「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(296ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a resist pattern having a good pattern shape with little occurrence of scum when a resist pattern is formed using light for exposure having a wavelength of ≤180 nm band.例文帳に追加

１８０ｎｍ帯以下の波長を持つ露光光を用いてレジストパターンを形成する場合に、スカムを殆ど発生させることなく、良好なパターン形状を有するレジストパターンが得られるようにする。 - 特許庁

The photomask has a glass substrate 15, an isolated line pattern 11c disposed on the substrate 15 and an auxiliary pattern 13 of a phase shifter formed near the isolated line pattern 11c.例文帳に追加

本発明に係るフォトマスクは、ガラス基板１５と、該基板１５の上に配置された孤立ラインパターン１１ｃと、該孤立ラインパターン１１ｃの近傍に形成された位相シフタの補助パターン１３と、を具備するものである。 - 特許庁

In this exposure method, multiple exposures of mask pattern images are made on a prescribed position on a wafer by using plural masks having the same mask pattern, and a desired circuit pattern is obtained.例文帳に追加

本発明の露光方法では、同一のマスクパターンを有する２枚以上複数枚のマスクを用いて、ウェハ上の所定の位置にマスクパターン像を多重露光し、所望の回路パターンを得ることを特徴とする。 - 特許庁

The layout of the test pattern is optimized such that the print medium may be consumed at the minimum when printing the test pattern or the maximal measurement precision may be obtained from the test pattern.例文帳に追加

テストパターンのレイアウトはテストパターンのプリントで可能な限り少ない量のプリント媒体しか消費しないように、あるいはテストパターンから得られる測定結果の精度を最大にするように最適化する。 - 特許庁

To provide a photomask pattern position correcting method which corrects an error of a position of a random mask pattern of a photomask which cannot be corrected conventionally, using a simple and effective method, and to provide a pattern position corrected photomask.例文帳に追加

従来不可能であったフォトマスクのランダムなマスクパターンの位置誤差を、簡便かつ有効な方法で補正するフォトマスクのパタン位置の補正方法およびパタン位置が補正されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

The semiconductor device which has the dummy pattern has a real dummy pattern W formed on the wiring layer to constitute circuit wiring and the dummy pattern D formed on the wiring layer to be used for the CMP method.例文帳に追加

本発明のダミーパターンを有する半導体装置は、配線層に形成され回路配線を構成する実パターンＷと、配線層に形成されＣＭＰ法に用いるダミーパターンＤとを備えている。 - 特許庁

Determining the necessity of checking the pattern on the photomask considering the demanded pattern property of the semiconductor integrated circuit device, it checks the pattern on the photomask for which the necessity is judged.例文帳に追加

半導体集積回路装置のパターンの要求特性を考慮してフォトマスク上のパターンの検査の必要性を判断し、検査が必要であると判断されたフォトマスク上のパターンに対して検査を行なう。 - 特許庁

To prevent the occurrence of defects on a substrate after a developing step in the formation of an ultrafine photoresist pattern at least partially having a pattern of ≤0.25 μm pattern width.例文帳に追加

少なくともその一部にパターン幅が０．２５μｍ以下のパターンを有する超微細なホトレジストパターンの形成において、現像処理工程後基板上に発生するディフェクトの発生を有効に防止する。 - 特許庁

In the semiconductor element wherein a channel region is formed perpendicular to an active pattern side wall and the method for forming it, the semiconductor element includes a first active pattern, a second active pattern and a gate.例文帳に追加

チャンネル領域がアクティブパターン側壁に垂直に形成される半導体素子及びこれを形成する方法において、前記半導体素子は、第１アクティブパターン、第２アクティブパターン、及びゲートを含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive silane coupling agent for forming a fine particle pattern, a dot array pattern and a hole array pattern having small defects in small amount of processes and a method for forming the patterns by using the photosensitive silane coupling agent.例文帳に追加

少ない工程数で低欠陥な微粒子パターン、ドットアレイパターン、ホールアレイパターンを形成するための感光性シランカップリング剤、及び該感光性シランカップリング剤を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A normal account journalizing pattern is fetched out of the normal account journalizing pattern master 6 by a normal account journalizing pattern extraction part 10 on the basis of the assets class within the assets master 6 of the designated assets.例文帳に追加

通常会計仕訳パターン抽出部１０により、指定された資産の資産マスタ６内の資産クラスを基に、通常会計仕訳パターンマスタ６から通常会計仕訳パターンを取り出す。 - 特許庁

The wiring pattern inspecting apparatus, optically inspecting a wiring pattern on a top layer of a workpiece 21, comprises a semiconductor package multilayer wiring board having the wiring pattern on a light-transmitting base film.例文帳に追加

