「process example」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

A machine control means performing means causes the respective systems to simultaneously perform control of the processes in parallel in accordance with a stored selection state (a machining process function is selected for a first system, a milling process function for a second system and a loader function for a third system, for example).例文帳に追加

機械制御手段実行手段は記憶された選択状態（例えば、第１系統は旋削加工機能、第２系統はミリング加工機能、第３系統はローダ機能を選択）に応じて、各系統に加工等の制御を同時並行的に実行させる。 - 特許庁

After a connector connected to a microwave transmitter/receiver via a coaxial cable is removed from a probe in a removing process 11, a connector connected to a high-output microwave transmitter at a frequency band around 2.25 GHz, for example, is installed to the probe in an installation process 12.例文帳に追加

マイクロ波発／受信器に同軸ケーブルを介して接続されたコネクタを、プローブから取り外す工程１１で取り外した後、プローブには、例えば、2.25GHz近辺の周波数帯で高出力のマイクロ波発信器に接続されたコネクタを取り付け工程１２で取り付ける。 - 特許庁

For example, the use of the local environmental cell 10 permits welding and formation of a low oxide bond coat during the welding process, thereby eliminating the need for placing the substrate subsequent to a welding process in a separate spray cell to deposit the bond coating.例文帳に追加

例えば、この局所環境保護セル１０を使用することにより、溶融プロセス中に溶融と低酸化物ボンディングコートの形成とが可能になり、そのため、溶融プロセスの後にボンディングコートを設置するために基材を別個のスプレーセルに配置する必要がなくなる。 - 特許庁

The noise processing means is carried out by components mainly comprising a central control section 17, a video processing section 30, and a liquid crystal module 40, and for example, an NR processing section 32 executes the first noise reduction process and the liquid crystal module 40 executes the second noise reduction process.例文帳に追加

ノイズ処理手段は、中央制御部１７，映像処理部３０，液晶モジュール４０を中心とする構成要素が該当し、例えば第一のノイズ低減処理をＮＲ処理部３２で、第二のノイズ低減処理を液晶モジュール４０で実行する。 - 特許庁

When the cold trap is arranged, for example, between a turbo molecular pump part arranged on a suction opening side and a thread groove pump part arranged on a discharge opening side, a precipitate of process gas deposits on the cold trap, so that precipitation of process gas can be suppressed in the thread groove pump part.例文帳に追加

例えば、吸気口側配設されたターボ分子ポンプ部と、排気口側配設されたねじ溝ポンプ部の間に冷却トラップを設けた場合、プロセスガスの析出物が冷却トラップに堆積されるため、ねじ溝ポンプ部でのプロセスガスの析出を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a multilayer coating film deposition method including a substrate rust prevention process capable of exhibiting rust preventing property, adhesion and coating film appearance equal to or above those in a conventional chemical conversion treatment process, and suitable for electrodeposition coating excellent in economic efficiency and environmental conservation by eliminating the conventional complicated and expensive rust preventing chemical conversion treatment process (for example, zinc phosphate treatment process).例文帳に追加

従来の煩雑かつ高コストの防錆化成処理工程（例えば、リン酸亜鉛処理工程など）を省略し、なおかつ、その代替として、従来の化成処理工程と同等もしくはそれ以上の優れた防錆性、密着性ならびに優れた塗膜外観を発現させることができ、さらに、経済性および環境保全性に優れた、電着塗装に適した下地防錆工程を含む複層塗膜形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a control method and control device for an image forming apparatus, which exert process control under process conditions that have high image quality evaluation taking into account of not only stability of density and gradation but also prevention of image quality deterioration in the setting of process conditions for density control, specifically, for example, under conditions that ensures satisfactory dot reproducibility and graininess.例文帳に追加

