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reference projectionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 350件
An ECU 5 as a controlling means identifies the compression stroke of the engine 1 according to the magnitude of the output fluctuation width of the generator 6 in a prescribed crank angle range determined by a reference signal 3a of a reference signal generating means comprising a projection 2a, a detecting part 3 and a waveform shaping part 4, and then outputs an ignition signal to the engine 1.例文帳に追加
このことから、制御手段としてのECU5は、突起部2a、検出部3、および波形整形部4よりなる基準信号発生手段の基準信号3aによって決定された所定のクランク角度範囲内における、発電機6の出力変動幅の大きさに基づいてエンジン1の圧縮行程時を識別し、エンジン1に対し点火信号を出力する。 - 特許庁
The distortion parameter of each camera is estimated by an image that is picked up at least three viewpoints without any spatial position restraint by reference and detection cameras, and at the same time each projection conversion matrix for projecting each picked up image to a virtual plane is calculated.例文帳に追加
基準カメラと検出カメラによって空間的な位置拘束のない3以上の視点で撮像した画像を用いて各カメラの歪みパラメータを推定するとともに、各撮像画像を仮想平面へ射影する各射影変換行列を算出する。 - 特許庁
To provide a liquid-crystal projector in which the place of an image projection need not be adjusted again after a correction by conducting the trapezoidal correction so as to be conformed to the place of a screen by selecting an upper end or a lower end at a corrected reference end in the case of the trapezoidal correction.例文帳に追加
台形補正する際、補正する基準端を上端または下端を選択可能にしてスクリーン位置にあわせるように台形補正を行うことによって補正後に再度画像投射位置の調整を行う必要がない液晶プロジェクタを提供する。 - 特許庁
A system for measuring the position of a projection system PL with respect to a reference frame RF in the lithographic system includes a sensor rigidly mounted in relation to a corresponding sensor of a system for measuring the position of a substrate table WT.例文帳に追加
リソグラフィック投影装置における、基準フレームRFに対する投影システムPLの位置を測定するための測定システムは、基板テーブルWTの位置を測定している測定システムの対応するセンサに関連して堅固に取り付けられたセンサを備えている。 - 特許庁
When a bead base line is made as a reference, a ratio (Hc/Hm) of the height Hc in a radial direction to the center of the projection 24 to the height Hm in a radial direction up to a point of the axially maximum width of a side surface 64 is 0.35 or more and less than 0.45.例文帳に追加
ビードベースラインが基準とされたとき、この突起24の中心までの半径方向高さHcの、この側面64の軸方向最大幅となる点までの半径方向高さHmに対する比(Hc/Hm)が、0.35以上0.45未満である。 - 特許庁
The vapor deposition area of the reflection material is set in two positions, that is, an area matching a light projection window for projecting a laser beam in an optical distance sensor and an area matching a light receiving window in the optical distance sensor receiving a measurement light reflected from a measurement reference point of a rail.例文帳に追加
なお、反射材の蒸着範囲は、光式距離センサのレーザ光を投光する投光窓に対応した範囲とレールの測定基準点から反射した測定光を受光する光式距離センサの受光窓に対応した範囲の2箇所とした。 - 特許庁
A distance (h) between the opening 5 and the reference mark 1 is a size slightly larger than a converging angle of a rectangular beam EB1 at a projection lens 15 of a lower stage at an expecting angle of an opening edge 5a from the mark 1.例文帳に追加
ビーム制限開口5とナイフエッジ状基準マーク1との間の距離hは、ナイフエッジ状基準マーク1から開口端縁5aを見込む角が、下段の投影レンズ15における矩形ビームEB1の収束角よりも僅かに大きくなる寸法とする。 - 特許庁
By using a tip surface 15 of a tip 11 of an insulator 1 as a reference in the direction of an axial line O, a projection amount D by which a tip surface 22 of a tip 21 of a center electrode 2 is projected toward the tip direction is set to -0.5 to 0.3 mm.例文帳に追加
軸線O方向において、絶縁碍子1の先端部11の先端面15を基準とし、中心電極2の先端部21の先端面22が先端方向に向けて突出した突出量Dを−0.5mm以上0.3mm以下とした。 - 特許庁
By fitting a projection of a cleaning holder of the dust screening part 7 into a recess in a lid of the dust cup, the dust screening part 7 is positioned in the circumferential direction relative to the lid of the dust cup, and the reference ribs 8a are disposed on the upstream side of the air flow relative to the window 5a.例文帳に追加
