「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

A correction part 13 calculates, in each image data, a correction parameter for converting an image data to bring a pattern imaged on an image plane specified by the image data closely to a prescribed pattern which a chart has, using the paired image data output by image-picking up the chart AC having the prescribed pattern by the stereoscopic cameras as processing objects.例文帳に追加

補正部１３は、所定のパターンを有するチャートＡＣをステレオカメラで撮像することによって出力された一対の画像データを処理対象として、画像データ毎に、画像データによって規定される画像平面に写し出されたパターンが、チャートが有する所定のパターンに近づくように画像データを変換する補正パラメータを算出する。 - 特許庁

In the image processing apparatus, a pattern detecting section 53 detects a specific pattern in inputted image data, and when a system controller 6 detects a previously set specific pattern, the system controller 6 prohibits the output of the image data, and at the same time, imposes usage restriction complying to a management table on a user who has tried to execute the output of the image data.例文帳に追加

パターン検知部５３によって入力された画像データ内の特定のパターンを検知し、予め設定された特定のパターンをシステムコントローラ６によって検知したときは、システムコントローラ６がその画像データの出力処理を禁止すると同時に、その画像データの出力を実行しようとした使用者に対して管理テーブルに従った使用制限を課す。 - 特許庁

The determining apparatus includes a projector 21 for projecting a pattern on a surface of a translucent resin 15, a CCD camera 22 for photographing the pattern projected on the surface of the translucent resin 15, and an arithmetic processing unit 23 for determining the surface shape or filling amount of the translucent resin 15 based on a pattern image captured by the CCD camera 22.例文帳に追加

透光性樹脂１５の表面にパターンを投影する投影装置２１と、透光性樹脂１５の表面に投影されたパターンを撮影するＣＣＤカメラ２２と、ＣＣＤカメラ２２によって撮影されたパターン画像に基づき透光性樹脂１５の表面形状もしくは充填量を判定する演算処理部２３とを備えている。 - 特許庁

The device is provided with an at least one setting circuit 1 setting the prescribed pattern of a bit serial signal, plural detecting circuits (4a-4p) detecting a pattern set by the setting circuit 1 out of each block in which conversion processing is performed, and an eleminating circuit 16 eliminating the block when the detecting circuits (4a-4p) detect the pattern.例文帳に追加

ビットシリアル信号の所定のパターンを設定する少なくとも１つの設定回路１と、前記変換処理を施した各ブロックから、設定回路１が設定したパターンを検出する複数の検出回路４ａ〜４ｐと、検出回路４ａ〜４ｐが前記パターンを検出したときは当該ブロックを除去する除去回路６とを備えている。 - 特許庁

The alignment processing is performed by forming nearly parallel beam of ultraviolet light emitted by a light source unit section into a long irradiation pattern through a light irradiation pattern control section comprising a plurality of total reflection mirrors and irradiating the alignment layer with the ultraviolet light having the converted irradiation pattern at a prescribed angle.例文帳に追加

光源装置部から出射された紫外線の略平行光を、複数の全反射ミラーによって構成された光照射パターン制御部を介して長尺形状の照射パターンに形成し、変換された照射パターンの紫外線を所定の角度を保って配向膜に照射することによって配向処理を施すようにした。 - 特許庁

In the image processing system, a measuring means measures the symmetry of an image pattern to be compared, a threshold value change means changes a threshold value in comparison on the basis of the symmetry measured by the measuring means, and a pattern comparing means compares the image pattern in accordance with the threshold value changed by the threshold value change means.例文帳に追加

画像処理システムの計測手段は、比較の対象である画像パターンの対称性を計測し、閾値変更手段は、前記計測手段によって計測された対称性に基づいて、比較の際の閾値を変更し、パターン比較手段は、前記閾値変更手段によって変更された閾値に応じて、前記画像パターンの比較を行う。 - 特許庁

The distribution condition of the measurement data collected by a plurality of sensors installed on a blast furnace facility is arranged on the two-dimensional plane or three-dimensional space reflecting the installation positions of each sensor on the blast furnace facility, the pattern formed by the measurement data using isopleths or the like, and the pattern or the characteristics information of the pattern is operated by the image processing.例文帳に追加

高炉設備上に複数設置される各種センサで収集した計測データの分布状態を、各センサの高炉設備上の設置位置を反映させた２次元平面又は３次元空間上に配置し、計測データによって等値線等で形成される図形を演算し、その図形又は図形の特徴情報を画像処理によって演算する。 - 特許庁