濃度制御時のプロセス条件設定において、濃度及び階調の安定だけでなく画質劣化抑制を考慮し、画質評価の高いプロセス条件とし、より具体的には、例えば、ドット再現性あるいは、粒状性のよい条件でプロセス制御を行う画像形成装置の制御方法及び制御装置を提供する。 - 特許庁

A temperature variation amount-calculating part 33 sets the time process data at the time point which is at least one point before, for example, as a reference temperature for calculating a difference relative to the reference temperature for each time process data, as a prescribed processing for calculating a time variation amount of temperature, with the time process data outputted from the time direction data-processing part 32.例文帳に追加

温度変化量算出部３３は、時間方向データ処理部３２から出力される時間処理データに対して、温度の時間変化量を算出する所定の処理として、例えば１ポイント以前の時間のポイントでの時間処理データを基準温度に設定し、基準温度に対する差を各時間処理データ毎に算出する。 - 特許庁

At this time, when a restart button 20 is specified and clicked by the mouse pointer 12 in the input window 13, for example in a case that a "B process" is specified by the mouse pointer 12, a "B process 2" surrounded by a rectangular flowchart symbol is added and inserted immediately after the "B process", and is displayed again in the flowchart 11 displayed on the display 3.例文帳に追加

このとき、その入力ウインドウ１３において、やり直しボタン２０をマウス・ポインタ１２で指定してクリックすると、ディスプレイ３に表示されたフローチャート１１について、例えば、「Ｂ工程」をマウス・ポインタ１２で指定していた場合には、「Ｂ工程」の直後に、長方形のフローチャート記号で囲まれた「Ｂ工程２」が追加挿入された状態に表示し直される。 - 特許庁

To obtain a crystalline bismuth-based glass composition which can deposit an enough amount of crystals after being softened and fluidized well in a sealing process, in addition, can not be again fluidized in a heating process after crystal deposition, for example in a vacuum exhaust process, and can suppress unreasonable rising of a coefficient of thermal expansion before and after crystallization.例文帳に追加

封着工程で良好に軟化流動した後に十分な量の結晶が析出することに加えて、結晶析出後の加熱工程、例えば真空排気工程で再流動することがなく、しかも結晶化前後の熱膨張係数の不当な上昇を抑制することができる結晶性ビスマス系ガラス組成物を得ること。 - 特許庁

Interfaces are provided in the example of this invention, i.e., a command user interface for exchanging information with a control process being performed on a network host and a device detection system user interface for exchanging information with the control process and at least one remote command process being performed on at least one network host.例文帳に追加

本発明の一実施例によれば、ネットワークホスト上で実行されている制御プロセスと情報をやりとりするコマンドユーザインターフェースと、コマンドユーザインターフェースに関連し、制御プロセスおよび少なくとも１つのネットワークホスト上で実行されている少なくとも１つのリモートコマンドプロセスと情報をやりとりする、デバイス検出システム用ユーザインターフェースが提供される。 - 特許庁

The example method also includes associating at least one data property associated with the process control environment with the primary key, and storing an instance of the at least one data property in a history database associated with the process control environment.例文帳に追加

また、該例示的な方法には、プロセス制御環境に関連付けられている少なくとも一つのデータ性状を一次キーに関連付けることと、そして少なくとも一つのデータ性状のインスタンスを、プロセス制御環境に関連付けられている履歴データベースに格納することも含まれる。 - 特許庁

The method comprises a process that contacts an exposed copper surface with a gaseous compound comprising a noble metal, and a process that selectively forms a noble metal layer on the exposed copper surface by a copper substitution reaction or a noble metal selective depositing (for example, ALD or CVD).例文帳に追加

当該方法は、露出した銅表面を貴金属から成る気相化合物と接触させる工程と、銅置換反応または貴金属の選択的蒸着（例えば、ALDまたはCVD）により、露出した銅表面上に貴金属の層を選択的に形成する工程から成る。 - 特許庁