ダスト仕切り部7のクリーニングホルダの突起をダストカップ蓋の凹部に嵌め込むことで、ダスト仕切り部7のダストカップ蓋に対する周方向の位置決めがされて、基準リブ8aが窓5aに対して空気の流れの上流側に配置される。 - 特許庁
This support arm 122 has a reference groove 149, on the basis of which the support arm 122 is positioned along the length by inserting a positioning projection for positioning a base plate 12 on the support arm 122, at the base part and also has a positioning guide hole 150 into which a guide projection for guiding the lengthwise position of the support arm 122 is inserted to guide the lengthwise position.例文帳に追加
支持アーム122には、この支持アーム122に対するベースプレート123の位置を位置決めするための位置決め突起が挿通されて、支持アーム122の長手方向の位置を位置決めする基準となる位置決め基準溝149が基部に形成されるとともに、支持アーム122の長手方向の位置をガイドするためのガイド突起が挿通されて長手方向の位置をガイドする位置決めガイド穴150が形成される。 - 特許庁
In the measurement apparatus provided to the exposure apparatus, a CCD camera 9 that is an intensity distribution measurement means measures the intensity distribution of reference light in such a state not transmitted through a projection optical system 6, from reflected light from a concave spherical mirror 13 and reflected light from a rotating spherical object 10.例文帳に追加
露光装置に備え得る測定装置は、凹球面状ミラー13からの反射光および回転する球状物体10からの反射光から、強度分布測定手段であるCCDカメラ9により、投影光学系6を透過しない状態の基準光の強度分布を測定する。 - 特許庁
When the pattern of a reticle R is exposed to light via a projection optical system PL, the position of the reference marks 34A and 34B is detected by TTL-system reticle alignment microscopes 5A and 5B, and a wafer stage 23A is driven based on the detection result and the relative position being obtained before.例文帳に追加
レチクルR1のパターンを投影光学系PLを介して露光する際には、TTL方式のレチクルアライメント顕微鏡5A,5Bによって基準マーク34A,34Bの位置を検出し、この検出結果と先に求めた相対位置とに基づいてウエハステージ23Aを駆動する。 - 特許庁
To provide a method of an absolute measurement of an angular intensity distribution when lighting beam is emitted from an illuminator, without the need for other reference and calibration, because lighting intensity of the lighting beam created by the illuminator of a lithography projection apparatus must be the same all over the angles.例文帳に追加
リソグラフィ投影装置の照明器が作る照明ビームの照明強度は、全ての角度に亘って同じであるべきであるので、この照明ビームが照明器を離れるときの角強度分布を、他の基準も較正も必要ない、絶対測定をする方法を提供する。 - 特許庁
Then a light receiving means 8 detects the synthesis light on the basis of emission timing of the reference pulse lights to discriminate the presence of an object 100 to be detected on an optical path 24 formed between the light projection section 7 and the light receiving means 8 and provides an output of a discriminated result as a detection signal.例文帳に追加
そして、受光手段8において基本パルス光の出射タイミングに基づいて合成光を検出することにより、投光部7及び受光部8間に形成される光路24上の被検出物100の有無を判定し検出信号として出力する。 - 特許庁
Each projection 14 formed on the emitting surface is formed into a cross-sectionally wedge-like shape composed of three slope parts formed by being tilted with respect to a horizontal reference surface z of the emitting surface, and comprises a first slope 14a, a second slope 14b and a third slope 14c.例文帳に追加
出射面に形成された突条14は、出射面の水平基準面zに対して傾斜して形成された3面の斜面部により構成された断面略くさび状のもので、第1斜面14aと、第2斜面14bと、第3斜面14cとされている。 - 特許庁
In regard to a region where a door glass DG in a reference position in the vehicle width direction is positioned inside the main body part 11, a tip portion on a face opposite to a glass sliding contact face of the vehicle internal seal lip 13 in the region is set to abut on the projection part 21.例文帳に追加
車幅方向において基準位置にあるドアガラスDGが本体部11の内側に位置している部位に関し、当該部位における車内側シールリップ13のガラス摺接面とは反対側の面の先端部位と、凸部21とが当接するよう設定されている。 - 特許庁
A plumb bob wire 13 suspended from a support arm 12 is disposed between the detecting body 5 and the position detector 8 in a horizontal projection plane so that a distance between the plumb bob wire 13 and the position detector 8 and a distance between the plumb bob wire 13 and the detecting body 5 are measured in a landing 7 to be a reference.例文帳に追加
支持腕12から吊下した下げ振り線13を水平投影面において検出体5及び位置検出器8の間に配置し、基準となる乗場7において下げ振り線13と位置検出器8の間及び下げ振り線13と検出体5の間の距離を測定する。 - 特許庁