The pattern processing paper includes a base layer and a pattern layer which is scattered on the surface of this base layer, where the base layer has natural pulp fibers, rayon fiber and binder and the pattern layer has rayon fiber aggregate and binder, and contains inorganic particles having a Mohs hardness of 3 to 6 in the base layer.例文帳に追加

本発明は、ベース層と、このベース層の表面に散在する模様層とを備え、上記ベース層が、天然パルプ繊維とレーヨン繊維とバインダーとを有し、上記模様層が、レーヨン繊維凝集体とバインダーとを有する模様加工紙であって、上記ベース層に、モース硬度が３以上６以下の無機粒子を含有することを特徴とする模様加工紙である。 - 特許庁

A communication control device includes: a first database 50 in which the pattern of data included by computer virus is stored; a retrieval circuit 30 for retrieving whether or not a pattern stored in the first database 50 is included in the obtained data file; and a processing performing circuit 40 for, when the pattern is included in the obtained data file, filtering the data file.例文帳に追加

通信制御装置は、コンピュータウィルスが含むデータのパターンを格納した第１データベース５０と、取得したデータファイルに第１データベース５０に格納されたパターンが含まれるか否かを検索する検索回路３０と、取得したデータファイルにパターンが含まれる場合、そのデータファイルをフィルタリングする処理実行回路４０と、を備える。 - 特許庁

This method for manufacturing the micro lens includes processes of: forming a resist pattern on a base surface; forming a thermal contraction membrane on the surface of the resist pattern; performing thermal processing at temperature equal to or higher than glass transition temperature of the resist pattern and equal to or hither than contraction starting temperature of the thermal contraction membrane and exfoliating the thermal contraction membrane.例文帳に追加

基体表面にレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターン表面に、熱収縮性皮膜を形成する工程と、前記レジストパターンのガラス転移温度以上であってかつ、前記熱収縮性皮膜の収縮開始温度以上の温度で熱処理を行う工程と、前記熱収縮性皮膜を剥離する工程とを含む。 - 特許庁

Character information is designed and displayed by referring to design parts of constitution elements of a character pattern of the electronic music reproducing device 30, and a skeleton outline pattern deformation processing part 58 generates the font of character information according to position coordinate information and further generates a move pattern for moving and deforming, and displaying the character information according to movement deformation information.例文帳に追加

電子ミュージック再生装置３０の文字図形の各構成要素のデザインパーツを参照して文字情報をデザイン表示するとともに、位置座標情報に基づいて、スケルトン輪郭パターン変形処理部５８が文字情報の書体を生成し、さらに、移動変形情報に基づいて、文字情報を移動変形して表示するムーブパターンを生成する。 - 特許庁

A pachinko game machine is provided with an ordinary electric accessary which is operated to meet requirements for making game balls enter a special pattern starter slot and an ordinary pattern starter slot which is provided separately from the special pattern starter slot for a lottery processing to determine the winning or losing of a success in triggering the operation of the ordinary electric accessary.例文帳に追加

このパチンコ機は、特別図柄始動口への遊技球の入球の必要条件となる動作を行う普通電動役物と、上記特別図柄始動口とは別の、上記普通電動役物の動作契機となる当たりについての当落にかかる抽選処理を行うための普通図柄始動口とを備えて構成されている。 - 特許庁

The laser beam is branched into a main laser beam 13M and a sub-laser beam 13S, pattern irradiation corresponding to the recording pattern is performed by the main laser beam 13M, and the position of the main laser bema 13M is adjusted by the sub-laser beam 13S obtaining the positional information from the area where a pattern irradiation processing by the main laser beam 13M is performed.例文帳に追加

レーザ光を主レーザ光１３Ｍと副レーザ光１３Ｓとに分岐し、主レーザ光１３Ｍによって記録パターンに対応するパターン照射を行い、副レーザ光１３Ｓによって、主レーザ光１３Ｍによるパターン照射処理がなされた領域から、その位置情報を得て、主レーザ光１３Ｍの位置調整を行う。 - 特許庁

In a variable display pattern setting processing (step S42) "10H" or "11H"-"14H" are selected as a data of one byte (status) depending on whether addition time is added to the variation time of special symbols or not and combined with the data of 2 byte (mode) in a variable display pattern determined to set up a 2 byte structured variable display pattern command.例文帳に追加