A disclosed example method includes: identifying, using a processor, an execution path through a batch configuration of a process control system; generating a test plan for the execution path; stimulating the process control system to execute the test plan; and recording a result of the test plan.例文帳に追加

開示される例示的方法は、プロセッサを使用して、プロセス制御システムのバッチ構成を通して、実行経路を識別することと、実行経路のための試験計画を生成することと、試験計画を実行するようにプロセス制御システムを促進することと、試験計画の結果を記録することと、を含む。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for a lift-off process which facilitates resist stripping by ozone water without using an organic solvent and facilitates formation of a wiring pattern with high processability and reliability by a lift-off process, for example, on a semiconductor substrate or a liquid crystal substrate.例文帳に追加

有機溶媒を使用することなくオゾン水によりレジスト剥離を容易に行うことができ、例えば半導体用基板や液晶用基板上に、リフトオフ法により加工性および信頼性の高い配線パターンを形成することを可能とするリフトオフ用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

When executing an afterward timer instruction, for example in a first scan, a timer present value is not added with a time until a changeover process from final equalization before generation of a changeover factor though an elapsed time from the changeover process is added to the timer present value, so that it becomes an error time.例文帳に追加

その後の例えば１スキャン目のタイマ命令実行の際、タイマ現在値には、切替え処理からの経過時間が加算されることになるが、切替え要因が発生する前の最終等値化から切替え処理までの時間が加算されないことになり、これが誤差時間となる。 - 特許庁

Note: In the “Business process flowchart (sample)” shown before in Exhibit 2, a column is provided on the right side to allow users to draw their own system flowchart. It is useful, for example, to describe the details of the application controls in the notes to the column, or in the “Business process description (sample)” prepared separately. 例文帳に追加

（注）前述の参考２（業務の流れ図（例））においては、右列にシステムに関する流れの欄を設けており、例えば、これに対する注記の中で、あるいは業務記述書（例）を別途、作成する場合にはその中で、業務処理統制の内容について記述することが考えられる。 - 金融庁

A display management control part 10a creates the icon (a shortcut icon) for instructing execution of the process to the data file by the application when the process to the data file by the application is completed, and displays on, for example, a standby screen of a liquid crystal display part 16.例文帳に追加

表示管理制御部１０ａは、アプリケーションによるデータファイルに対する処理が終了した際に、データファイルに対するアプリケーションによる処理の実行を指示するためのアイコン（ショートカットアイコン）を作成して液晶表示部１６の例えば待ち受け画面中に表示する。 - 特許庁

A means for displaying the transition of process capability indexes Cp and Cpk summarized by a one week unit or the like, for example, and the transition of the number of raised SPC alarms, such as those raised at deviation from a control limit (Ucl deviation) as a single graph is arranged, and the process is controlled by using the graph.例文帳に追加

例えば１週間単位などで纏めた工程能力指数ＣｐおよびＣｐｋの推移と、コントロールリミット外れ（Ｕｃｌ外れ）などといったＳＰＣアラームの発生数の推移とを一つのグラフとして表示する手段を設け、このグラフを用いて工程管理を行う。 - 特許庁

The total carbonate amount of the water glass for a welding material can be reduced, for example, by a process for adding Ca(OH)2 to a water glass solution to provide a raw material and a process for removing carbonate ion fixed by Ca(OH)2 from the water glass solution to provide the raw material.例文帳に追加

この溶接材料用水ガラス中の全炭酸量は、例えば、原料となる水ガラス溶液にＣａ（ＯＨ）_2を添加する工程と、Ｃａ（ＯＨ）_2により固定された炭酸イオンを前記原料となる水ガラス溶液中から除去する工程により低減することができる。 - 特許庁

A thin film 1 containing vanadium dioxide and consisting mainly of vanadium oxide is formed, directly or through a tin oxide film 2, on a glass plate 7 by a thermal decomposition process (for example, CVD method) and a nitride film 4 is formed as a reflection preventing film, on the thin film 1 by the thermal decomposition process.例文帳に追加

