| 意味 | 例文 |
process structureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4062件
A process for forming the dual damascene structure and the capacitor includes forming of a stack having an insulating layer and a stopping layer (steps 10-25).例文帳に追加
二重ダマシーン構造およびコンデンサを形成するためのプロセスは、絶縁層および停止層を有するスタックを形成することを含む(ステップ10〜25)。 - 特許庁
To enhance technique by providing a manufacturing method of a solar cell including a new manufacturing process and a solar cell consisting of a new structure.例文帳に追加
新たな製造工程を含む太陽電池の製造方法、ならびに新たな構造から成る太陽電池を提供して技術の豊富化を図ること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a cogged belt made at least simple even if a post-treatment process is not made perfectly unnecessary, and to design the structure of the cogged belt.例文帳に追加
後の処理工程が、完全に不要とはされないとしても、少なくとも簡単になるように、歯付きベルトの製造および構造を設計する。 - 特許庁
A more complex structure can be formed by grouping together a plurality of fiber segments and performing an additional drawing and slicing process.例文帳に追加
複数のファイバ・セグメントを共にグループ化し、かつさらなる線引きおよびスライス工程を行うことによって、より複雑な構造体を形成することができる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a material having homogeneous composition and structure from a homogeneous solid material by a simple solidification process.例文帳に追加
固体材料から均質な固体材料から簡単な凝固プロセスで均質な組成及び組織を有する材料を製造する方法を提供する。 - 特許庁
To improve the yield of wiring by preventing faulty connection, while increasing the EM resistance and SM resistance during the formation of a multilayer wiring structure by damascene process.例文帳に追加
ダマシン法で多層配線構造を形成する際に、EM耐性およびSM耐性を高めつつ、接続不良を防いで配線の歩留まりを向上させる。 - 特許庁
To provide a solid state imaging device having an element structure capable of securing high reliability without causing the deterioration of pixel characteristics caused by wiring process.例文帳に追加
配線工程に起因する画素特性劣化を引き起すことがなく、高い信頼性を確保することができる素子構造を有する固体撮像素子を得ること。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of an electrode, which permits to form an electrode through self-alignment process with respect to the detailed structure of a carbon nanotube, a quantum dot or the like.例文帳に追加
カーボンナノチューブや量子ドット等の微細な構造に対して自己整合的に電極を形成することを可能とする電極製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a block copolymer thin film having a microphase separation structure of one axis horizontal orientation in a simple process even in a big area.例文帳に追加
一軸水平配向ミクロ相分離構造を有するブロック共重合体薄膜を、簡単なプロセスで、大面積でも製造できる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a vertical structure III nitride light emitting element having improved external photon efficiency and operational voltage characteristics, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
改善された外部光子効率と動作電圧特性を有する垂直構造3族窒化物発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a concrete aggregate production process which enables inhibition of alkali-silica reaction and thereby prevention of deterioration of a concrete structure over a long period.例文帳に追加
アルカリシリカ反応の発生を抑制して、長期に亙ってコンクリート構造物の劣化を防ぐことが可能なコンクリート骨材の製造方法を提供する。 - 特許庁
A conductor plug is formed after high temperature heat treatment in oxidizing atmosphere of the ferroelectric film, and the multilayer wiring structure is formed by a plating process.例文帳に追加
導体プラグの形成を強誘電体膜の酸化雰囲気中での高温熱処理の後に行い、多層配線構造を、めっき工程により行う。 - 特許庁
The stabilizing process is carried out by heating the organic electronic material in which the plurality of structure isomers exist in inert atmosphere (such as argon gas atmosphere).例文帳に追加
安定化処理は、複数の構造異性体が存在する有機電子材料を不活性雰囲気(例えば、アルゴンガス雰囲気)で加熱することにより行われる。 - 特許庁
To provide a manufacturing process of a blue phosphor powder (CMS: Eu blue phosphor powder) having a diopside crystal structure having high luminescence intensity.例文帳に追加
発光強度の高いディオプサイド結晶構造を有する青色蛍光体粉末(CMS:Eu青色蛍光体粉末)の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the last process, semiconductor devices 32 constituted into one packaging structure are obtained, by dicing the wafer along the boundary line between the semiconductor elements.例文帳に追加
最後の工程で、上記半導体素子の境界線に沿って、上記ウェハをダイシングすることによってパッケージ化された半導体装置32を得る。 - 特許庁
To provide a technique allowing easy hydrogen concentration control in a production process by inexpensive simple structure without using any special hydrogen concentration sensor or the like.例文帳に追加
特殊な水素濃度センサ等を用いずに、安価で簡易な構成により、生産工程における水素濃度管理を容易に可能とする技術を提供する。 - 特許庁
The resist pattern is formed by using the liquid for a liquid immersion exposure process containing a phosphor compound having a specific molecular structure at a wavelength range of 200 nm or smaller.例文帳に追加
200nm以下の波長範囲において、特定の分子構造を有するリン化合物を含有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する。 - 特許庁