変動表示パターン設定処理（ステップＳ４２）では、特別図柄の変動時間に加算時間を加算するか否かに応じて「１０Ｈ」または「１１Ｈ」〜「１４Ｈ」を１バイト目（ステータス）のデータとして選択し、決定された変動表示パターンの２バイト目（モード）のデータと組み合わせた２バイト構成の変動表示パターンコマンドをセットしている。 - 特許庁

The matching processing part is provided with a similarity determination means (the CPU 1, for example) comparing teacher data d related to a reference pattern P for the face image with the predetermined area of the image data for determining similarity between them and a pattern dimension changing means (the CPU 1, for example) changing a dimension of the reference pattern P based on the similarity determination result.例文帳に追加

マッチング処理部は、顔画像に対する基準パターンＰに係る教師データｄと画像データの所定範囲とをパターンマッチング処理により比較して、それらの類似度を判定する類似度判定手段（例えば、ＣＰＵ１）と、類似度の判定結果に基づいて、基準パターンＰの寸法を変更するパターン寸法変更手段（例えば、ＣＰＵ１）とを備える。 - 特許庁

In the area of a semiconductor device manufacturing mask 200 except for a real pattern 202, a square dummy pattern 204, for example, having one side of 0.25 μm or less is inserted and the pattern density is made uniform, and an etching processing can be performed without changing conditions for every semiconductor device manufacturing mask and the global step of a post-CMP interlayer insulation film is not increased.例文帳に追加

半導体製造用マスク２００内の実パターン２０２以外の領域に，例えば一辺が０．２５μｍ以下の正方形のダミーパターン２０４を挿入し，パターン密度を均一化して，半導体製造用マスク毎に条件を変えることなくエッチング処理を行えるとともに，ＣＭＰ後の層間絶縁膜のグローバル段差を増大させないようにする。 - 特許庁

This resistor network creation device is provided with, a division part for acquiring data of a wiring pattern including its connecting location information with a via to divide the wiring pattern into rectangular patterns; a division pattern processing part for setting nodes and resistors so that they correspond to the divided rectangular patterns; and an output part for outputting the positions of the set nodes and resistors as information for specifying a resistor network.例文帳に追加

ビアとの接続位置情報を含む配線パターンのデータを取得し、前記配線パターンを矩形パターンに分割する分割部と、分割後の前記矩形パターンに対応するように、ノード及び抵抗を設定する分割パターン処理部と、設定したノード及び抵抗の位置を、抵抗網を特定する情報として出力する出力部と、を具備する。 - 特許庁

The pixel electric field pattern generation part 33 generates an electric field (a pixel electric field pattern) to be formed between each pixel electrode 14 and a common electrode 13 of the display panel 1 based on the image data information from an image data processing part 32 and color arrangement information from the color arrangement information recording part 34 and outputs the electric field pattern to a TFT driving circuit 21.例文帳に追加

画素電界パターン生成部３３は、画像データ処理部３２からの画像データ情報と、色配置情報記録部３４からの色配置情報とに基づいて、表示パネル１の各画素電極１４と共通電極１３との間に形成する電界（画素電界パターン）を生成して、ＴＦＴ駆動回路２１に出力する。 - 特許庁

A pachinko game machine is provided with a pre-electric accessary to meet the requirements for making game balls enter a special pattern starter slot and a pre-pattern starter slot which is provided separately from the special pattern starter slot and carries out a lottery processing to determine the winning or losing of a success in triggering the operation of the pre-electric accessary.例文帳に追加

このパチンコ機は、特別図柄始動口への遊技球の入球の必要条件となる動作を行う先用電動役物と、上記特別図柄始動口とは別の、上記先用電動役物の動作契機となる当たりについての当落にかかる抽選処理を行うための先用図柄始動口とを備えて構成されている。 - 特許庁

When the directivity pattern belonging to the other sector is instructed, the DSP 10 generates a parameter corresponding to the directivity pattern for which the directivity pattern is mirror-inverted to perform signal processing and supplies driving signal sample to each speaker unit SP obtained as a result to the speaker unit SP at a position for which the original speaker unit SP is mirror-inverted.例文帳に追加

他方のセクタに属する指向性パターンが指示された場合、ＤＳＰ１０は、この指向性パターンを鏡面反転させた指向性パターンに対応したパラメータを発生させて信号処理を行い、この結果得られる各スピーカユニットＳＰ宛の駆動信号サンプルを、本来のスピーカユニットＳＰを鏡面反転させた位置のスピーカユニットＳＰに供給する。 - 特許庁

