「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve quality and yield by executing high-accuracy positioning of a substrate for processing in pattern forming processing when a fixing device for placing and fixing the substrate of a plane square shape is disposed and the patterns of prescribed shapes are formed by the prescribed processing on the substrate.例文帳に追加

本発明は平面角形状の基板を載置固定する固定装置を備え、当該基板上に所定の処理により所定形状のパターンを形成するパターン形成処理装置に関し、パターン形成処理における処理基板の高精度な位置決めを行い、品質の向上、歩留りの向上を図る。 - 特許庁

An image processing means 121 changes a method of processing an image (such as changing the mask pattern used in the edge emphasizing process as the image processing) for a read image obtained by a microfilm scanner 110 based on the information on the optical system (such as about the type or the zoom magnification of a projection lens, etc.), of the microfilm scanner 110.例文帳に追加

画像処理手段１２１は、マイクロフィルムスキャナ１１０が有する光学系に関する情報（投影レンズのタイプ又はズーム倍率等）に基づいて、マイクロフィルムスキャナ１１０で得られた読取画像に対する画像処理方法を変更（画像処理としてのエッジ強調処理で使用するマスクパターンの変更等）する。 - 特許庁

To provide an image processing method wherein the total consumption of consumption articles is reduced, while the character quantity of a font part of a printer is maintained by making periodic unevenness, caused by dot thinning processing using a conventional pattern, is less likely to appear, when image density or the consumption of consumption articles is reduced by the dot thinning processing.例文帳に追加

ドットの間引き処理により画像濃度あるいは消耗品使用量を低減する場合、従来のパターンを用いたドットの間引き処理により生じる周期ムラを発生しにくくし、プリンタのフォント部の文字品位を保ったまま、全体の消耗品使用量を低減する画像処理方法を提供する。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus, a photo-catalytic layer 16, which is transparent for ultra-violet and catalyzes photo-degradation of the carbon-based material produced from a resist pattern 11 due to ultra-violet processing, is formed on a surface of a quartz-glass plate 2 dividing an ultra-violet radiation lamp 5 from the processing chamber 4.例文帳に追加

基板処理装置を構成するに際し、紫外線照射ランプ５を処理室４から区分する石英ガラス板２の表面に、紫外光照射処理に伴ってレジストパターン１１から発生した炭素系物質の光分解を触媒する紫外光透過性の光触媒層１６を形成する。 - 特許庁

A frequency band limiting processing unit 26 applies prescribed frequency band limiting processing to the information of the phase difference obtained by the phase difference detecting unit 25, and a measurement result outputting unit 27 outputs a result of the frequency band limiting processing as a pattern depending jitter generated from a measurement object 1 with respect to the data signal Dt.例文帳に追加

帯域制限手段２６は、位相差検出手段２５によって得られた位相差の情報に対して所定の帯域制限処理を行い、測定結果出力手段２７は、帯域制限処理の結果を、データ信号Ｄｔに対して測定対象１が発生したパターン依存性ジッタとして出力する。 - 特許庁

In a cleaning processing of the semiconductor substrate formed with the fine patterns on the surface thereof, the semiconductor substrate is held with the pattern surface thereof facing down in a cleaning processing chamber, vapor is supplied into the cleaning processing chamber to cause water drops to be condensated, and foreign substances between the fine patterns are removed.例文帳に追加

表面に微細パターンが形成された半導体基板を洗浄する処理において、洗浄処理チャンバー内で半導体基板のパターン面を下向きにして保持するとともに、洗浄処理チャンバー内に蒸気を供給して半導体基板表面で液滴を結露させて微細パターンの間の異物除去を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer processing method wherein the reversed warp of a semiconductor wafer can be suppressed even if thinning down the large-sized wafer by a back-grinding process, etc., with respect to the semiconductor wafer processing method for so sticking an adhesive sheet for processing the semiconductor wafer on the pattern surface of the semiconductor wafer as to process the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハ加工用の粘着シートを半導体ウェハのパターン面に貼り付けて、該半導体ウェハを加工する半導体ウェハの加工方法であって、大型ウェハをバックグラインド工程等により薄型化した場合にも、半導体ウェハの逆反りを抑制可能な半導体ウェハの加工方法を提供する。 - 特許庁

A pattern variation determining means of the Pachinko game machine 10 makes a central processing device execute an initializing process for returning a count value to a specific default value at a predetermined specific timing as an interrupt processing and also makes the central processing device execute a process for extracting a drawing value for patterns at a specific timing and at a periodic specific timing thereafter as the interrupt processing.例文帳に追加

ぱちんこ遊技機１０において、図柄変動決定手段は、予め定める特定タイミングにてカウント値を所定の初期値に戻す初期化処理を割込処理として中央処理装置に実行させるとともに、特定タイミングおよびその後の周期的な所定タイミングにてパターン用抽選値を抽出する処理を割込処理として中央処理装置に実行させる。 - 特許庁

