「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(800ページ目) - Weblio英語例文検索

In addition, the metallic tone sheet molded article 20 includes an uneven pattern transfer region R2 with an emboss 82 formed in the slide mold 80 which is visible as transferred, and a borderline of the uneven pattern transfer region R2 coincides with the transfer clearance line K2.例文帳に追加

また、金属調シート成形品２０は、スライド型８０に形成されたシボ８２が転写された凹凸パターン転写領域Ｒ２を備え、その凹凸パターン転写領域Ｒ２の境界線が転写隙間線Ｋ２に一致している。 - 特許庁

Next, the orientation direction of the nanowires is controlled so as to be along in a longitudinal direction of an anisotropic pattern of light 14 in an irradiation region while irradiating the anisotropic pattern light 14 obtained by making bichromatic flux 13 of a laser beam interfere with each other (B).例文帳に追加

次に、レーザーの二光束１３を干渉させて得られる異方性パターン光１４を照射し、照射領域内においてナノワイヤの配向方向を光１４の異方性パターンの長手方向に沿うように制御する（Ｂ）。 - 特許庁

An audio data comparison part 40 of the digital audio data output device 100 previously detects a bit pattern that the reception side possibly makes a wrong decision when the data are transmitted and an audio data correction part 50 converts the data into a bit pattern with which no wrong decision is made.例文帳に追加

デジタルオーディオデータ出力装置１００のオーディオデータ比較部４０は、受信側が誤判別を起こすようなビットパターンを送信時に予め検出し、オーディオデータ補正部５０は、誤判別を行なわないビットパターンに変換する。 - 特許庁

The mask for forming a pattern has a masking member having openings corresponding to the pattern to be formed on an object to be treated and sticking preventing members each arranged to cover at least one part of the surface except the openings of the masking member.例文帳に追加

被処理物上に形成すべきパターンに対応した開口を有するマスキング部材と、該マスキング部材の開口を除く表面の少なくとも一部を覆うように配置された防着部材とを有するパターン形成用マスク。 - 特許庁

Based on results of imaging in a specific plurality of measuring ranges being on a straight line, on an L/S pattern extracted from results P of imaging of a mark as a measuring pattern, a representative point of each measuring range is detected.例文帳に追加

計測用パターンとしてのマークの撮像結果Ｐから抽出された、Ｌ／Ｓパターン上において、直線上に並ぶ特定の複数の計測範囲内の撮像結果に基づいて、それぞれの計測範囲の代表点を検出する。 - 特許庁

In the laser deposition process, a film pattern 40 containing a functional liquid material is formed on a substrate 21 and irradiated with a laser beam, and a wiring pattern is formed with heat generated through photothermal transformation caused by absorbing laser light.例文帳に追加

レーザ成膜方法は、機能性液状材料を含む膜パターン４０を基板２１上に形成し、膜パターン４０にレーザ光を照射し、レーザ光の吸収による光熱変換で発生する熱で配線パターンを形成する。 - 特許庁

The organic EL layer 20 and the second electrode pattern 22, and the separator 18, are separated by the protective layer 24 by arranging the protective layer 24 between the organic EL layer 20 and the second electrode pattern 22, and the separator 18.例文帳に追加

有機ＥＬ層２０及び第２電極パターン２２と分離体１８との間に保護層２４が配置されることにより、有機ＥＬ層２０及び第２電極パターン２２と分離体１８とが保護層２４によって隔離されている。 - 特許庁

To provide a printed wiring board capable of preventing rise in a resistance value of a conductor pattern and disconnection due to repetitive contact of the conductive pattern to the portions of an electronic apparatus, and to provide a manufacturing method thereof and an electronic apparatus having the same.例文帳に追加

電子機器内の部分に対して繰り返し接触することによる導体パターンの抵抗値の上昇および断線が防止されたプリント配線基板、その製造方法およびそれを用いた電子機器を提供することである。 - 特許庁

Dry etching is performed to the P-type second clad layer 20 by using a first insulating pattern 22B as a mask, and the P-type second clad layer is patterned in a ridge form to which the first insulating pattern 22B is transferred.例文帳に追加