The distortion compensating power amplifier includes: a test pattern addition part 10 for adding a test pattern to an input signal Vin; a predistortion part 20 for applying distortion compensation processing using a distortion correction coefficient for canceling distortion during amplification to the test pattern-added input signal Vin to generate predistortion signal; and an amplification part 30 for amplifying the predistortion signal.例文帳に追加

入力信号Ｖinにテストパタンを付加するテストパタン付加部１０と、テストパタンが付加された入力信号Ｖinに、増幅時の歪みを打ち消すための歪み補正係数を用いて歪み補償処理を施してプリディストーション信号を生成するプリディストーション部２０と、プリディストーション信号を増幅する増幅部３０と、を備える歪み補償電力増幅器である。 - 特許庁

This three-dimensional measuring instrument of the present invention is constituted of a pattern projector 1 as a projection means for projecting a pattern light onto a measuring object A, a camera 2 as an imaging means for imaging the measuring object A projected with the pattern light to pick up an image, and a computer 3 for processing a data of the image picked up by the camera 2.例文帳に追加

本発明の三次元計測装置は、計測対象物Ａにパターン光を投影する投影手段としてのパターン投影機１と、パターン光が投影された計測対象物Ａを撮像して画像を撮像する撮像手段としてのカメラ２と、このカメラ２により撮像した画像のデータを処理するコンピュータ３とから構成される。 - 特許庁

In a method for producing a semiconductor integrated circuit device, when a plurality of semiconductor integrated circuit devices, in which a circuit pattern having a linear pattern is provided and at least a part of production process is common, is produced, dry etching is performed to a film for processing with controlling dry etching conditions depending on circumferential length per unit area of the linear pattern in each of the semiconductor integrated circuit devices.例文帳に追加

ライン状パターンを有する回路パターンを備えており、製造工程の少なくとも一部が共通する複数の半導体集積回路装置を製造する際に、各半導体集積回路装置におけるライン状パターンの単位面積当たりの周縁長に応じてドライエッチング条件を調整しながら被加工膜に対してドライエッチングを行なう。 - 特許庁

Thus, since a designated parameter to be designated for generating a basic pattern that the present image processing apparatus can detect, can be easily acquired and designated, detection precision of a pattern having a complicated shape can be easily maintained and improved.例文帳に追加

この構成によれば、本画像処理装置が検出可能な基礎パターンを生成するために指定されるべき指定変数を容易に取得し、指定することができるため、複雑な形状を有するパターンの検出精度を容易に維持、向上させることができる。 - 特許庁

A plurality of characteristic points such as characteristic points 3a-3d are extracted by characteristic point extraction processing from a captured image 1 obtained by imaging a circuit pattern 2 that is a standard pattern included in a standard material of the same type as that of an object to be aligned.例文帳に追加

位置合わせを行う対象物と同じ種類の基準物に含まれる基準パターンである回路パターン２を撮像した撮像画像１から、特徴点抽出処理により特徴点３ａ〜３ｄなどの複数の特徴点が抽出される。 - 特許庁

A grouping processing section 204 stores reception strength of a downlink physical channel measured by UE 100 and transmitted from the UE 100, and generates a time variation pattern of the reception strength by each UE resulting in grouping the UEs taking the same time variation pattern.例文帳に追加

ＵＥ１００において測定され、ＵＥ１００から送信された下り物理チャネルの受信強度をグループ化処理部２０４において保持し、受信強度の時間変動パターンをＵＥ毎に生成した結果、同一の時間変動パターンとなるＵＥをグループ化する。 - 特許庁

A retrieval processing part 12 performs a retrieval by starting the symbol collation of the pattern to a text from the tail end symbol of the identical symbol string and shifting and, when the symbol collation of the tail end symbol fails, shifting the pattern by the number of identical symbols to perform the symbol collation again.例文帳に追加

検索処理部１２は、同一記号列の最後尾の記号から、パターンとテキストとの記号照合を開始し、最後尾の記号の記号照合が失敗した場合には、同一記号の数だけパターンをシフトして再度記号照合をして検索を行う。 - 特許庁

To provide a registration method for a wafer electrode and an alignment method for a wafer capable of improving the reliability of wafer processing, such as inspection, and reducing the load of operator, by releasing the operator from each operation for reference pattern selecting and pattern matching.例文帳に追加

