「reference projection」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

If the maximum value in the distance between a point included in a sectional drawing of the EGR inlet 3 on a reference plane and a point included in a vertical projection drawing of the tip end of the EGR inlet 3 onto the reference plane is defined as a maximum occupancy diameter C at an insertion time, an insertion-part opening diameter A is larger than the maximum occupancy diameter C at the insertion time.例文帳に追加

そして、基準平面上のＥＧＲインレット３の切断図に含まれる点と、ＥＧＲインレット３の先端の基準平面への垂直投影図に含まれる点との距離の最大値を挿入時最大占有径Ｃと定義すると、挿入部開口径Ａは挿入時最大占有径Ｃよりも大きい。 - 特許庁

An image of an object and a calibration image are inputted (S1), deformation in code portions of the inputted images due to projection distortion is removed (S2), then the screen coordinates of a reference point are obtained, and internal parameter calculation (S4) of the camera is performed, based on a previously inputted code pattern and on the world coordinate data of the reference point.例文帳に追加

対象物画像とキャリブレーション画像を入力Ｓ１し、投影歪による入力画像のコード部分の変形を除去Ｓ２した後、参照点の画面座標を取得し、予め入力されたコードパターンと参照点の世界座標情報に基づいて、カメラ内部のパラメータ計算Ｓ４を行う。 - 特許庁

Thus, the styluses 304a, 504a do not fall onto the colored layers 101-103 between the partition walls 105 during scanning, the scanning is performed while being in contact with the peaks of the partition walls 105, and with the peak of the partition walls 105 as a reference height, the projection defect FA of the height exceeding the reference height H2 is measured.例文帳に追加

これにより、触針３０４ａ，５０４ａは、走査中に隔壁１０５の間の着色層１０１〜１０３上に落ち込むことがなく、隔壁１０５の頂点に接触しつつ走査され、隔壁１０５の頂点を基準高さとして、この基準高さＨ２を越える高さの突起欠陥ＦＡを測定する。 - 特許庁

In a resin optical element component manufactured by molding with a mold, positioning reference faces 6a and 6b to position the optical element component against the other member, and a projection 7 having a role to prevent the positioning reference face from deformation when the optical element component is released from the mold are included.例文帳に追加

金型を用いた成形加工により製造された樹脂製の光学素子成形品であって、光学素子成形品を他の部材に対して位置決めするための位置決め基準面６ａ，６ｂと、光学素子成形品を金型から離型する際に、位置決め基準面の変形を防止する役割をもつ凸部７とを有する。 - 特許庁

A pattern for measurement configured of a reference phase transmitting part 3e and a phase difference transmitting part 3f whose phase difference with the reference position transmitting part 3e is in a degree other than 180° is projection-exposed to the surface of a semiconductor wafer applied with a resist simultaneously with a pattern to be exposed, and developed so that resist patterns for measurement can be formed.例文帳に追加

基準位相透過部３ｅ及び基準位相透過部３ｅとの位相差が１８０度以外の位相差透過部３ｆで構成された測定用パターンを、露光対象のパターンと同時にレジストを塗布した半導体ウェーハの表面へ投影露光し、現像処理して測定用レジストパターンを形成する。 - 特許庁

Accordingly, the atomic oscillator 100 with high precision is obtained, which is not influenced by the change in luminous intensity of the laser beam when a reference oscillation frequency control means 60 controls the reference frequency of a VCXO 50 based on the intensity of projection light detected by a laser beam detector 30.例文帳に追加

したがって、基準発振周波数制御手段６０によって、ＶＣＸＯ５０の基準周波数をレーザー光検出器３０で検出された射出光の強度に基づいて制御する際に、レーザー光の発光強度の変化に影響されることがなく、高精度な原子発振器１００を得ることができる。 - 特許庁

The projection type display device is equipped with: a reference white signal generation means for projecting a reference white video; and a light quantity control means for individually controlling the light quantity of each color light emitting element under any control out of current control, time-division lighting control and the control of the number of lighting elements or the combination of them.例文帳に追加