本発明は、光透過性のベースフィルムに配線パターンを有する半導体パッケージ用多層配線基板からなるワーク２１の最上層配線パターンを光学的に検査する配線パターン検査装置である。 - 特許庁

To prevent the etching rate of a resist pattern having an adamantane skeleton from increasing locally in a fine pattern formation method which includes the treatment method of the resist pattern.例文帳に追加

本発明はレジストパターンの新規な処理方法を含む微細パターン形成方法に関し、アダマンタン骨格を有するレジストパターンのエッチングレートが局所的に大きくなるのを防止することを目的とする。 - 特許庁

A pressure is applied between the opposing electrodes 12 and the wiring pattern 22 to subject the materials of the electrodes 12 and the wiring pattern 22 to solid phase diffusion and to join the electrodes 12 and the wiring pattern 22.例文帳に追加

対向した電極１２及び配線パターン２２間に圧力を加え、電極１２及び配線パターン２２の材料を固相拡散させて、電極１２及び配線パターン２２を接合する。 - 特許庁

A control circuit 23 of a relay board 17 inputs the algorithmic pattern 41 from the driver board 16, and determines whether the algorithmic pattern 41 is coincident with a prescribed pattern set beforehand.例文帳に追加

中継ボード１７の制御回路２３は、ドライバボード１６からのアルゴリズミックパターン４１を入力し、そのアルゴリズミックパターン４１が、あらかじめ設定された所定パターンと一致するか否かを判定する。 - 特許庁

Further, a spacer pattern of arbitrary height can be formed (d, e) by controlling the selection ratio of the etching according to the difference in height between the exposed lens pattern and spacer pattern and the necessary height of the spacer.例文帳に追加

また露光されたレンズパターンとスペーサパターンの高さの差と必要なスペーサの高さに応じてエッチングの選択比をコントロールすることで任意の高さのスペーサパターンを形成することができる（ｄ，ｅ）。 - 特許庁

Based on the attribute information of a toner image, a toner image pattern control section 211 determines a method for detecting an amount of attached toner of a toner image, determines a toner image pattern according to the determination result, and forms the pattern.例文帳に追加

トナー像パターン制御部２１１は、トナー像の属性情報に基づいて、トナー像のトナー付着量の検出手法を判定し、その判定結果に応じてトナー像のパターンを決定して形成する。 - 特許庁

Leakage current is measured by relatively scanning laser light on the electrode pattern along an insulative region of the pattern, and applying electricity between electrodes on both sides of the insulative region of the electrode pattern.例文帳に追加

電極パターンの絶縁部に沿ってレーザ光を前記電極パターンに対して相対的にスキャンし、電極パターンの絶縁部両側の電極間に電気を印加して漏れ電流を測定する。 - 特許庁

A photo resist pattern formation process of forming the photo resist pattern by exposing the photo resist film 18 in a pattern form and further developing the photo resist film 18 is performed separately two or more times.例文帳に追加

そして、フォトレジスト膜１８をパターン形状に露光し、更に、フォトレジスト膜１８を現像することによりフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程を、２回以上に分けて行う。 - 特許庁

If the gradually increasing pattern can not be detected, a gradually decreasing pattern is complementally detected, and the R wave at the maximum peak is detected by relating the detected pattern to the R waves and T waves in the electrocardiogram.例文帳に追加

順次増大するパターンが検出できない場合、順次減少するパターンを補完的に検出し、これを心電図におけるＲ波とＴ波に対応させて最大ピークのＲ波を検出する。 - 特許庁

In succession, an extracted electrode pattern and the coordinates of the electrodes are obtained, and the extracted electrode pattern and a prescribed arrangement electrode pattern are superimposed, collated with each other, and positioned.例文帳に追加

続いて抽出された電極のパターン並びにその電極の座標が求められ、抽出された電極パターンと所定配列の電極パターンとが重ねて照合され、位置決めが行われる（Ｓ３）。 - 特許庁

Major karakami patterns were a geometrical pattern (geometric design) such as arabesque of 'karakami' and a tortoiseshell pattern in an early stage, and the technical decorative pattern of paintings such as the Korin School from recent times. 例文帳に追加

からかみの紋様は、当初「唐紙」の唐草や亀甲紋様などの幾何学紋様が主流で、近世にはいって光琳派などの絵画の技巧的な装飾文様が多用されるようになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The solid decorative object keeps convex lens-like prongs in a continuously distributed pattern projected on its front surface made of a transparent material layer including a curved surfaced part, and the continuously changed distributed pattern the pattern points represented on its back surface.例文帳に追加

