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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > processing patternに関連した英語例文

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processing patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 4002



例文

When packets received by a data processor in a deep sleep mode correspond to a WOL pattern, a network unit executes shift processing for shifting modes of the data processor from the deep sleep mode to a normal mode.例文帳に追加

ネットワーク部は、ディープスリープモードにおいて受信したパケットがWOLパターンと一致する場合は、データ処理装置をディープスリープモードから通常モードに移行させる移行処理を実行する。 - 特許庁

To provide a substrate processor and processing method in which an appropriate inspection can be carried out in order to suppress variation in the line width of a pattern formed in a film on a substrate.例文帳に追加

基板上の膜に形成されたパターンの線幅の変動を抑制するために適切な検査を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a scanning line interpolation apparatus capable of eliminating improper operations such as interpolation applied to data by bridging over a vertical line and a contour of a pattern when executing interpolation processing in an oblique direction.例文帳に追加

斜め方向の補間処理を行う際に、垂直線や絵柄の輪郭をまたいで補間するなどの不適切動作を無くすことが可能な走査線補間装置を提供する。 - 特許庁

A shape measuring processing part 24 extracts the image having the maximum difference of the brightness value corresponding to the high brightness part and the low brightness part of the brightness pattern from the plurality of images imaged by the CCD camera 10.例文帳に追加

形状測定処理部24は、CCDカメラ10が撮像する複数の画像から、輝度パターンの高輝度部と低輝度部に対応する輝度値の差が最大の画像を抽出する。 - 特許庁

例文

When performing the correction of the video signal D1, correction of an input image signal Din is performed (luminance adjusting processing is performed) so that the display luminance level of a pattern for adjustment 5 can be lowered.例文帳に追加

また、そのような映像信号D1の補正の際には、調整用パターン5の表示輝度レベルが下がるように、入力映像信号Dinの補正を行う(輝度調整処理を行う)。 - 特許庁


例文

To obtain a photosensitive paste capable of making a pattern processing of high aspect ratio and high minuteness and good in binder removability after backed in high sensitivity by including inorganic microparticles and a photosensitive organic component incorporated with a specific cellulose derivative.例文帳に追加

高アスペクト比かつ高精細度のパターン加工を高感度に行える感光性ペーストであって、かつ焼成後の脱バインダー性の良好な感光性ペーストを提供する。 - 特許庁

The image processing computer 6 forms a light intensity profile having a peak corresponding to the boundary part of the recessed part and protruding part of the irregular pattern of the object on the basis of the image.例文帳に追加

画像処理用コンピュータ6は、この画像をもとにして、検査対象の凹凸パターンの凹部と凸部との境界部分に対応したピークを有する光の強度プロファイルを作成する。 - 特許庁

When the contents of the present indication signal S1 provide an indication renewed from the indication of stop, the on-vehicle signal processing part 25 cancels vehicle control that is based on the stop pattern TP.例文帳に追加

車上信号処理部25は、停止パターンTPを生成した後、現示信号S1の内容が停止現示から現示アップしたとき、停止パターンTPに従った車両制御を解除する。 - 特許庁

As a result, in the case that the rough misregistration pattern is detected and it is beyond the permissible range (S2), a signal indicating an error is input and detection of minute misregistration and correction processing are not carried out.例文帳に追加

この結果、粗位置ずれパターンを検出したとき、それが許容範囲を越えていると判定した場合(S2)には、エラー出力し、微小位置ずれの検出及び補正処理は行わない。 - 特許庁

例文

Therefore, by adjusting processing, a gradation value (a correction value) of the image data 62 subjected to the gammer correction is adjusted to be a gradation value (an adjusted gradation value) corresponding to a good pattern.例文帳に追加

したがって、調整処理により、ガンマ補正済みの画像データ62が有する階調値(補正値)が、良好なパターンに対応した階調値(調整済み階調値)に調整される。 - 特許庁

例文

The mark display processing means is characterized in that, at least, one of the shape, the color, and the pattern of the mark is changed according to the distance between a virtual camera and the given object.例文帳に追加

前記目印表示処理手段は、仮想カメラと所与のオブジェクトとの距離に応じて、前記目印の形状、色彩及び模様の少なくとも1つを変化させることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an exposure device which transfers a pattern at a proper accuracy controlling an environmental change, even if a liquid flows out to an outside of a substrate, when an exposure processing is applied by a liquid immersion method.例文帳に追加