ガラス板７上に直接または酸化錫膜２を介して、二酸化バナジウムを含み、酸化バナジウムを主成分とする薄膜１を熱分解法（例えばＣＶＤ法）により形成し、この薄膜１の上に、反射防止膜として、窒化膜４を熱分解法により形成する。 - 特許庁

For example, a thermoplastic resin having the fine pattern on its surface is manufactured by a method including a process for forming the fine pattern of the mold to the thermoplastic resin by bringing the mold into contact with the thermoplastic resin under heating and pressure and a process for separating the mold from the thermoplastic resin.例文帳に追加

たとえば、該モールドを熱可塑性樹脂に熱圧着させて該モールドの微細パターンを該熱可塑性樹脂に形成する工程および該モールドを該熱可塑性樹脂から離脱させる工程を具備する方法で製造された表面に微細パターンを有する熱可塑性樹脂。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL device in which alkaline metal, alkaline earth metal, as well as halide (LiF, for example) and oxide of rare earth metal are formed by a liquid phase process, while they have actual results by a vapor process, and provide the electronic equipment equipped with the organic EL device obtained hereby.例文帳に追加

気相プロセスで実績のあるアルカリ金属やアルカリ土類金属、希土類金属のハロゲン化物（例えばＬｉＦ）や酸化物を、液相プロセスで形成するようにした有機ＥＬ装置の製造方法、及びこれによって得られる有機ＥＬ装置を備えた電子機器を提供する。 - 特許庁

When operation stop of an engine is instructed, the engine is stopped at a position far from the first compression process when starting the engine next time, for example, at a target stop position θt set at the top dead center of a piston in a compression process just before stopping (S106-S112).例文帳に追加

エンジンの運転停止指示がなされたときに、エンジンを、次にエンジンを始動する際の最初の圧縮行程から遠い位置、例えば直前の圧縮行程におけるピストンの上死点として設定されている目標停止位置θｔで停止させる（Ｓ１０６〜Ｓ１１２）。 - 特許庁

Inventions of manufacturing device for pharmaceuticals and inventions of manufacturing process for pharmaceuticals considered to be a method of using such manufacturing process (for example, where the end of the claims of the inventions each contains the manufacturing device for tablets and the manufacturing method for tablets and the rest are the same) shall be deemed to be identical. 例文帳に追加

医薬品の製造装置に関する発明及びその製造工程の利用方法とされる医薬品の製造方法の発明（例えばそれぞれの請求項の末尾に錠剤の製造装置と錠剤の製造方法等が含まれ、残りが同一の場合）は同一と見なされる。 - 特許庁

For example, when switching operation of a first cylinder to the two cycle self-ignition operation system, a scavenging process of the first cylinder shown by mark C is overlapped on a suction process by the four cycle spark ignition operation system of a second cylinder shown by mark B.例文帳に追加

例えば、図５に示した例において、第１気筒の運転を２サイクル自着火運転方式へと切り替える際、符合Ｃにより示す第１気筒の掃気行程が符合Ｂにより示す第２気筒の４サイクル火花点火運転方式による吸気行程と重複する。 - 特許庁

The example removable security module also includes a processing unit disposed in the body, coupled to the memory and configured to read information from the process control device, compare the information to the shared secret and authenticate the process control device based on the comparison.例文帳に追加

また、例示的な取り外し可能セキュリティモジュールには、本体の中に配置され且つメモリに連結されており、プロセス制御装置から情報を読み出してその情報を共有秘密キーと比較してからその比較に基づいてプロセス制御装置を認証するように構成された処理ユニットも含まれている。 - 特許庁

The process temperature of a process of growing a silicon epitaxial layer by a CVD method on the silicon crystal substrate doped with, for example, phosphorus and germanium together during the growth of silicon crystal is set within a range of 1,000 to 1,090°C (preferably, 1,050 to 1,080°C).例文帳に追加