基準白色映像を投写するための基準白色信号発生手段と、電流制御あるいは時分割点灯制御あるいは点灯素子個数制御のいずれかあるいはその組み合わせで各色の発光素子の光量を個別に制御する光量制御手段とを備える。 - 特許庁

In the formula, λ_0 represents a reference wavelength in the wavelength region for use; n_0 represents the refractive index of a material constituting the optical element at the reference wavelength; R represents a radius of curvature in the cross section of the groove or the arc cross section of the projection between adjacent grooves; and P represents an interval between adjacent grooves.例文帳に追加

０．０３≦（ｎ_0 ×Ｐ^2 ）／（Ｒ×λ_0 ）≦０．１７ ・・・（１）ただし、λ_0 ：使用波長領域内の基準波長、ｎ_0 ：光学素子を構成する材料の基準波長における屈折率、Ｒ：溝断面あるいは隣り合う溝との間の突起部の円弧状断面の曲率半径、Ｐ：隣り合う溝同士の間隔、である。 - 特許庁

In a traverse chassis 1, a projection 31 is formed to be engaged with the reference hole 21 while the reference hole 21 is arranged to extend in a tangential direction, and oblong hole-shaped through holes 32A to 32C are formed in positions corresponding to the screw holes 22A to 22C to extend in a tangential direction.例文帳に追加

トラバースシャーシ１には、基準穴２１がタンジェンシャル方向に延びるように配置された状態で、基準穴２１に係合する突起３１が形成されるとともに、各ねじ穴２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃに対応した位置にそれぞれタンジェンシャル方向に延びる長穴状の貫通穴３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃが形成されている。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus is constituted so that the pattern of an original plate is projected on a substrate through a projection optical system and a liquid so as to expose the substrate, and includes a substrate reference plate arranged on a substrate stage to hold the substrate, and a drive portion to drive a field stop which restricts a measuring light irradiated to the substrate reference plate.例文帳に追加

液浸露光装置は、原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光するように構成され、基板を保持する基板ステージに配置された基板基準プレートと、前記基板基準プレートに照射される計測光を制限する視野絞りを駆動する駆動部とを備える。 - 特許庁

In the aligner with the variable-pattern forming devices 10a to 10e forming transfer patterns and projection optical systems PL1 to PL5 projecting the images of the transfer patterns formed by the forming devices on a photosensitive substrate, the aligner has a reference-mark display means for displaying reference marks in the forming devices and a measuring means for measuring the positions of the reference marks.例文帳に追加

転写パターンを生成する可変パターン生成装置１０ａ〜１０ｅと、前記可変パターン生成装置により生成された転写パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５とを備える露光装置において、前記可変パターン生成装置において基準マークを表示させる基準マーク表示手段と、前記基準マークの位置を計測する計測手段とを備える。 - 特許庁

To provide a shape measurement method and a shape measuring device capable of precisely measuring a shape in a lattice in which luminance distribution is not in a cosine wave and a lattice having an unequal interval by utilizing a number of reference planes for the projection of the lattice.例文帳に追加

多数の基準面を格子の投影に利用して、輝度分布が余弦波状でない格子や不等間隔格子でも精度良く形状計測を行い得る形状計測方法および形状計測装置を提供する。 - 特許庁

Phase difference between a detection phase cycle and a reference phase cycle is detected, based on the image of the periodic pattern 33 by a main control system 23, and based on the detection result, the imaging characteristics of the projection optical system 24 are corrected.例文帳に追加

主制御系２３により、前記周期パターン３３の像に基づく検出位相周期と前記基準位相周期との位相差を検出し、その検出結果に基づいて投影光学系２４の結像特性を補正する。 - 特許庁

By rotating the adjusting pin around the axis of the reference shaft part, the tool holder 10 can be rotated on the basis of the locating hole 4 and the locating projection, and thus the location of the tool holder can be adjusted.例文帳に追加