To provide a method for producing a fluorine-containing allyl ether having a desired structure by a short process by using an inexpensive compound as a raw material.例文帳に追加
本発明は、安価に入手可能な化合物を原料として、所望の構造を有する含フッ素アリルエーテルを短工程で製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a laser welding method for making rolled stocks in which a low temperature transformed structure is produced after laser welding usable in continuous hot rolling process.例文帳に追加
レーザー溶接後に低温変態組織が発生する圧延材を、連続製造工程で使用可能とするためのレーザー溶接方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method still also includes a third process (step S140) of heating and pressing a laminate structure including the electrolyte membrane, the low-molecular-weight electrolyte layer and the above electrode.例文帳に追加
また、電解質膜と低分子量電解質層と前記電極とを含む積層構造を、加熱プレスする第3の工程(ステップS140)を備える。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which is thermally stable in after process and which is suitable for manufacturing a gate insulation film having a multilayer structure wherein various oxides of a high permittivity are laminated.例文帳に追加
後プロセスで熱的に安定で、また、各種高誘電率酸化物との積層構造ゲート絶縁膜作製に適した半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which a transistor of trench gate structure and Schottky barrier diode can be mounted mixedly, inexpensively, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
トレンチゲート構造のトランジスタと、ショットキーバリアダイオードとを、低コストで混載させることのできる半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
The radiation-sensitive resin composition for use in a lithography process includes (A) a polymer, containing a structure represented by Formulae (1) and (B) a solvent.例文帳に追加
リソグラフィープロセスにおいて用いられる感放射線性樹脂組成物であって、(A)下記式(1)で表される構造を含む重合体と、(B)溶剤とを含む。 - 特許庁
To provide a production method for an exhaust gas purification catalyst by which catalytic components are efficiently carried on a honeycomb structure in an operation process in lessened number of times.例文帳に追加
少ない操作回数で触媒成分をハニカム構造体に効率よく担持させることができる、排ガス浄化触媒の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The amorphous thin film 12 has resistance to a process performed at a temperature equal to or more than 300°C when the microcrystal thin film 13 having the cubic structure is formed.例文帳に追加
前記非晶質薄膜12は、立方晶構造を有する微結晶薄膜13を形成する際の300℃以上のプロセスに耐性を有する。 - 特許庁
That is, in the process of the p-type semiconductor layer activation, the other parts in the semiconductor structure can be prevented from being affected more than necessary.例文帳に追加
言い換えると、本発明の方法はp型半導体層活性化の過程で、半導体構造のその他の部分に不必要な影響を与えない。 - 特許庁
To structure a nonvolatile semiconductor storage element prepared in a non volatile semiconductor storage device by using a transistor manufactured by a standard CMOS process.例文帳に追加
不揮発性半導体記憶装置が備える不揮発性半導体記憶素子を標準的なCMOSプロセスで製造するトランジスタを用いて構成する。 - 特許庁
In the process of change of industrial structure, opportunities for regular employment decreases mainly in the manufacturing and construction industries, etc., but non-regular employment increases in the service industry, etc.例文帳に追加
産業構造の変化の過程で、製造業や建設業等を中心に正規雇用の機会が減少するとともに、サービス業等で非正規雇用が増加。 - 厚生労働省
To provide an installation structure of a wall surface panel separating panel installation work different in a construction kind from fixing work to the wall face of fitting hardware from a process to increase execution efficiency.例文帳に追加
工種の異なるパネル建込み作業と取付金具の壁面への固定作業とを工程的に分離し、施工効率の向上を図る。 - 特許庁
To provide a structure of a semiconductor device in which capacity of a capacitor is increased while an easy working process is employed, and a method for manufacturing it.例文帳に追加
容易な加工工程を採用可能としながら、キャパシタ容量の増大を可能とする半導体装置の構造およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To properly determine phases of a permanent magnet and a rotor and economically efficiently manufacture them by a simple process and structure.例文帳に追加
簡単な工程および構成で、永久磁石とロータとの位相決めを良好に行うとともに、経済的かつ効率的に製造することを可能にする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor memory device with a two-terminal structure, improving an ON/OFF ratio and manufacturable by a low temperature process.例文帳に追加
ON/OFF比の向上を図り、さらに低温プロセスでの製造を可能にした2端子構造の半導体メモリ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The APD 10 has a structure compatible with the CMOS process well, operates on a low voltage of 50V or below and can be integrated with a CMOSFET easily.例文帳に追加
APD10は、CMOSプロセスとよく適合する構造を備え、50V以下の低電圧で動作し、CMOSFETとの一体化が容易である。 - 特許庁
To provide a structure capable of preventing the displacement of a pulsar ring in a process of vulcanizably molding the rubber lip of a seal ring having the pulsar ring of magnetized rubber incorporated therein.例文帳に追加