続いて、第１の絶縁性パターン２２Ｂをマスクとして、ｐ型第２クラッド層２０に対して、ドライエッチングを行なうことにより、ｐ型第２クラッド層を、第１の絶縁性パターン２２Ｂが転写されたリッジ形状にパターニングする。 - 特許庁

The average-width calculating part 47 calculates an average traverse width of a traverse guide 17 on the basis of a set traverse width set by the traverse-width setting part 45 and a creeping pattern set by the creeping pattern setting part 46.例文帳に追加

平均幅算出部４７は、トラバース幅設定部４５により設定された設定トラバース幅と、クリーピングパターン設定部４６により設定されたクリーピングパターンとに基づき、トラバースガイド１７の平均トラバース幅を算出する。 - 特許庁

An area division part 28 judges whether the quantity of displacement of the photographed pattern by the camera 3 to the projection pattern is at least a specific value or not and a re-coding part 29 assigns a new code in a region where the specific value is at least a specific value.例文帳に追加

投影パターンに対するカメラ３による撮影パターンの変化量が所定値以上かどうかを領域分割部２８で判断し、所定値以上の領域には再コード化部２９で新たなコードを割り付ける。 - 特許庁

In the assembling device for lost pattern, a hand for grasping the lost pattern peculiarly has the mechanism for sliding to the runner in the normal direction at the joined time with an absorbing mechanism.例文帳に追加

消失性模型の組立装置において、消失性模型を把持するハンドが、吸着機構と接着時点で湯道に対し、法線方向にスライドする機構とを有することを特徴とした消失性模型の組立装置用把持機構である。 - 特許庁

Further, in the claim 3 of this invention, the applicable undercut-shaped part in the rubber pattern 1 is made to form as the plurality of assembled constructed parts to be fittable/separable, and after separating the rubber pattern body from the mold, a separated part is taken out from the mold one by one.例文帳に追加

また請求項３の発明では、ゴム型１の該当アンダーカット形状部を脱着可能な複数の組立てパーツ構造としておき、ゴム型本体を脱型した後、分離パーツを一つずつ鋳型から抜き取る。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which does not produce scums during formation of a resist pattern and showing proper matching with a substrate, to provide a polymer compound which is to be used as a base material for the positive resist composition, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターン形成時においてスカムが発生せず、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

In an information recording device image, a frequency component of the content and a frequency component of an image pattern of a two-dimensional bar code are added, and an image content including the image pattern of the two-dimensional bar code is restored from the frequency component after addition.例文帳に追加

画像コンテンツの周波数成分と２次元バーコードの画像パターンの周波数成分とを加算し、加算後の周波数成分から２次元バーコードの画像パターンを含む画像コンテンツを復元するように構成した。 - 特許庁

The uneven pattern detection apparatus is provided with an optical plate 6, having one surface 6a including a part for measuring a body to be inspected 8 having a uneven pattern and the other surface 6b facing the one surface 6a.例文帳に追加

凹凸パターン検出装置は、凹凸パターンを有する被検体８を測定するための被検体測定部を含む一方の面６ａと、この一方の面６ａに対向する他方の面６ｂを有する光学プレート６を備える。 - 特許庁

The pattern drawing device 1 photographs at least a part of the alignment marks AM1 to AM4 by using alignment cameras 41 to 44 respectively, and calculates coordinates of an intersection of the cross pattern from a circular arc included in image data D1 to D4.例文帳に追加

パターン描画装置１は、アライメントカメラ４１〜４４によりそれぞれアライメントマークＡＭ１〜ＡＭ４の少なくとも一部を撮影し、画像データＤ１〜Ｄ４中に含まれる円弧から、十字パターンの交点の座標を算出する。 - 特許庁

To provide a half cured resin sheet with a pattern, a manufacturing method thereof with a short time for manufacturing and a good follow-up ability to a mold and also to provide moldings made by using the half cured resin sheet with the pattern.例文帳に追加

本発明は、製作時間が短く、型への追随性が良好である模様付半硬化樹脂シート、またその製造方法、更に、この模様付半硬化樹脂シートを用いた成形品を提供することを目的とする。 - 特許庁