検査等のウエハ処理の信頼性を向上させることができると共に、オペレータを基準パターンの選択やパターンマッチングの各作業から解放してオペレータの負荷を軽減することができるウエハ電極の登録方法及びウエハのアライメント方法を提供する。 - 特許庁

To reduce variation in pattern size due to density dependency of a pattern to be formed during dry etching processing on a light shield film as compared with a case wherein a conventional photomask blank having a light shield film is used, and to manufacture a mask with higher precision.例文帳に追加

遮光膜のドライエッチング加工時において、従来の遮光膜をもつフォトマスクブランクを用いた場合と比較して、形成するパターンの粗密依存性により生じるパターンサイズ変動を小さくすることができ、より高精度のマスクを製造することが可能になる。 - 特許庁

To provide a method for detecting a defective area using image processing by which a smoothing comparison image of an edge part of a pattern is prevented from becoming gentle and a fault place is accurately detected without misrecognizing an end part of the pattern as a fault place.例文帳に追加

パターンのエッジ部分の平滑化比較画像がなだらかになることを防ぎ、パターンの端部を故障箇所と誤認することなく正確に故障箇所を検出することが可能な画像処理を用いた不良箇所検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A symbol addition part 18-1 performs synchronous addition to a carrier symbol which is an FFT output signal of a symbol segmented on the basis of the symbol head position a0, and an SP pattern detection part 19 detects an SP pattern in SP correlation processing of the synchronous addition result.例文帳に追加

シンボル加算部１８−１は、シンボル先頭位置ａ０に基づいて切り出されたシンボルのＦＦＴ出力信号であるキャリアシンボルに対して同期加算し、ＳＰパターン検出部１９は、この同期加算結果のＳＰ相関処理にてＳＰパターンを検出する。 - 特許庁

The image processing apparatus for synthesizing a copy check pattern on a document to be processed accepts designation of at least one region on the document, and controls so that the copy check pattern may not be synthesized inside the designated region.例文帳に追加

処理対象となったドキュメントに、複写牽制画像を合成する画像処理装置であって、ドキュメント上の少なくとも一つの領域の指定を受け入れ、当該指定された領域内部に複写牽制模様が合成されないよう制御する画像処理装置である。 - 特許庁

A user of an information processing system arranges a plurality of pattern images 2520 obtained by modeling objects existing in an immediate space along a lattice-like scene 2510 obtained by modeling the immediate space, and combination information of the arrangement of the pattern images is defined as the code data.例文帳に追加

情報処理システムの使用者が身近な空間をモデル化した格子状の場面２５１０に、その身近な空間内に存在するような物体をモデル化した複数の図柄イメージ２５２０を格子に沿って配置し、その配置の組み合わせ情報を暗証データとする。 - 特許庁

In this case, the adding pattern of pixel output is determined according to the type of image processing to be performed by an image processor 4 of a later stage, and an image is generated by adding the pixel output of image signals to be outputted from the imaging device 1 by the adding pattern.例文帳に追加

その際、後段の画像処理装置４で行われる画像処理の種別に応じて画素出力の加算パターンを決定し、その加算パターンにより撮像素子１から出力される画像信号の画素出力を加算して画像を生成する。 - 特許庁

When an inching signal is issued from an inching signal issuing part 59 after the stop of the loom, an arithmetic processing part 53 issues a command of inching operation, a command of a change to a second selvedge yarn shedding pattern and a driving signal of the second selvedge yarn shedding pattern to a motor driving circuit 63.例文帳に追加

織機停止後、インチング信号発生部５９からインチング信号が発信されると、演算処理部５３はモータ駆動回路６３にインチング運転の指令、第２耳糸開口パターンへの変更指令及び第２耳糸開口パターンの駆動信号を発信する。 - 特許庁

Plural terminals arranged along a formation direction of a second differential signal pattern are formed on a second connector, and the second differential signal pattern is connected to terminals which are some of the plural terminals of the second connector and located in the neighborhood of a side at which an image processing circuit is mounted.例文帳に追加

第２のコネクタは、第２の差動信号パターンが形成される方向に沿って並ぶ複数の端子が形成され、第２の差動信号パターンは第２のコネクタの複数の端子のうち、画像処理回路が実装される側の近傍に位置する端子に接続される。 - 特許庁

In carrying operation performed after hanging up operation of the prize 20 at a position based operation of a control panel 7, the angle of a hook 34A during the carrying operation is variably controlled based on variation pattern data decided by variation pattern drawing processing (S3).例文帳に追加