The entire region of image data obtained by photographing a target electronically is stored; reference pixels are successively selected from the entire region of image data according to a prescribed pattern; the color information of the reference pixels is discriminated and prescribed statistical processing is executed; and the parameters of prescribed image processing are determined based on the result of statistical processing, thus performing image processing to the image data.例文帳に追加

対象物を電子撮影して得られた画像データの全域を記憶し、画像データの全域から所定のパターンに従って参照画素を逐次選択し、参照画素の色情報を判別して所定の統計処理を実施し、その後、統計処理の結果に基づいて、所定の画像処理のパラメータを決定して、画像データに画像処理を施すようにした。 - 特許庁

A tracking pattern storage means 104 storing a plurality of tracking patterns different in information quantity, a picture data analysis means 101 discriminating the similarity of inputted picture data and a specified picture, a tracking pattern selection means 103 selecting a prescribed tracking pattern from plural tracking patterns based on similarity with the specified picture and a picture processing means 102 overlapping the selected tracking pattern with the picture are installed.例文帳に追加

情報量の異なる複数の追跡パターンを記憶する追跡パターン記憶手段１０４と、入力された画像データと特定画像との類似性を判別する画像データ解析手段１０１と、特定画像との類似性に基づき、複数の追跡パターンから所定の追跡パターンを選択する追跡パターン選択手段１０３と、選択した追跡パターンを画像に重畳する画像処理手段１０２とを備えたものである。 - 特許庁

In this MRI apparatus, a control means for controlling a magnetic field generating means, a detecting means and a signal processing means according to a designated imaging sequence calculates which application time is shortest between inclined magnetic field application pattern using a one step method and application pattern using a two step method, selects an application pattern whose application time is shortest, and performs the imaging sequence according to the selected application pattern.例文帳に追加

ＭＲＩ装置において、所定の撮像シーケンスに基づいて、磁場発生手段、検出手段及び信号処理手段を制御する制御手段は、設定手段で設定された撮像条件において、１ステップ法による傾斜磁場の印加パターンと２ステップ法による印加パターンのうち、いずれの印加時間が最短となるかを計算し、印加時間が最短時間となる印加パターンを選択し、その選択された印加パターンで撮像シーケンスを実行する。 - 特許庁

To find the film thickness distribution of a sample at a high speed without positioning points of measurement and a specific pattern on the sample in finding the in-plane film thickness distribution of the sample by measuring the film thickness of the sample after CMP processing.例文帳に追加

ＣＭＰ加工後、膜厚を計測し面内膜厚分布を求める際、試料上の測定個所及び、特定パターンの位置決めすることなしに高速に膜厚分布を求める。 - 特許庁

In this case, the pachinko game machine performs the drawing processing relating to the winning and losing for the winning to be the operation trigger of the normal motor-driven accessory when a game ball enters the normal pattern start port.例文帳に追加

ここで、このパチンコ機は、普通図柄始動口に遊技球が入球されたとき、普通電動役物の動作契機となる当たりについての当落にかかる抽選処理を行う。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus reading a document according to two types of reading methods with different levels of reading accuracy and highly accurately determining whether or not a predetermined pattern is included in the document.例文帳に追加

読み取り精度の異なる２種類の読取方式で原稿を読み取り、かつ、原稿に所定のパターンが含まれるかどうかを高精度で判断できる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a brain-wave signal processing apparatus allowing a user to recognize that the brain-wave pattern of a donor is flat correctly and speedily on the scene of the legal brain death judgement.例文帳に追加

臓器提供者の脳波が平坦であることの確証が法的脳死判定の現場において正確かつ迅速に得られるようにできる脳波信号処理装置を提供する。 - 特許庁

By stroke drawing means, drawing strokes, specified corresponding to movement of an electronic pen to a writing medium on which a dot pattern is printed, are drawn inside a page of a processing object.例文帳に追加

ストローク描画手段により、ドットパターンが印刷された書き込み媒体に対する電子ペンの移動に応じて特定される描画ストロークが、処理対象のページ内に描画される。 - 特許庁

After depositing a non-doped a-Si film on a lower-electrode pattern subjected to a fine processing, such oxide films as a natural oxide film present on the surface of the a-Si film are removed therefrom by a rare hydrofluoric acid.例文帳に追加

ノンドープａ−Ｓｉ膜が微細加工された下部電極パターン上に堆積された後、希フッ酸でａ−Ｓｉ膜の表面の自然酸化膜などの酸化膜の除去がなされる。 - 特許庁

The frame synchronizing detecting circuit 10 consists of a serial parallel conversion section 1 that converts serial data into parallel data, a register 2, a pattern detection section 3, a frame detecting processing section 4 and an information storage section 5.例文帳に追加