RESIST PATTERN LINE WIDTH CALCULATING METHOD, MASK PATTERN LINE WIDTH CORRECTION METHOD, OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK FABRICATING METHOD, ELECTRON DRAWING METHOD FOR FABRICATING THE EXPOSURE MASK, EXPOSURE METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

レジストパターン・ライン幅の算出方法、マスクパターン・ライン幅の補正方法、光近接効果補正方法、露光用マスクの作製方法、露光用マスクを作製するための電子線描画方法、露光方法、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁

After a BB game is finished, a notification pattern notifying one of the patterns related to the prescribed election roles elected in an internal lottery is displayed stopping in a section reel, not on a first reel having the notification subject pattern.例文帳に追加

このスロットマシンは、ＢＢゲーム終了後、内部抽選で当選した所定の当選役に係る図柄のうちの１つを告知する告知図柄が、その告知対象の図柄をもつ第１リールではない、第２リールに停止表示される。 - 特許庁

A modulated magnetic flux is generated by applying a modulated signal to the modulation coil and the lock-in amplifier to detect the peak of the triangular pattern, and lock is performed to the peak of the triangular pattern by performing feedback to an input coil.例文帳に追加

変調信号を変調コイル及びロックインアンプに印加することにより変調磁束を発生させて、三角パターンのピーク検出を行ない、かつ、入力コイルにフィードバックすることにより、三角パターンのピークにロックする。 - 特許庁

To provide a printed circuit board manufacturing method that enables implementation of a fine circuit pattern and a high density circuit pattern, reduction of cost and time involved in the manufacturing process, and enhancement of reliability in insulation between patterns.例文帳に追加

微細回路パターン及び高密度回路パターンが実現でき、かつ、製造工程にかかる費用及び時間を減らすことができ、パターン間の絶縁信頼性を向上させることができる印刷回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radio communication terminal capable of accurately selecting an antenna or a directional pattern of which the reception characteristics are is high, even during packet reception in an infrastructure mode, and performing reception by switching to the selected antenna or the directional pattern.例文帳に追加

インフラストラクチャ・モードにおいて、パケット受信中でも受信特性が良いアンテナまたは指向性パターンを精度よく選択し、選択したアンテナまたは指向性パターンに切り替えて受信できる無線通信端末を提供すること。 - 特許庁

The exposure mask 1 having a light shielding layer 5 in which an aperture pattern 5a is formed has a filter layer 9 that transmits only light at a specified wavelength in a state of sealing the aperture pattern 5a formed in the light shielding layer 5.例文帳に追加

開口パターン５ａが形成された遮光層５を有する露光マスク１において、遮光層５に形成された開口パターン５ａを塞ぐ状態で特定波長の光のみを透過するフィルタ層９を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The respective conductive particles 4b between a counter electrode pattern E0 and the diaphragm 1 are brought into contact with the counter electrode pattern E0 and diaphragm 1, and an interval between the underside surface of the piezoelectric ceramic substrate and the diaphragm 1 is determined.例文帳に追加

対向電極パターンＥ0とダイアフラム１との間に位置する導電性粒子４ｂのそれぞれを対向電極パターンＥ0及びダイアフラム１と接触させて圧電セラミックス基板の裏面とダイアフラム１との間隔寸法を定める。 - 特許庁

OUTLINE INFORMATION EXTRACTION METHOD USING IMAGE PROCESSING, CREATION METHOD FOR PATTERN MODEL IN IMAGE PROCESSING, POSITIONING METHOD FOR PATTERN MODEL IN IMAGE PROCESSING, IMAGE PROCESSOR, IMAGE PROCESSING PROGRAM AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

画像処理を用いた輪郭情報抽出方法、画像処理におけるパターンモデルの作成方法、画像処理におけるパターンモデルの位置決め方法、画像処理装置、画像処理プログラム及びコンピュータで読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

An information processing apparatus 100 is provided with: a reading part 112 for reading pattern information which is formed of a conductive substance; and a performing part 114 for performing prescribed processing based on the pattern information read by the reading part.例文帳に追加

情報処理装置１００は、導電性を有する物質で形成されたパターン情報を読み取る読取部１１２と、読取部により読み取られたパターン情報に基づいて所定の処理を実行する実行部１１４と、を備える。 - 特許庁