液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。 - 特許庁

Character recognition is applied by comparing the extracted features with a standard pattern (step S4), and the characters are outputted to the format or the like of word processor software for post-processing (step S5).例文帳に追加

次いで、抽出された特徴を使って標準パターンと比較して文字認識を行い(ステップS4)、ワープロソフトのフォーマット等へ出力する等の後処理を行う(ステップS5)。 - 特許庁

To provide a fine-processing method for a glassy carbon which can be suitably used for the formation of an optional uneven pattern on a glassy carbon, which has been difficult heretofore.例文帳に追加

ガラス状カーボンに任意の凹凸形状を形成することが可能で、これまで難しかった形状をプレスによるガラス成形を可能とするガラス状カーボンの微細加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine grid manufacturing method with which a base material surface is prevented from being oxidized, and etching processing is prevented from being affected even in forming a mask film on the base material by using a metal pattern film.例文帳に追加

金属製のパターン膜を用いて基材上にマスク膜を形成しても、基材表面が酸化されずエッチング加工に影響を及ぼさない微細格子の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus for preventing an image output of a particular original (paper money or the like whose image output is to be inhibited) on the occurrence of abnormality in a pattern recognition means for recognizing the particular original.例文帳に追加

特殊原稿(画像出力を禁止すべき紙幣等)を認識する地紋認識手段に異常が発生した場合に特殊原稿の画像出力が行われることを防止する。 - 特許庁

A character pattern string acquired by an information input part 11 is sent to a character recognition/data processing device 2 by an electronic data transmitting/receiving part 12 and characters are recognized by a character recognition part 22.例文帳に追加

情報入力部11で取得された文字パターン列は電子データ送受信部12により文字認識・データ加工装置2に送られ、文字認識部22で文字認識される。 - 特許庁

The image-processing system (26) is further operable, to identify the reference mark in the image of the fringe pattern for constructing the shape of the object (12), based on the reference mark.例文帳に追加

画像処理システム(26)はさらに、干渉縞パターンの画像内の基準マークを同定するように動作可能であり、この基準マークに基づき物体(12)の形状を構築する。 - 特許庁

The temporary stop picture pattern of a ready-to-win variation operation is decided after the end of a big hit game, concerning the presentation contents when the result of the propriety lottery processing becomes a high probability big hit state.例文帳に追加

当否抽選処理の結果が確変大当り状態となった場合の演出内容について、リーチ変動動作の仮停止図柄を、大当りゲーム終了後に決定する。 - 特許庁

An image processing method/system includes dividing a movement pattern of a moving object into N discrete position states, and for each of the N position states, determining a corresponding view projection matrix.例文帳に追加

画像処理方法/システムでは動く物体の運動パターンがN個の不連続位置状態に分割され、前記N個の位置状態各々に対し対応するビュー投影行列を決定する。 - 特許庁

A trace collection device is provided with: a trace buffer for successively storing trace data generated by performing traced processing; a first pattern table; and a memory for storing a first analysis buffer.例文帳に追加

トレース採取装置は、被トレース処理の実行により生成されるトレースデータを順次格納するトレースバッファと、第1のパターン表と、第1の解析バッファを格納するメモリを備える。 - 特許庁

The pattern matching processing is carried out in order from the transportation branch office code which is high in probability of matching, so the transportation branch office code can be recognized in a short time with high precision.例文帳に追加

従って、よりマッチングする確率の高い運輸支局コードから順次パターンマッチング処理されるので、短時間で且つ高精度に運輸支局コードを認識することが可能となる。 - 特許庁

To provide a game machine capable of displaying a pattern occurring in a virtual three-dimensional space with a comparatively low processing burden and maintaining interest of a player.例文帳に追加

仮想3次元空間内に発生する図柄の様子を比較的少ない処理負担で表示するとともに、遊技者の面白味を永続させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a calibration plate that easily enhances a contrast of light and darkness of a picked-up pattern image and achieves high-accuracy calibration in positional dimension measurement in an image processing.例文帳に追加

撮像したパターン画像の明暗のコントラストを簡易に高め、画像処理における位置寸法測定で高精度な較正を図ることを可能とするキャリブレーションプレートを提供する。 - 特許庁

Then necessary LEDs are turned on according to a lighting pattern to illuminate the electronic component D held by a suction nozzle 5, and the component recognition camera 20 images an image to perform recognition processing.例文帳に追加