基準軸部２２の軸芯を中心として調整ピン２０を回転させることにより、位置決孔４及び位置決突起１１を基準として工具ホルダ１０を回転させることができ、その位置を調整することができる。 - 特許庁

Moreover, distances P2, P2' concerning thickness direction K2 between second reference positions N2, N2' provided on each of the outlines 26, 26' and the projection centers M, M' are made to differ between the element 321 of the initial lot and the element 321' of the final lot.例文帳に追加

また、各外郭２６，２６’に設けられる第２の基準位置Ｎ２，Ｎ２’と突出中心Ｍ，Ｍ’との厚み方向Ｋ２に関する距離Ｐ２，Ｐ２’を、初期ロットの素材３２１と終期ロットの素材３２１’とで異ならせている。 - 特許庁

A configurable volumetric representation (58) of some or all of the imaging volume is reconstructed using an imaging geometry configuration (55) estimated based on the reference markers or anatomical features represented in the projection images (53).例文帳に追加

投影画像に表わされている基準標識又は解剖学的特徴に基づいて推定された撮像時幾何学的構成（５５）を用いて撮像容積の一部又は全ての構成可変型容積表現（５８）を再構成する。 - 特許庁

A paintings and calligraphy camera 1 compares a rectangle with the rectangle of the external form of a pedestal 13 whose shape is known beforehand as a reference polygon with a rectangle specified by the contour of a pedestal image to find a projection correction parameter Atp.例文帳に追加

書画カメラ１は、予め形状が既知である台座１３の外形の長方形を基準多角形として、この長方形と台座画像の輪郭によって特定される長方形とを比較して、射影補正パラメータＡtpを求める。 - 特許庁

A recording plane Sxy is defined on an X-Y plane in an X-Y-Z three- dimensional coordinate system, a projection plane Syz on a Y-Z plane and a reference axis R on the Z-axis, and thereby a three-dimensional structure M in an arbitrary shape is defined.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを定義し、任意形状の三次元構造体Ｍを定義する。 - 特許庁

To provide a projection exposure method, in which a circuit pattern is formed at an accurate position even if relative position relation or an arrangement of respective reference marks deviates from a design value, and a decrease in throughput of manufacture of a printed circuit board is small.例文帳に追加

各基準マークの相対的な位置関係や配置が設計値に対して偏移しても回路パターンを的確な位置に形成でき、且つ、プリント基板の製造のスループット低下が少ない投影露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plate image forming device for forming several image points to be arranged on the projection line of an object line by several light sources, at least two of which are arranged at different distances with reference to the object line.例文帳に追加

対象物線の投影線上に配置される複数の画点を、少なくとも２つの光源が対象物線に対し異なる距離を有する複数の光源によって生成する版用画像形成装置を提供する - 特許庁

Projection portions have such a shape, a size, a number, and an arrangement such that contact between the heat dissipating sheet and heat dissipating body is secured without reference to variance in thickness of the heat dissipating sheet and pressing force which is larger than predetermined is not applied to the heat source.例文帳に追加

突出部は、放熱シートの厚さのばらつきにも拘らず、放熱シートと放熱体との接触を確保し、かつ熱源に対する所定以上の押圧力を付与することのない形状、大きさ、数、及び配置を有する。 - 特許庁

The pressurizing part 13c surely brings a projection 63 provided on the reference potential part 62 of the circuit board 15 into contact with the conductive member 16 by energizing the circuit board 15 to the conductive member 16 by the elastic force of the elastic member.例文帳に追加

押圧部１３ｃは、弾性部材の弾性力により回路基板１５を導電性部材１６に付勢することで、回路基板１５の基準電位部６２に設けられた突起６３を導電性部材１６に確実に接触させる。 - 特許庁

A cabinet for projection-type television system includes the structure which is integrally formed for fitting an optical element, the structure for mechanically arranging the important optical elements of the television system, and an integrated reference surface.例文帳に追加