To provide: a new photosensitive resin composition which is uncolored and can form a pattern having a high transmittance to visible light; a cured resin pattern formed using the same; and a display element.例文帳に追加

着色がなく、可視光に対する高い透過率を有するパターンを形成することができる新たな感光性樹脂組成物と、それを用いて形成された硬化樹脂パターン及び表示素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

Translucent regions 12 with a transmission within the range of 10-25 % are formed, adjacent to the region 11, from the inside of a virtual pattern edge having no defect to the outside of the pattern.例文帳に追加

また、遮光領域１１に隣接した領域であって、欠陥が場合の仮想パターンのエッジの内側の領域からそのエッジの外側の領域まで、透過率が１０〜２５％の範囲内の半透明領域１２が形成される。 - 特許庁

Transparent electrodes 12 and 17 are provided on a pair of glass substrates 11 and 18, respectively, and the transparent electrode 12 has a pattern of a prescribed shape and the transparent electrode 17 is the electrode which has no pattern and whose entire surface is uniform.例文帳に追加

一対のガラス基板１１，１８には、それぞれ透明電極１２，１７が設けられ、透明電極１２は、所定形状のパターンで形成されているが、透明電極１７は、パターンをもたない全面均一な電極である。 - 特許庁

This device acquires a price range pattern to be used for sales data management of the merchandise from a merchandise code undergoing sales registration by a registering part, and discriminates which price range of the price range pattern the price belongs to when sales registration is made.例文帳に追加

登録部で売上登録された商品のコードからその商品の売上データ管理に用いる価格帯パターンを取得し、売上登録された際の価格が当該価格帯パターンのどの価格帯に属するかを判別する。 - 特許庁

If a pattern corresponding to the second mask pattern changes in size owing to temporal variation in PPE in a device mass-production process, the intermediate film or resist film thickness is changed to a value at which the size change is reduced by reference to the database.例文帳に追加

デバイス量産工程においてＰＰＥの経時変化により第２マスクパターンに対応するパターンの寸法が変動した場合、データベースを参照し、中間膜又はレジストの膜厚を寸法変動が低減するような値に変更する。 - 特許庁

Accordingly, the capping layer of capping the second metal pattern and the common electrode are formed by using the first transparent conductive layer, so that a short between the second metal pattern and the common electrode adjacent to each other may be prevented.例文帳に追加

これによって、第２金属パターンをキャッピングするキャッピング層と共通電極を第１透明導電層で形成することにより、互いに隣接した第２金属パターンと共通電極間のショート不良を防止することができる。 - 特許庁

The piezoelectric element 2 is directly mounted on a wiring pattern 11 provided on a substrate 1 without any conductive member such as a conductive adhesive provided between the wiring pattern 11 and an exciting electrode 2a on the surface of the piezoelectric element 2.例文帳に追加

基板１上の配線パターン１１と圧電素子２表面の励振電極２ａとの間に導電性接着剤などの導電性部材を介在させることなく、圧電素子２を配線パターン１１上に直接実装する。 - 特許庁

Plasma processing is performed while maintaining the temperature of the wafer W at 100°C or lower, and a silicon nitride film 404 having film stress of 100 MPa or less is deposited on the resist pattern 402 and an antireflection film pattern 403 (Fig. 10(c)).例文帳に追加

ウェハＷの温度を１００℃以下に維持した状態でプラズマ処理を行い、レジストパターン４０２及び反射防止膜パターン４０３上に、１００ＭＰａ以下の膜ストレスを有するシリコン窒化膜４０４が成膜される（図１０（ｃ））。 - 特許庁

The present invention relates to paper on which an electronic watermark pattern Xm-1 is plotted visibly, wherein, information embedded in the electronic watermark pattern Xm-1 can not be read from copied paper formed by electronically copying the paper.例文帳に追加

目に見える形の電子透かしパターンＸｍ−１が描画された紙であって、その紙を電子複写して形成されたコピー紙からは電子透かしパターンＸｍ−１に埋め込まれている情報を読み取ることができなくなる。 - 特許庁