すると、点灯パターンに従い必要なLEDを点灯させ、吸着ノズル5に保持された電子部品Dに照射し、部品認識カメラ20が撮像して認識処理がされる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of suppressing an occurrence of loading effect without reference to the shape of a circuit pattern formed on a wafer to improve uniformity in film thickness in a wafer surface.例文帳に追加

ウエハに形成された回路パターンの形状によらずにローディング効果の発生を抑制でき、ウエハ面内における膜厚の均一性を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A recognition processing part 303 recognizes corresponding phonemes by collating the feature parameter extracted by the feature extraction part 302 with the standard pattern data and outputs a recognition result.例文帳に追加

認識処理部303は、特徴抽出部302で抽出された特徴パラメータと標準パターンデータを照合することで、対応する音韻を認識し、認識結果を出力する。 - 特許庁

Delay processing corresponding to each sub-array is carried out based on a delay pattern that determines a delay amount to each of a plurality of vibration elements belonging to the respective sub-arrays, for every sub-array.例文帳に追加

そして、各サブアレイごとにそれに属する複数の振動素子の各々に対する遅延量を定めた遅延パターンに基づいて、各サブアレイに応じた遅延処理が実行される。 - 特許庁

To provide a mask pattern forming method capable of increasing symmetry of the shape of a sidewall and improving processing accuracy when etching a target etching film, in SWP.例文帳に追加

SWPにおいて、側壁部の形状の対称性を高め、被エッチング膜をエッチングするときの加工精度を向上させることができるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an information processor for performing the retrieval of a structure pattern appearing several times in a plurality of tree structures by recursive processing for every place to which a node is added.例文帳に追加

複数の木構造内で複数回現れる構造パターンの探索において、ノードを加えた場所毎に再帰的処理による探索を行うようにした情報処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure system, an exposure apparatus, a substrate processing apparatus, a pattern forming method, and a semiconductor device manufacturing method for enhancing the uniformity of line width of a resist film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成されるレジスト膜の線幅均一性を向上させる露光システム、露光装置、基板処理装置、パターン形成方法、及び半導体デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide resist for metal foil etching, which is heat drying type resist ink and can suppress the occurrence of a pinhole during etching processing using acid, and to provide a metal foil pattern forming method.例文帳に追加

熱乾燥型レジストインキであって、酸によるエッチング処理に際して、ピンホールの発生を少なくできる金属箔エッチング用レジストの提供、および金属箔パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a technique capable of smoothly finishing the shaping of a curve pattern in optical micro-shaping processing, and an apparatus for performing the technique.例文帳に追加

本発明の課題は、マイクロ光造形加工において、曲線パターンの造形を滑らかに仕上げることができる手法を提示すること、並びにそれを実行する装置を提供することにある。 - 特許庁

Further, the main CPU 64 supplies excitation signals from a motor driving circuit 73 to each stepping motor 45 on the basis of the decided excitation pattern (S229) and performs pulse output processing.例文帳に追加

さらに、メインCPU64は、決定された励磁パターンに基づいて、モータ駆動回路73から各ステッピングモータ45へ励磁信号を供給し(S229)、パルス出力処理を行う。 - 特許庁

In this process, when a game ball enters the ordinary pattern starter slot, the pachinko game machine carries out the lottery processing to determine the winning or losing of a success in triggering the operation of the ordinary electric accessary.例文帳に追加

ここで、このパチンコ機は、普通図柄始動口に遊技球が入球されたとき、普通電動役物の動作契機となる当たりについての当落にかかる抽選処理を行う。 - 特許庁

To provide a microstructure processing method and apparatus, and a microstructure, wherein the pattern of the microstructure formed on a wafer can be dried without causing it to collapse.例文帳に追加

ウェーハ上に形成された微細構造体のパターンを崩壊させることなく乾燥処理を行えるようにした、微細構造体の処理方法と処理装置、及び微細構造体を提供する。 - 特許庁

When the interrupt flag is processed, the central processing unit uses the signal group address and the correction pattern and restores the charge of a bit position in a memory unit (40).例文帳に追加

訂正可能なエラーが検出されるとき(33、34、35、36)、信号グループアドレス及び訂正パターンが蓄積されて(38)中断要求フラッグが中央処理ユニットに印加される(39)。 - 特許庁

To provide a paste composition, which is applicable to minute pattern processing based on photolithography, and using a dispersion medium having no acute toxicity, can obtain a transparent composite membrane with a high refractive index.例文帳に追加

フォトリソグラフィーによる微細パターン加工に対応でき、さらには急性毒性を有しない分散媒を用いて、高屈折率の透明複合膜が得られるペースト組成物を提供する。 - 特許庁