本発明の投写型テレビジョンシステム用のキャビネットは、光学要素を取付けるための、一体に成形された構造と、テレビジョンシステムの重要な光学要素を互いに機械的に整列させる構造と一体にされる基準表面とを含む。 - 特許庁

METHOD OF GENERATING ESTIMATED INVERSE MATRIX OF REFERENCE MATRIX, METHOD OF SIMULATING FIRST PROJECTED IMAGE FROM FIRST PROJECTOR USING SECOND PROJECTED IMAGE FROM SECOND PROJECTOR, METHOD OF GENERATING PROJECTED IMAGE AND PROJECTION SYSTEM例文帳に追加

基準行列の推定逆行列を生成する方法、第２のプロジェクタからの第２の投影画像を用いて第１のプロジェクタからの第１の投影画像をシミュレートする方法、投影画像を生成する方法および投影システム - 特許庁

A positioning projection part 25 is provided at a position clamping the grip part 23 of the mounting reference part 22 and an annular lip 29 having a distal end slide-contacted with an outer peripheral surface of the wiper shaft 12 is projectedly provided in an inner peripheral surface of a hollow part of the covering part 28.例文帳に追加

取付基準部２２の摘み部２３を挟んだ位置には位置決め凸部２５を設け、被覆部２８の中空部の内周面には先端がワイパシャフト１２の外周面に摺接する環状リップ２９を突設する。 - 特許庁

Both of an exposure apparatus having a reflective refractive projection optical system and an exposure apparatus having a refractive projection optical system can aligne a reticle by using a part of reference marks M11 to M26 and alignment mark image S11a to S28a, so that the same reticle can be commonly used for both of the exposure apparatuses.例文帳に追加

反射屈折系の投影光学系を有する露光装置と屈折系の投影光学系を有する露光装置のいずれにおいても、基準マークＭ１１〜Ｍ２６及びアライメントマークの像Ｓ１１ａ〜Ｓ２８ａの一部を用いたレチクルの位置合わせを行うことができるので、両露光装置において同一のレチクルを共用することが可能となる。 - 特許庁

The hollow section 22a is formed so that a projection 14b projecting exceeding the reference thickness of the optical disk 12 does not interfere with the trays 21, thus storing an optical disk 12B having a small diameter stored in the adaptor 14 in the trays 21 even if the projection 14b projects from the adaptor 14.例文帳に追加

この中空部２２ａは、光ディスク１２の基準厚みを超えて突出している凸部１４ｂがトレイ２１と干渉しないように形成されているので、例えば、アダプタ１４に収容された小径の光ディスク１２Ｂをトレイ２１に収納する際に、アダプタ１４から凸部１４ｂが突出していても収納することができることになる。 - 特許庁

Each light source unit reflects light from the light-emitting elements 24A, 24B arranged upwards on reference axes Ax1a, Ax1b extending in directions inclining toward the front of the lighting fixture closer to an optical axis Ax1, by reflectors 26A, 26B toward the front closer to the reference axes, and the efficiency of incidence to the projection lens is increased.例文帳に追加

各光源ユニットは、灯具前方へ向けて光軸Ａｘ１寄りに傾斜した方向に延びる基準軸Ａｘ１ａ、Ａｘ１ｂ上において上向きに配置された発光素子２４Ａ、２４Ｂからの光を、リフレクタ２６Ａ、２６Ｂにより前方へ向けて基準軸寄りに反射させる構成とし、投影レンズへの入射効率を高める。 - 特許庁

Then, after the collimator lens 14 is moved to a side opposite to the housing reference surface 10b side of the collimator lens position adjusting unit 20 along the optical axis, the collimator lens position adjusting unit 20 is rotated around a projection 23a between the unit and the housing reference surface 10b so that the center position of the collimator lens 14 matches the optical axis.例文帳に追加