シリコン結晶育成時に例えばリンとゲルマニウムが一緒に高濃度ドープされたシリコン結晶基板上に、シリコンエピタキシャル層をＣＶＤ法で成長させるプロセスにおいて、そのプロセス温度を１０００〜１０９０℃の範囲内（より望ましくは、１０５０〜１０８０℃）の範囲内にする。 - 特許庁

To provide a process and a device for manufacturing an integrated circuit element on a substrate (for example, a silicon wafer), which enable an FSG layer to be flattened by a CMP processing process, and besides keep the stability of this FSG layer in the subsequent processing.例文帳に追加

本発明は、ＦＳＧ層がＣＭＰ処理工程によって平滑化されることを可能にし、且つ後続の処理工程の時になお、これらＦＳＧ層の安定性を維持する、基板（例えばシリコンウェハ）上に集積回路素子を製造するためのプロセスと装置とを提供する。 - 特許庁

To pre-grasp a master plan, for example, of a process and a construction period, which continue into the future in an area requiring measures against unidentified water, and approximate costs which are required for the process and the construction period; and to take the measures against the unidentified water in a planned and efficient manner, without being affected by complaints of inhabitants and the like.例文帳に追加

不明水対策を必要とする地域に対して将来にわたる工程，工期及びこれに要する概算費用等を全体計画として予め把握することを可能ならしめ、不明水対策を住民の苦情等に捉われることなく、計画的かつ効率的に対応させる。 - 特許庁

For example, the clothing manufacturing process can be subdivided into spinning, dyeing, and sewing. By concentrating multiple enterprises involved in each part of the manufacturing process, the manufacturing knowledge that has accumulated over time in the area provides, along with the securing of raw materials, a strength that is distinct from that of any other community.例文帳に追加

例えば衣料品においては紡績、染色、縫製などに工程が細分化されているが、各工程に携わる複数の企業が集積することにより、歴史的に地域内で蓄積されてきた製造ノウハウは、原材料・素材の確保と合わせて他地域にはない強みとなり得る。 - 経済産業省

The parts center 13 predicts the demands of the vehicle parts based on the totalization information and the life information for each received account information, and, for example, adjusts the inventory state according to an ordering process or the like.例文帳に追加

部品センタ１３は受信した各口座情報毎の集計情報及び寿命情報に基づき、車両部品の需要を予測し、例えば発注処理等によって在庫状態を調整する。 - 特許庁

In response, a process associated with the identified packet source and packet destination combination is migrated, for example, to another node of the network, to reduce the traffic on the heavily used link.例文帳に追加

これに応答して、識別されたパケット送信元およびパケット送信先の組合せに関連するプロセスを、例えばネットワークの別のノードに移行して、該使用頻度の高いリンク上のトラフィックを軽減する。 - 特許庁

In this process, a wide range of fishes, for example, bonito, tuna, mackerel and shells, conventionally difficult to produce smoked products of good quality, can be readily smoked to raw ham-like smoke-cured products in no need of a large scale of smoking facility.例文帳に追加

今まで製造が困難であったカツオやマグロ、サバ、貝類など幅広い魚介類において、燻煙設備などの大掛かりな施設・設備を使わずに生ハム様の燻製を生産できる。 - 特許庁

For example, in an integrated satellite navigation system/wireless network, at least three distance measurement values are applied with the WRR process to determine the position of a mobile communication device.例文帳に追加

例えば、統合された衛星系ナビゲーションシステム／無線ネットワークにおいて、少なくとも３つの距離測定値に対しＷＲＲ処理を適用することにより、移動通信装置の位置を決定することができる。 - 特許庁

For example, after a contact hole 25a for forming the CB is formed between gate electrode parts 17, 17 by lithography process and etching, a second interlayer film 35 is removed by pullback.例文帳に追加

