill-in pattern Pf are prepared in a data storage part A, and the reproduction of the automatic accompaniment pattern data Pa can be controlled by the operation of a fill-in switch.例文帳に追加

この自動伴奏装置では、少なくともメインパターンＰｍ及びフィルインパターンＰｆを含む所定拍子の自動伴奏パターンデータがデータ記憶部Ａに用意されており、フィルインスイッチの操作により、自動伴奏パターンデータＰａの再生を制御することができる。 - 特許庁

The input device has a base material, an electrode pattern formed on a surface of the base material, and a wiring pattern electrically connected to the electrode pattern, and the wiring pattern is arranged within an edge portion area (non-input area) positioned outside an input area.例文帳に追加

基材と、前記基材の表面に形成された電極パターンと、前記電極パターンに電気的に接続された配線パターンとを有し、前記配線パターンは、入力領域の外側に位置する縁部領域（非入力領域）内に配置されている。 - 特許庁

The paper sheet processor generates an unregistered standard pattern on the basis of the detected feature area and evaluates the unregistered standard pattern on the basis of the generated unregistered standard pattern and the existing standard patterns stored in the standard pattern storing part.例文帳に追加

紙葉類処理装置は、検出した特徴領域に基づいて未登録標準パターンを生成し、生成した未登録標準パターンと標準パターン記憶部により記憶されている既存標準パターンとに基づいて未登録標準パターンを評価する。 - 特許庁

A first displacement amount arithmetic part obtains correspondence relation between the first image pattern and the second image pattern in a unit of the pixel pitch, and obtains the relative displacement amount (a_x, a_y) of a corresponding position in the second image pattern to a specific position of the first image pattern.例文帳に追加

第１変位量演算部は、第１画像パターンと第２画像パターンとの対応関係をピクセルピッチの単位で求め、第１画像パターンにおける特定位置に対する第２画像パターンにおける対応位置の相対変位量（ａ_ｘ，ａ_ｙ）を求める。 - 特許庁

Variation speed before starting the rendition of the variation display is adjusted so that the variation display of the variation pattern specified by a variation pattern specification command is finished by a stop figure pattern specified by a stop figure pattern specification command according to respective processes S273-S275.例文帳に追加

このＳ２７３〜Ｓ２７５の各処理により、変動パターン指定コマンドにより指定された変動パターンの変動表示が停止図柄指定コマンドにより指定された停止図柄で終了するように、変動表示の演出開始前の変動速度が調整される。 - 特許庁