湾曲面形状部を含む透明材料層の表面に連続分布パターンで凸レンズ状の突起を形成し、裏面には変位した連続分布パターンで模様点を表現した固形装飾体。 - 特許庁

A frame pattern insertion section 14 of a transmitter 1 periodically inserts a frame pattern to a frame signal, and an information insertion section 15 inserts additional data to a time slot other than that of the frame pattern of the frame signal.例文帳に追加

送信装置１のフレームパタン挿入部１４でフレーム信号にフレームパタンを周期的に挿入し、情報挿入部１５でフレーム信号のフレームパタン以外のタイムスロットに付加データを挿入する。 - 特許庁

To provide a design method for mask pattern in which an auxiliary pattern for improving a focal depth of an isolated pattern is arranged, with respect to a mask of performing exposure by using a light source having a direction dependence for resolution.例文帳に追加

解像特性に方向依存性を有する光源を用いて露光を行うマスクについて、孤立パターンの焦点深度を向上させる補助パターンを配置するマスクの設計方法を提供する。 - 特許庁

Next, the size of the gate width of the extracted gate pattern is measured and is sorted as the object for the pattern correction when the measured value is blow the prescribed size in a gate pattern sorting stage ST03.例文帳に追加

次に、ゲートパターン選別工程ＳＴ０３において、抽出されたゲートパターンのゲート幅の寸法を測定し、測定された値が所定寸法以下の場合にパターン補正の対象として選別する。 - 特許庁

An image correcting section 7 performs deviation correction upon the captured image in such a way that a position of the comparison pattern on the image matches a position of a reference pattern, on the image, read from a reference pattern storage section 5.例文帳に追加

画像補正部７は、比較パターンの画像上の位置が基準パターン記憶部５から読み出された基準パターンの画像上の位置と一致するように、撮像画像のずれ補正を行う。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR GENERATING CORRECTION TABLE, DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN FOR CORRECTION TABLE, DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN FOR FINE WORKING, AND METHOD FOR FORMING FINE WORKING PATTERN例文帳に追加

補正テーブルの作成装置及び作成方法、補正テーブル用マスクパターンの作成装置及び作成方法、微細加工用マスクパターンの作成装置及び作成方法、並びに微細加工パターンの形成方法 - 特許庁

Therefor, an insulating film is formed on the inductor pattern, and after the insulating film is removed to form a groove so that the inductor pattern may appear, the conductive pattern is conformaly formed on the groove and the insulating film.例文帳に追加

このため、インダクターパターン上に絶縁膜を形成し、インダクターパターンが現れるように絶縁膜を除去してグルーブを形成した後、グルーブと絶縁膜上にコンフォーマルに導電パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a permanent pattern such as a wiring pattern can be formed with high definition and good efficiency, and in which both high resolution and adhesion between a substrate and a photosensitive layer are highly satisfied.例文帳に追加

配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能であり、しかも、高い解像度と基体と感光層との密着性とを高度に両立したパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A pattern having a long outline compared with the included black picture element is removed as unnecessary pattern out of the residual sequence pattern, and a protruded portion generated in the character is eliminated at last to finish the extraction of the character.例文帳に追加

更に、残った連結パターンの内、含まれる黒画素に比べ輪郭が長いものをいらないパターンとして除去し、最後に、文字に付いた突起部分を削除して、文字の抽出を終わる。 - 特許庁

To provide a printed wiring board which can secure the adhesion strength between a heat radiation pattern and an insulation substrate even if via holes to be connected to the heat radiation pattern are formed in a high concentration in a heat radiation pattern formation region.例文帳に追加

放熱パターンに接続されるビアホールを、放熱パターン形成領域内に密に形成する場合においても、放熱パターンと絶縁基板との密着強度を確保できるプリント配線板の提供。 - 特許庁

These two layers of the photo resists are simultaneously exposed via a mask pattern for selective exposure, only the upper photo resist 7 is first developed and presence/absence of a pattern defective part of a development pattern 72 of the photo resist 7 is inspected.例文帳に追加

これら２層のフォトレジストを選択露光用マスクパターンを介して同時に露光し、まず、上側フォトレジスト７のみを現像し、その現像パターン７２のパターン欠陥部の有無を検査する。 - 特許庁

To provide an optical connecting part which has a simplified wiring pattern, in which the wiring pattern is not collapsed and which has excellent flexibility and an excellent connecting property, and a wiring method for forming the wiring pattern.例文帳に追加

単純化された配線パターンを有し、配線パターンの崩れがなく、可撓性が良好で接続性の良好な光学接続部品、およびその配線パターンを形成する配線方法を提供する。 - 特許庁