そして、コントロールパネル７の操作に基づく位置で景品２０の吊上動作の後に行われる運搬動作においては、変化パターン抽選処理（Ｓ３）で決定された変化パターンデータに基づいて、運搬動作中のフック３４Ａの角度が可変制御される。 - 特許庁

To solve the problem, an image processing apparatus converts a targeted pattern into the transmission object when the pattern is determined to be converted into the transmission object after drawing logic sequence decision, drawing region decision and transmission conversion decision are performed.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明は、描画論理順序判定をし、描画領域判定をし、 透過変換判定をおこない、透過に変換すべきと判断された場合に、対象パターンを透過オブジェクトへ変換するパターン変換することを特徴とする。 - 特許庁

A sampling processing part generates an image group consisting of a plurality of intensity-modulated images by sampling the image data at a plurality of relative positions (k=0-3) in the same period as the periodic pattern of the G1 image with the different phases from the periodic pattern.例文帳に追加

サンプリング処理部は、画像データを、Ｇ１像の周期パターンと同一周期で、かつ周期パターンに対して位相の異なる複数の相対位置（ｋ＝０〜３）でサンプリングすることにより、強度変調がなされた複数の画像からなる画像群を生成する。 - 特許庁

A drawing pattern is divided in a data conversion processing circuit 14 based on drawing data, a cross sectional contour of electron beam is formed rectangular in accordance with a drawing pattern after division and the formed rectangular electron beam is projected to a desired position of a drawing material.例文帳に追加

描画データに基づいてデータ変換処理回路１４において描画パターンを分割し、電子ビームの断面形状を分割後の描画図形に応じて矩形に成形し、成形された矩形状の電子ビームを被描画材料の所望位置に投射する。 - 特許庁

Scrambled pattern data, necessary for executing scramble processing to a transport stream for each packet, are preliminarily registered in a scramble pattern table 141 of a scrambler 14, and at the starting of scrambling, a label is transmitted from a scramble controller 13 to a scrambler 14.例文帳に追加

トランスポートストリームに対し各パケット毎のスクランブル処理を実行するために必要なスクランブルパターンデータを、スクランブラ１４のスクランブルパターンテーブル１４１に予め登録しておき、スクランブル開始時に、スクランブル制御装置１３からスクランブラ１４に対しラベルを送信する。 - 特許庁

To simultaneously realize exposure processing for the width of a film carrier tape for mounting multithread electronic parts even on the carrier pattern of the same width or the carrier pattern of different width in accordance with the product wiring patterns of the multiple carrier patterns without exchanging an exposure device.例文帳に追加

露光装置を取り替えることなく、複数のキャリアパターンの製品配線パターンの種類に応じて、同じ幅のキャリアパターンであっても、異なる幅のキャリアパターンであっても、同時に多条電子部品実装用フィルムキャリアテープの幅にわたって露光処理を可能とする。 - 特許庁

Besides, reading the limit speed includes an image processing for completely narrowing a search area for pattern matching from an entire range of the photographed image in the front of the train, and for recognizing a signal in the front of the train by performing pattern matching in real time.例文帳に追加

なお、前記制限速度の読み取りは、列車前方の撮影画面の全領域の中からパターンマッチングのための探索エリアを確実に絞り込み、リアルタイムでパターンマッチングを行って列車前方の信号機を認識することを含む画像処理を含む。 - 特許庁

To provide an image processing technique that prevents a reduction in read rate of digital information in copies of subsequent generations, in copying or scanning a printed material having a specific format pattern (e.g., a barcode pattern) containing digital information.例文帳に追加

デジタル情報を含む特定形式パターン（バーコードパターン等）が印刷された印刷出力物をコピーないしスキャンするに際して、次の世代以降のコピー時におけるデジタル情報の読取率の低下を抑制することが可能な画像処理技術を提供する。 - 特許庁

A computer device includes a display unit laminating a touch panel and a coded pattern layer with a formed coded pattern readable by an electronic pen and processing means for limiting input to the touch panel based on the area of a contact region detected by the touch panel.例文帳に追加

コンピュータ装置は、タッチパネルと、電子ペンで読取り可能なコード化パターンが形成されたコード化パターン層とが積層されたディスプレイ装置と、タッチパネルが検知している接触領域の面積に基づいて、タッチパネルへの入力を制限する処理手段とを備える。 - 特許庁