シリアルデータをパラレル変換する直並列変換部１、レジスタ２、パターン検出部３、フレーム検出処理部４及び情報記憶部５によりフレーム同期検出回路１０を構成する。 - 特許庁

To provide a lithography processing method for providing a desired pattern to the target section of the layer of radiation photosensitive materials by using a plurality of exposures and a device manufactured by the method.例文帳に追加

複数の露光を使用して放射線感光材料の層の目標部分に望ましいパターンを提供するリソグラフィ処理方法およびそれにより製造したデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a game machine capable of displaying the situation of a pattern generated inside a virtual three-dimensional space by relatively less processing loads and making the interest of a player last for a long time.例文帳に追加

仮想３次元空間内に発生する図柄の様子を比較的少ない処理負担で表示するとともに、遊技者の面白味を永続させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁

To apply smoothing processing to a color halftone character with a halftone background and a halftone line drawing with a halftone background, such as a photograph without increasing a jaggy detection pattern by preventing the occurrence of voids.例文帳に追加

ジャギー検出パターンを増やすことなく、また、白抜けの発生を防止して、写真などの中間調背景付きカラー中間調文字・中間調線画にスムージング処理を施す。 - 特許庁

To provide a game machine which prevents a player from feeling less eagerness without changing big hit probability concerning pattern change and also without imposing burden on a processing by a main control means.例文帳に追加

図柄変動に関わる大当り確率を変えず、メイン制御手段の処理に負担をかけずに、遊技者の遊技意欲が薄れることを解消することができる遊技機を提供する。 - 特許庁

A presentation method determination part 8 determines the presentation method of support information on the document modification of the second document group storage part 23 on the basis of the processing result of the appearance pattern determination part 7.例文帳に追加

提示方法判定部８は、出現パターン判定部７による処理結果をもとに、第２文書群記憶部２３の文書変更に関する支援情報の提示方法を判定する。 - 特許庁

The first reflecting layer 42 consists of a first metal material, and a second reflecting layer 44 consists of a second metal material having a higher resistance against a pattern processing than the first metal material.例文帳に追加

第１の反射層４２は第１の金属材料からなり、第２の反射層４４は第１の金属材料よりもパターン加工に対する耐性が高い第２の金属材料からなる。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus intended to temporarily modulate the sequence of a source image including a modulation image comprising at least a copy prevention pattern.例文帳に追加

本発明は、少なくとも１つの複写対抗パターンから構成される変調画像を有するソース画像のシーケンスを一時的に変調するように意図された画像処理装置に関する。 - 特許庁

The apparatus 300 has functions of an input section 310, a storage section 320a, a filter processing section 320b, a signal pattern specifying section 320c and a rotation angle detecting section 320d.例文帳に追加

透かし情報検出装置３００は，入力部３１０，記憶部３２０ａ，フィルタ処理部３２０ｂ，信号パターン特定部３２０ｃおよび回転角検出部３２０ｄの機能を有している。 - 特許庁

To provide a laser irradiation apparatus capable of moving an optical pattern formed with interference action of laser light at a high frequency, and hereby of speeding up a processing speed.例文帳に追加

レーザ光の干渉作用によって形成される光パターンを高周波で移動することが可能で、これにより処理速度の高速化を図ることができるレーザ照射装置を提供する。 - 特許庁

When the group number Ngrp is obtained, the controller carries out the processing (S300) to read out the group (Ngrp) of the pattern number Npt already written in the EEPROM region assigned by the group number Ngrp.例文帳に追加

グループ番号Ｎgrp が得られると、グループ番号Ｎgrp で指定されるＥＥＰＲＯＭ領域に既に書き込まれている模様番号Ｎptn の群（Ｎgrp ）を読み出す処理（ステップ３００）を行なう。 - 特許庁

By this input, an electronic controller shifts to pattern number write and read processing and makes affirmative judgment that the input number mn is the number 95 to the number 99 (S230).例文帳に追加

この入力により、電子制御装置は、模様番号書込・読出処理に移行し、ステップ２３０の処理において入力番号ｍｎが９５番乃至９９番であると肯定判断をする。 - 特許庁

Image information converted into a digital amount after preprocessing is subjected to theoretical computation, a differentiating process and a pattern recognition process by an image processing part to check whether or not a human body is present.例文帳に追加

前処理後デジタル量に変換された画像情報は、画像処理部において理論演算、差分処理、パターン認識処理を行い人体存在／不存在の確認を行う。 - 特許庁

To provide an image processing method and its device that can superimpose additional information with visually less sense of incongruity on image information and can decrease an error rate for dot pattern detection in the case of reading the additional information.例文帳に追加