たとえば、リソグラフィ工程およびドライエッチングにより、ゲート電極部１７，１７の相互間に、ＣＢを形成するためのコンタクト孔２５ａを開孔した後、さらに第２の層間膜３５をプルバックにより除去する。 - 特許庁

At this time, by using a plurality (for example, two) of heating coils 722a and 722b, thermal fusion type adhesive is stably melted, and thereby, energy saving in a manufacturing process is attained.例文帳に追加

このとき、複数（例えば２個）の加熱コイル７２２ａ，７２２ｂを用いることで、熱溶融型の接着剤を安定して溶融させることができるので、製造工程の省エネルギー化を図ることができる。 - 特許庁

The measuring instrument carries out a differentiation process (S101) for a detected waveform of a pulse wave (S103), and computes 20% for example of the maximum amplitude of a differential curve as a threshold value (S105).例文帳に追加

測定装置では、検出された脈波波形（Ｓ１０１）について微分処理が施されて（Ｓ１０３）、微分曲線の最大振幅のたとえば２０％がしきい値として算出される（Ｓ１０５）。 - 特許庁

The method for manufacturing an electroceramic component (1), for example a varistor (1), includes a process of having surface regions (5, 6) of an electroceramic body (2) irradiated with laser, before application of metallization sections (3, 4) onto the surface regions (5, 6).例文帳に追加

電気セラミック部品（１）、例えばバリスタ（１）のための製造方法が、表面部分（５；６）にメタライズ部（３；４）を塗布する前の電気セラミック体（２）の表面部分（５；６）のレーザ照射を有することによる。 - 特許庁

To provide a bundling band to improve workability and realize cost reduction, for example, by assembling a tube member along a wire harness without tightening process thereof.例文帳に追加

本発明は、結束バンドに関し、例えば、チューブ部材を締め付けることなく、ワイヤーハーネスに沿う状態で組み付けることができようにして、作業性の向上と共にコスト低減を図ることを目的とする。 - 特許庁

The worker 104 fixes the cart 103 upward of a first bonding process apparatus 201 and bonds the bonding components to each other, for example, by sliding a fixture acting portion 209 upward.例文帳に追加

作業員１０４は、台車１０３を第１の接着工程用装置２０１の上方で固定し、固定治具作用部２０９を上方へスライド移動させる等して接着部品同士を接着する。 - 特許庁

To develop a hose having resistance against deformation (in detail, hose to bring fluid (for example, fuel)) in case of making bendings without giving large labour and time to a manufacturing process.例文帳に追加

製造プロセスに大きい労働または時間を付与することなく、曲げを作製する場合に、変形に対して抵抗性のホース（詳細には、流体（例えば、燃料）を運ぶためのホース）を開発すること。 - 特許庁

The molding of multiple times (for example 2-3 shots) is performed to one time of the metering/plasticization process, and, where deemed necessary, corrections, such as an injection speed change-over position, a dwelling change-over position and an amount of the suck back, are performed.例文帳に追加

１回の計量可塑化工程に対して複数回（例えば２〜３ショット）成形を行うと共に、必要に応じて射出速度切換位置や保圧切換位置、またはサックバック量等の補正を行う。 - 特許庁

After that, for example, by a development process with chemical, or by carrying out heating, the radical initiator layer 31 and the area which is not polymerized in the red light-emitting material layer 14R are removed.例文帳に追加

そののち、例えば薬剤による現像処理、または加熱を行うことにより、ラジカル開始剤層３１と、赤色発光材料層１４Ｒのうち高分子化していない領域とを除去する。 - 特許庁

One example includes obtaining a surface with reduced roughness by creating process parameters that reduce impurities at an interfacial boundary between the first and second semiconductor crystalline materials.例文帳に追加

一実施例は、第１および第２の半導体結晶材料間の界面境界の不純物を減少させるプロセスパラメータを作成することによって、粗さが低減された表面を得ることを含む。 - 特許庁