着磁ゴム製のパルサリングが組み込まれたシールリングについて、それのゴム製のリップを加硫成型する過程においてパルサリングの位置ずれを防ぐ構造の提供。 - 特許庁
To provide an electroforming mold for manufacturing a multi-step structure minute component and a method for manufacturing the same, for which height control is possible and manufacturing process does not become complicated.例文帳に追加
高さ制御が可能で製造工程が煩雑にならない、多段構造微細部品を製造するための電鋳型およびその製造方法の提供。 - 特許庁
A structure shown in Figure (d) is obtained by carrying out a process of forming a concave part 6c on a main face side of an n-type silicon board as a conductive board.例文帳に追加
導電性基板であるn形シリコン基板1の主表面側に凹部6cを形成する加工工程を行うことで図1(d)に示す構造を得る。 - 特許庁
To provide a shaft dropout preventing structure with reduced number of parts, simplified assembly process, and requiring no special jig in assembly.例文帳に追加
シャフトの抜け防止構造の部品点数を少なく、組み立て工程を簡略化し、かつ、組み立ての際にも特別な治具も必要としないようにする。 - 特許庁
By repeating the process, in which a polymerizable composition is injected and polymerized to form a layer, the plastic optical material 10 with an n-layered structure is formed.例文帳に追加
このように重合性組成物を注入し重合させて層を形成する工程を繰り返し行い、n層構造の光学材料10を形成する。 - 特許庁
To provide an electric connector of such a structure as capable of easily performing a bending process for the tail part of each terminal and making equal the electric length of a plurality of terminals.例文帳に追加
ターミナルのテール部の曲げ加工が容易にでき、しかも複数のターミナルの電気長を等しくできる構造の電気コネクタを提供すること。 - 特許庁
To provide a joining structure of a metal tube with a joint member capable of obtaining sufficient joining strength and improving the workability of a joining process.例文帳に追加
充分な接合強度が得られ、しかも接合工程の作業性を向上させることが可能な、金属管と継手部材との接合構造を提供すること。 - 特許庁
To form a semiconductor device having a superjunction structure by a simple process, and to properly secure a breakdown voltage, even for the outer-peripheral section of an element section.例文帳に追加
簡略なプロセスでスーパージャンクション構造の半導体装置を形成するとともに、素子部の周辺部においても良好に耐圧を確保できるようにする。 - 特許庁
To provide a capital and beam joint structure of a square steel pipe column capable of relatively easily reinforcing a beam joint part of a steel pipe column in the manufacturing process and reducing its cost.例文帳に追加
製作上、比較的容易に鋼管柱の梁接合部を補強できて、コスト低減が図れる角形鋼管柱の柱頭部梁接合構造とする。 - 特許庁
To provide a structure where an insulating film for spacer formed to a side wall of contact hole is not in contact with a silicon substrate in view of reducing the number of steps of RIE process.例文帳に追加
コンタクトホール側壁に形成するスペーサ用絶縁膜がシリコン基板と接触しない構成とし、且つRIE加工工数を低減する。 - 特許庁
The chill structure generated on the surface part of the formed product B is decomposed by applying heat treatment to the formed product B (second process S2).例文帳に追加
次いで、この成形品Bの表層部に生成したチル組織を、該成形品Bに対して熱処理を施すことによって分解する(第2工程S2)。 - 特許庁
To provide a rotary switch capable of improving workability in a manufacturing process and being simplified in structure by reducing a wire amount of an electric wire.例文帳に追加
製造工程での作業性の向上を図るとともに電線の省線化を図り簡潔な構造とすることができるロータリースイッチを提供する。 - 特許庁
To solve problems that gas is generated due to electric erosion reaction by developer and peeling of film is generated at a contact part in an organic insulation film patterning process for forming relief structure of a reflection film in an array process of a liquid crystal display.例文帳に追加
液晶表示装置のアレー工程において、反射膜の凹凸形状を形成するための有機絶縁膜パターニング工程で、現像液による電喰反応からガスが発生し、コンタクト部で膜はがれが発生する問題が生じる。 - 特許庁
In the pre-treatment for applying the axial thickening process, when the axial thickening process is applied to the middle carbon steel as a work, the wwork is tempered so as to obtain a fine and uniform structure of troostite or sorbite.例文帳に追加
中炭素鋼を被加工材として軸肥大加工を行う際に、軸肥大加工を行う前処理として、被加工材がトルースタイトやソルバイトの微細な均質組織となるような調質処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁
To integrate, as components, vertical wiring and rewiring subjected to structure formation as an additional process of a double-sided electrode package DFP and a wafer level chip size package WLCSP, and to further simplify a manufacturing process and to reduce its cost.例文帳に追加
両面電極パッケージDFPやウエハレベルチップサイズパッケージWLCSPの追加工程として構造形成される垂直配線や再配線を部品として集約させ、かつ、その際に、製造工程をより簡素化してコスト低減を実現する。 - 特許庁
To provide a placing table structure that efficiently and inexpensively recover a raw material itself and metal contained in the raw material by suppressing the number of times of a dry cleaning process or eliminating the dry cleaning process itself.例文帳に追加
ドライクリーニング処理回数を抑制したり、或いはドライクリーニング処理自体をなくして原料自体の回収や原料に含まれる金属の回収を効率的に且つ低コストで行うことが可能な載置台構造を提供する。 - 特許庁
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