視覚的に違和感の少ない付加情報を重畳でき、付加情報の読み出し時にドットパターン検出の誤り率を低下させた画像処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The character recognizing device extracts the image characteristics of one character segmented, compares it with the character characteristics in a pattern dictionary, and performs character recognition processing for recognizing the characters (Steps S101-S110).例文帳に追加

文字認識装置は切り出した１文字の画像特徴を抽出し、パターン辞書の文字特徴とを比較して、文字認識する文字認識処理を行う（ステップＳ１０１〜Ｓ１１０）。 - 特許庁

To provide a seat belt non-fitting alarm device capable of quickly urging an occupant to fit a seat belt by providing detailed processing regulations when starting an alarm pattern, in a seat belt reminder system.例文帳に追加

シートベルトリマインダシステムにおいて、警告パターン開始時の詳細処理規定を設け、乗員にシートベルトの装着を迅速に促すことができるシートベルト非装着警告装置を提供する。 - 特許庁

A range detected as the defect by image processing is defined by a marking pattern M by the projected image in the area RP among a surface of the workpiece W0 with regard to the projection.例文帳に追加

この投影により、ワークＷ０の表面のうち、画像処理により欠陥として検出された範囲が、領域ＲＰの投影像によるマーキングパターンＭにより明示される。 - 特許庁

In the comparator 43, an alarm is given from an alarm part 44 if the computational result of the process gas supply periodic pattern has agreed the reference result adversely-affecting the processing result.例文帳に追加

比較部４３において、処理ガス供給周期パターンの演算結果と、プロセス結果に悪影響を与える参照結果が一致した場合、アラーム部４４からアラームが発せられる。 - 特許庁

To provide a method and device for processing a substrate wherein a transfer which is an index of an evenness of film-thickness of a resist liquid and fluctuation of line thickness in circuit pattern is prevented.例文帳に追加

レジスト液の膜厚の不均一および回路パターンの線幅の変動の指標である転写を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus which can transfer a pattern with a proper accuracy by suppressing environmental changes even if a liquid outflows to the outside of a substrate when exposure processing is performed using a liquid immersion method.例文帳に追加

液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。 - 特許庁

Thus, the image processing apparatus 2 separately encodes shape information and pattern information of an image element, thereby accomplishing high compressibility while holding edge information of an image element.例文帳に追加

このように、画像処理装置２は、画像要素の形状情報とパターン情報とを分離して符号化することにより、画像要素のエッジ情報を保持しつつ高い圧縮率を実現できる。 - 特許庁

A non-foreground region binarizing step performs binarizing processing on the non-foreground region to divide the non-foreground region into a first candidate background and a first candidate common pattern, and obtains dispersion and average values of each.例文帳に追加

非前景領域二値化ステップは、非前景領域に二値化処理を行って、第１の候補背景と第１の候補共通パターンに分け、それぞれの分散及び平均値を取得する。 - 特許庁

A tool contact state detecting part 320 detects to which classification the pattern of the contact state of the tool tip part and the cutting object belongs, when processing falsedly the cutting object.例文帳に追加

工具接触状態検出部(320)は、被切削物を擬似的に加工したときの工具の先端部分と被切削物との接触状態のパターンがどの分類に属するのかを検出する。 - 特許庁

A variable pattern according to the timing of the start win based on the button operation relative to the big win occurrence timing is selected by a special display command determination processing (S34).例文帳に追加

又、大当たりの発生タイミングに対するボタン操作に基づく始動入賞のタイミングに応じた変動パターンが、特別表示コマンド決定処理（Ｓ３４）によって選定される。 - 特許庁

In this way, a peak power of the pulsed light is changed by changing the pulse duration, thereby positively changing the gray level of the marking pattern without changing the processing speed.例文帳に追加

このように、パルス幅を変更することにより、パルス光のピークパワーが変わるため、加工速度を変更することなくマーキングパターンの濃淡レベルを積極的に変化させることが可能になる。 - 特許庁

When packets received by a data processor in a deep sleep mode correspond to a WOL pattern, a network unit executes shift processing for shifting modes of the data processor from the deep sleep mode to a normal mode.例文帳に追加

ネットワーク部は、ディープスリープモードにおいて受信したパケットがＷＯＬパターンと一致する場合は、データ処理装置をディープスリープモードから通常モードに移行させる移行処理を実行する。 - 特許庁

To provide a substrate processor and processing method in which an appropriate inspection can be carried out in order to suppress variation in the line width of a pattern formed in a film on a substrate.例文帳に追加

基板上の膜に形成されたパターンの線幅の変動を抑制するために適切な検査を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a scanning line interpolation apparatus capable of eliminating improper operations such as interpolation applied to data by bridging over a vertical line and a contour of a pattern when executing interpolation processing in an oblique direction.例文帳に追加

斜め方向の補間処理を行う際に、垂直線や絵柄の輪郭をまたいで補間するなどの不適切動作を無くすことが可能な走査線補間装置を提供する。 - 特許庁