次に、コリメートレンズ１４を光軸に沿ってコリメートレンズ位置調整ユニット２０のハウジング基準面１０ｂ側とは反対側に移動させた後、コリメートレンズ１４の中央位置が光軸と一致するように、コリメートレンズ位置調整ユニット２０を、ハウジング基準面１０ｂとの間の突起２３ａを回転中心として回転させる。 - 特許庁

The luminance value of the reconfigured image is calculated by using the image data mapped by a projection converting part 8, and the reference range of the mapping data used when calculating a luminance value is changed to a direction where the range is reduced according to the edge information.例文帳に追加

射影変換部８で写像された画像データを用いて再構成画像の輝度値を算出するが、輝度値を算出する場合に用いる写像データの参照範囲を、上記エッジ情報により縮小する方向に変更させる。 - 特許庁

In the stereo system to determine a distance data by a coordinate processing of taken images by cameras placed in different directions of the line of sight thereof to an object to be measured, an irradiation image of a projection means placed on the side of a camera 2 is taken by a camera 1 (reference camera).例文帳に追加

計測対象に対して異なる視線方向に配置したカメラの撮り込み画像の対応付け処理により距離データを求めるステレオ法において、カメラ２側に配置した投光手段の照射画像をカメラ１（基準カメラ）で撮り込む。 - 特許庁

The molded plain roof tile substrate 55 is contracted in a drying process, but in the result of contraction, only the projection part is projected to the further rearward side than the reference plane to be the target of the bottom part end surface 14 of the plain roof tile substrate 55.例文帳に追加

この成形された平瓦素地５５は乾燥工程において収縮するが、収縮の結果突出部のみが平瓦素地５５の同尻部端面１４が目標とする基準平面よりも後方側に突出するようになっている。 - 特許庁

In an object display device 1, an object reference position is arranged in a horizontal two-dimensional coordinate system based on positional information, and an object is arranged, based on the arrangement position in the horizontal two-dimensional coordinate system, in a corresponding projection plane small area.例文帳に追加

オブジェクト表示装置１では、オブジェクト基準位置が位置情報に基づき水平面２次元座標系に配置され、更に水平面２次元座標系における配置位置に基づき対応する投影面小エリアにオブジェクトが配置される。 - 特許庁

To acquire the positional relationship between an X-ray tube and a detector, the positional relationship between the X-ray tube and a reference tomographic plane and a parameter such as an X-ray projection direction to easily grasp the positional relationship between them in an imaging space at every radiation imaging apparatus.例文帳に追加

Ｘ線管と検出器との間の位置関係、Ｘ線管と基準断層面の位置関係、更にはＸ線投影方向などのパラメータを取得して、それらの撮像空間内の位置関係を装置毎に容易に把握する。 - 特許庁

Then, based on the inner parameter and each picked up image of the reference camera, the image of a plane position that has been picked up is estimated, and a projection matrix to the detection camera is calculated based on the parameter of the plane position and each picked up image of the detection camera.例文帳に追加

次いで、基準カメラの内部パラメータ及び各撮像画像を基に、撮像した平面位置を推定して、この平面位置のパラメータ及び検出カメラの各撮像画像を基に、前記検出カメラへの投影行列を算出する。 - 特許庁

A recording surface Sxy is set on a XY plane in an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz is set on a YZ plane, a reference axis R is set on a Z axis and a three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁

An angle of the projection part extending in the oblique inner direction is set in a range of 30-60° to a reference line parallel to a wheel rotary shaft, and the most excellent drag is indicated in a range of 30-75° in the direction of applying force when set in 45°.例文帳に追加

前記斜め内方方向に延びる突出部の角度はホイール回転軸に平行な基準線に対して３０°〜６０°の範囲に設定され、４５°に設定した場合には力のかかる方向が３０°〜７５°の範囲で最も優れた抗力を示す。 - 特許庁