A feature vector collation processing part 13 collates the projection feature vector and feature information in a pattern recognition dictionary 15 with each other based on a prescribed partial space classification reference.例文帳に追加

特徴ベクトル照合処理部13は、射影特徴ベクトルとパターン認識辞書15における特徴情報とを所定の部分空間類別基準に基づいて照合する。 - 特許庁

The lower photo resist 6 is developed after a repair processing and the rib formation member layer is selectively removed by using the remaining two layers of upper and lower photo resist patterns 62, 64, 72 as resist masks for pattern formation.例文帳に追加

リペア処理後に下側フォトレジスト6を現像し、残存する上下2層のフォトレジストパターン62,64,72をパターン形成用レジストマスクとしてリブ形成部材層を選択除去する。 - 特許庁

To improve resolution, decrease line edge roughness, and furthermore enable irradiation of pixels, in accordance with grey scale in the region defining device for multi-beam pattern of a particle-beam processing device.例文帳に追加

粒子ビーム処理装置のマルチビームパターンの画定デバイスにおいて、解像度を向上させ、ラインエッジ粗さを軽減させ、さらに画素をグレースケールに従って照射することを可能とさせる。 - 特許庁

To provide a profile tracking method of digital image for precisely processing a pattern or image containing a plurality of colors or luminance at high speed with a minimized data capacity.例文帳に追加

複数の色あるいは輝度を含む図形や画像でも精度の高い図形や画像を少ないデータ容量で、かつ、高速に処理できるディジタル画像の輪郭追跡手法を提案する。 - 特許庁

To provide an improved even recognizing device for monitoring and/or processing an event that takes place in a data processor in the case configuration data or an event pattern dynamically changes.例文帳に追加

構成データ又は事象パターンが動的に変化する場合に、データ処理装置に生じる事象のモニタ及び/又は処理を行うための改良された事象認識装置を提供する。 - 特許庁

Further, difference of magnetic property between in the specific region 30 and in the external region 32 are generated by heat-processing the magnetic layer 16 in the state, and a magnetic pattern is formed.例文帳に追加

更にその状態で磁性層16を熱処理することで、特定領域30と外部領域32との間の磁気特性に差異を生じさせて、磁性パターンを形成するようにした。 - 特許庁

The optimum developing time is obtained based on correlation between the developing time in selected respective substrate processing conditions and the pivotal shift whereby the pattern size can be simply set.例文帳に追加

この選択された各基板処理条件における現像時間とピボタルシフトとの相関関係に基づいて最適現像時間を求め、パターン寸法を簡易に設定することができる。 - 特許庁

Further, after the mask is formed, the etching liquid is ejected from the nozzle to thereby perform etching processing on an exposed metal face of the workpiece 10A to form a machining pattern.例文帳に追加

さらに、前記マスクを形成後に、エッチング液をノズルから噴射することにより、露出したワーク10Aの金属面をエッチング処理して加工パターンを形成する工程とを備えている。 - 特許庁

To improve the image quality of a hatched pattern of low density in the case of performing image processing by using a dither matrix method.例文帳に追加

ディザマトリックス法を用いて画像処理を行う場合、低濃度のハッチングパターンの画質を向上させる画像処理装置、画像処理方法及びプログラムを記憶した記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To prevent a processing load from being enlarged unnecessarily by performing motion compensation with unnecessarily high precision even on a portion where a picture pattern is monotonous in a hierarchical motion vector calculating method.例文帳に追加

階層型動きベクトル算出方法において、絵柄が単調な部分においても不必要に高い精度で動き補償をおこない、無駄に処理負荷が大きくなることを防止する。 - 特許庁

To provide a mosaic pattern display device of an image display apparatus of a pachinko machine, which allows advanced and diversified display by making an arbitrary region within an image display region undergo mosaic processing.例文帳に追加

画像表示領域内の任意の領域をモザイク処理することで、高度で多彩な表示を可能にしたパチンコ機の画像表示装置に於けるモザイク模様表示装置を提供する。 - 特許庁

例文

Processing with an alkaline developer 6 is carried out to dissolve the interlayer film 12 comprising a water-soluble polymer and the lower layer resist 11 to form a stencil shape having high pattern dimensional precision.例文帳に追加

次に、アルカリ性現像液6により処理を行い、水溶性ポリマーである層間膜12と下層レジスト11を溶解して、パターン寸法精度の高いステンシル形状を形成する。 - 特許庁




  
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