After a wiring pattern 32 is formed, an Al wiring pattern 32 and an oxide film 31 on a silicon board 30 are treated with resist peeling liquid consisting of organic solvent, water and fluorine compound before the formation of O3-TEOS-NSG film 33.例文帳に追加

配線パターン３２の形成後、Ｏ_3 −ＴＥＯＳ−ＮＳＧ膜３３の形成前に、有機溶剤、水およびフッ素系化合物で成るレジスト剥離液でシリコン基板３０上のＡｌ配線パターン３２及び酸化膜３１を処理する。 - 特許庁

The electron beam plotting method plots a desired pattern on a test piece with an electron beam, wherein the plotting is performed by moving the test piece so as to plot the desired pattern relative to the electron beam.例文帳に追加

電子ビームによって試料に所望のパターンを描画する電子ビーム描画方法であって、前記試料を前記電子ビームに対して前記所望のパターンを描くように動かすことにより、前記描画を行なうことを特徴とする。 - 特許庁

In the patterns 51, a conductive layer 5, formed in the entire wall surface of the opening 73, is formed by etching non-formed portions of the side patterns, with the side pattern formation portions covered with a side pattern resist film.例文帳に追加

側面パターン５１は、搭載用開口部７３の壁面全体に形成した導体層５を、側面パターン用レジスト膜により側面パターン形成部分を被覆した状態で側面パターン非形成部分をエッチングして形成したものである。 - 特許庁

A peculiar pattern of the top plate occurs by the shielding of the X ray by the top plate, however, the peculiar patterns regarding the equalized X-ray detecting signals are equalized as well, and the influence by the peculiar pattern can be reduced.例文帳に追加

天板によるＸ線の遮蔽によって天板の固有パターンが発生するが、平均化されたＸ線検出信号に関する固有パーンも平均されて、その固有パターンによる影響を低減させることができる。 - 特許庁

The octupole winding pattern for winding an optical fiber coil includes at least two layers of an eight layer winding pattern having an end part optical fiber coil diameter formed in the direction opposite to the portion corresponding to the remainder of each layer.例文帳に追加

光ファイバーコイルを巻くための八重極巻線パターンは、それぞれの層の残りの部分の相当な部分とは逆の方向に形成される端部光ファイバーコイル直径を有する８層巻線パターンの少なくとも２つの層を含む。 - 特許庁

To provide a forming method of a wiring pattern capable of forming a fine wiring pattern without using resist like a dry film, and a semiconductor device in which a semiconductor element is mounted on a wiring board formed by the above method.例文帳に追加

ドライフィルム等のレジストを用いず、微細な配線パターンを形成することができる配線パターンの形成方法、及びその方法を用いて作製された配線基板に半導体素子が搭載された半導体装置を提供すること。 - 特許庁

In the case that the clusters become non-continuous as the result of the editing, the recording signal processing part 14 records the editing pattern identification information identifying an editing pattern and a succeeding cluster address specifying a succeeding cluster as the cluster management information.例文帳に追加

編集の結果、クラスタが不連続となる場合、記録信号処理部１４は、クラスタ管理情報として、編集パターンを識別する編集パターン識別情報と、後続するクラスタを特定する後続クラスタアドレスを記録する。 - 特許庁

To provide a machining method of a silicon wafer for forming a break pattern efficiently on the periphery of each substrate with high precision, and separating each substrate along the break pattern, and to provide a manufacturing process of a liquid ejection head.例文帳に追加

各基板の周囲にブレイクパターンを効率的且つ高精度に形成することができ、このブレイクパターンに沿って各基板を良好に分離することができるシリコンウェハの加工方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

The light-propagating layer 2 is formed by forming a reflection film mask pattern 3A which reflects a laser beam on the surface of a glass 1 and irradiating the inner part of the glass 1 with femtosecond laser beams 7 through the reflection film mask pattern 3A.例文帳に追加

ガラス１の表面にレーザビームを反射する反射膜マスクパターン３Ａを形成することにより、ガラス１の内部に反射膜マスクパターン３Ａを介してフェムト秒レーザビーム７を照射して光伝搬層２を形成する。 - 特許庁