A view point V is provided with an offset from a reference position QC on the vertical line, and the view point V is moved along an arc so that the view line in observation of the display object area OA from the view point V through the projection area PA passes the vertical line.例文帳に追加

視点Ｖには、鉛直線上の基準位置ＱＣからオフセットをもたせ、視点Ｖから投影用領域ＰＡを通して表示対象領域ＯＡを見たときの視線が前記鉛直線を通るように視点Ｖを円弧状に移動させる。 - 特許庁

To provide an optical unit, realizing further miniaturization and suitably used for mobile equipment as an optical unit, in particular, in a unit where other optical parts must be accurately arranged with reference to a projection lens used in a projector or the like.例文帳に追加

本発明は、光学ユニット、特にプロジェクタ等に用いる投影レンズに対して他の光学部品を、高精度に配置することが必要なユニットにおいて、モバイル用途に適したより小型化を達成した光学ユニットを提供することを目的とする。 - 特許庁

And, in the case the optical axis of the projection optical system is shifted from a reference axis drawn from the center of an original image formed by the image forming element to the center of the projected image, the light within a detection range set around the light receiving area is received.例文帳に追加

そして、投射光学系の光軸が、画像形成素子に形成された原画像の中心から投射画像の中心に至る基準軸に対してシフトしている場合に、受光周辺に設定された検出範囲からの光を受光させる。 - 特許庁

When the projection region is not in the dummy exposure region located in the periphery of the substrate S, the SLM driving device 25 scans the selection range of a dimming element including a drive target at reference scanning intervals tailored to scanning of the substrate S.例文帳に追加

ＳＬＭ駆動装置２５は、投影領域が基板Ｓの外周部に位置するダミー露光領域以外にあるとき、基板Ｓの走査に合わせた基準走査周期で駆動対象が含まれる調光要素の選択範囲を走査する。 - 特許庁

A three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set by setting a recording surface Sxy on an XY plane of an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz on a YZ plane, and a reference axis R on a Z axis.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁

The projection lens is moved in parallel to the optical axis to shift a projection position and the 1st condenser lens is made eccentric with the reference optical axis as the projection lens moves to vary the angle of illuminating incidence on the DMD.例文帳に追加

光源からの光を第１の集光レンズ及び第２の集光レンズによりＤＭＤに導き、その光をそのＤＭＤで反射させる事により光変調を行い、その光変調された光を投影レンズにより投影するプロジェクター用光学系において、前記投影レンズを光軸と平行に移動させることにより投影位置をシフトさせ、その投影レンズの移動に合わせて前記第１の集光レンズを基準光軸に対して偏心させて、前記ＤＭＤへの照明入射角度を変える構成とする。 - 特許庁

A camera image within the output extent of an image output device 3 is inputted from an image input device 2 to a projection controller 1, the color of the inputted camera image is corrected by an object detecting means 11 by using a projection image outputted from the image output device 3, then, an object as the output destination of the information is detected with reference to the color-corrected image.例文帳に追加

画像入力装置２から画像出力装置３の出力範囲のカメラ画像をプロジェクション制御装置１に入力し，対象物検出処理手段１１が，画像出力装置３から出力されているプロジェクション画像を用いて前記入力されたカメラ画像を色補正し，色補正された画像に対して情報の出力先となる対象物を検出する。 - 特許庁

A rotation matrix and a translational vector between a standard camera 12 and a reference camera 14 are read from a parameter storage part 26, and the projection conversion matrix capable of superposing road plane areas contained in images taken by the standard camera 12 and the reference camera 14 is calculated by use of the rotation matrix and the translational vector.例文帳に追加

基準カメラ１２及び参照カメラ１４間の回転行列及び並進ベクトルをパラメータ記憶部２６から読み出し、射影変換行列算出部２８において、前記回転行列及び前記並進ベクトルを用いて、基準カメラ１２及び参照カメラ１４によって撮像された画像に含まれる道路平面領域を重畳させることのできる射影変換行列を算出する。 - 特許庁