After the lapse of 1 ms from receiving the pattern stop command 33, all patterns are stopped and displayed, and determined, pattern variation now signals 51, 54 are turned off, and a pattern determination signal 52 is turned on for 100 ms.例文帳に追加

図柄停止コマンド３３の受信から１ｍｓ経過後に、全図柄が停止表示されて確定し図柄変動中信号５１，５４がオフされ、図柄確定信号５２が１００ｍｓオンされる。 - 特許庁

To provide an image formation device for balancing a design pattern effect with a recognition rate of a dot pattern with respect to code information-embedding data with a design pattern function; and an image processing method of an image formation device.例文帳に追加

地紋機能付きのコード情報埋め込みデータに対して地紋効果とドットパターンの認識率の両立を可能とする画像形成装置及び画像形成装置の画像処理方法を提供する。 - 特許庁

In this case, the print mask 2, having the size of the aperture pattern forming area wherein the aperture pattern is formed smaller than that of the print object area of the print pattern in the substrate, is used.例文帳に追加

ここで、印刷マスク２として、開口パターンが形成されている開口パターン形成領域のサイズが、基板における印刷パターンの印刷対象領域のサイズよりも小さいものを用いる。 - 特許庁

W=A×B×C wherein A: the content ratio of a green pigment in sum total pigment contained in the green pattern, B: the thickness (μm) of the green pattern, C: the content ratio of the pigment in the green pattern.例文帳に追加

Ｗ＝Ａ×Ｂ×Ｃ 但し Ａ：緑色パターンに含有される全顔料中の緑色顔料の含有割合 Ｂ：緑色パターンの厚み（μｍ） Ｃ：緑色パターン中の顔料の含有割合 - 特許庁

The inside parts of the profile lines 19, 21 become a pattern forming part 24 for forming a pattern, By the passage of the short fibers through the holes 17a, the article is flocked to form the pattern.例文帳に追加

輪郭線１９，２１の内側部分が前記柄を形成する柄形成部２４となり、短繊維が柄形成部２４の孔１７ａを通過することで被加飾品に植毛され柄が形成される。 - 特許庁

Moreover, by using multi-color pattern coating for a finish coating, a pattern coating excellent in designability having a shade feel and a depth feel which can not be obtained by a conventional multi-color pattern coating.例文帳に追加

さらに、上塗り塗膜に多彩模様塗料を用いると、従来の多彩模様塗膜では得られなかった陰影感があり、深み感のある非常に意匠性に富んだ模様塗膜とすることができる。 - 特許庁

A pattern display area deciding part decides the arrangement position and change size of the pattern display area according to the input change designation for the pattern display area and execution designation for reach (ready-to-win condition) presentation.例文帳に追加

図柄表示領域決定部は、入力される図柄表示領域の変更指示やリーチ演出の実行指示などに従って、図柄表示領域１１９の配置位置や変更サイズを決定する。 - 特許庁

A dialog having a button group for pattern selection is displayed on a display part 19, and an enciphering pattern is designated by the selecting operation of this button group and registered on an enciphering pattern definition table T3.例文帳に追加

パターン選択用のボタン群を有するダイアログを表示部１９に表示し、これらのボタン群の選択操作により暗号化パターンを指定させ、暗号化パターン定義テーブルＴ３に登録する。 - 特許庁

When they have matched the conditions, the vibrator processing part 151a takes out "operation pattern" from an operation pattern setting table 120b, and transmits a vibrator operation signal in which the "operation pattern" is set to a 3D glasses part 200.例文帳に追加

条件に一致したときバイブレータ処理部１５１ａは、動作パターン設定テーブル１２０ｂから「動作パターン」を取り出し、「動作パターン」が設定されたバイブレータ動作信号を３Ｄメガネ部２００に送信する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern in which thermal flow deformation by heating is given to a temporary resist pattern formed by a photoresist phenomenon to be able to be enlarged by closely resembling the temporary resist pattern.例文帳に追加

ホトレジスト現像により形成される仮レジストパターンに、加熱による熱フロー変形を与えて仮レジストパターンと近似的に拡大することができるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

An update unit 24f of the substrate processing apparatus updates the fault pattern storage table 23b of the large-capacity storage unit 23 based upon a fault pattern update table 21b transmitted from the fault pattern server.例文帳に追加

基板処理装置の更新部２４ｆは、故障パターンサーバから送信される故障パターン更新テーブル２１ｂに基づいて、大容量記憶部２３の故障パターン格納テーブル２３ｂを更新する。 - 特許庁