To realize three-dimensional inputting without recourse to angle-of- incidence information on a reference light, to make computation for obtaining the angle-of-incidence information unnecessary, and besides to increase precision of three-dimensional input data when precision of the angle-of-incidence information is lower compared with angle-of-projection information.例文帳に追加
参照光の入射角度情報によらない3次元入力を実現し、入射角度情報をえるための演算を不要にするとともに、投射角度情報と比べて入射角度情報の精度が低い場合における3次元入力データの精度の向上を図る。 - 特許庁
The reflection mirror (4) includes a plane mirror part (4a) for reflecting an image projected to the upper part of the translucent screen (3) with reference to the image emitted from the projection lens (2), and a fresnel mirror part (4b) with a plurality of reflection prisms so as to reflect the image projected to the lower part of the translucent screen (3).例文帳に追加
この反射ミラー(4)は、投写レンズ(2)から出射される映像のうち、透過型スクリーン(3)の上方に投写される映像を反射する平面ミラー部(4a)と、下方に投写される映像を反射するための、複数の反射プリズムが形成されたフレネルミラー部(4b)とを含む。 - 特許庁
An angle α of an inclined surface 13 of the projection part 14 formed with a reference horizontal surface Q crossing the cylinder center axis P is set larger than the angle α2 formed by a lower edge F2 of the fuel spray F injected from the fuel injection valve 12 near the top dead center of compression.例文帳に追加
シリンダ中心線Pに直交する基準水平面Qに対し、突起部14の傾斜面13のなす角度αを、圧縮上死点付近で燃料噴射弁12から噴射される燃料噴霧Fの下縁F2のなす角度α1よりも大きく設定する。 - 特許庁
A projection 40b allowed to collide with the one-end part of the wire 9 before colliding with a body casing 2 when the 1st and 2nd scanning optical units 4, 5 are moved over the reference positions is formed on a 1st scanning frame body 40 of the 1st scanning optical unit 4.例文帳に追加
第1の走査光学系ユニット4における第1の走査枠体40には、第1、第2の走査光学系ユニット4、5が基準位置を超えて移動された際であって本体筐体2に衝突する前に、ワイヤ9の一端部に衝突する突起40bが形成されている。 - 特許庁
Since the fixing plate 132 is fixed by the reinforcing layer by embedding a liner side plate 134 being its projection source in the reinforcing layer 122, the high pressure gas tank 100 defines a position of the fixing plate 132 to a tank position reference such as a tank external shape or its axis.例文帳に追加
固定プレート132は、その突出元であるライナー側プレート134が補強層122に埋没して当該補強層により固定されていることから、高圧ガスタンク100は、タンク外形或いはその中心軸といったタンク位置基準に対する固定プレート132の位置を規定する。 - 特許庁
With magnet units 22A-22C, etc., magnet units 24A and 24B, etc., and magnet units 26A and 26B, etc., a projection optical system PL, mask stage devices RST and 16, and substrate stage devices WST and 18 are supported in non-contact to a reference structure body, respectively.例文帳に追加
磁石ユニット(22A〜22C等)、磁石ユニット(24A、24B等)及び磁石ユニット(26A、26B等)により、投影光学系PL、マスクステージ装置(RST、16)及び基板ステージ装置(WST、18)が、それぞれ基準構造体14に対しが非接触で支持されている。 - 特許庁
In a surface vertical to an optical axis OA of the lens 10, an absolute value of an angle range where each projection 22 can contact to the outer peripheral surface 14 of the lens 10 as seen from the original point O that is the center of the lens 10, is set from 5 degrees or more to 40 degrees or less with reference to the Z-axis.例文帳に追加
レンズ10の光軸OAに垂直な面において、レンズ10の中心である原点Oから見た、各突出部22がレンズ10の外周面14と接触し得る角度範囲の絶対値はZ軸を基準として5度以上40度以下に設定されている。 - 特許庁
Respective screens are adjacently arranged and fixed on one and the same plane by aligning the direction of the display planes so that the interval of corresponding fibers arranged on the outermost periphery of individual adjacent projection system screens is the reference pitch P to form a composite rectangular display plane.例文帳に追加
このようなスクリーンを、隣接する個々のプロジェクションシステム用スクリーンの最外周に位置し対応するファイバ同士の間隔が前記基準ピッチPとなるように、表示平面の向きを揃えて同一平面上に各スクリーンを近接して配置・固定して矩形の複合表示平面を形成する。 - 特許庁
The opposed two sides 6a, 6b of the pattern 3 incline with respect to a reference side 4a of the circuit board 1, and the projection lengths of the sides 6a, 6b to a vertical side 4b, i.e., the inclination fraction H' is set equal to the pixel size or integral multiple thereof.例文帳に追加
このアライメントマーク3の対向する平行な2辺6a,6bは電気回路基板の基準辺4aに対して傾斜し、これら辺6a,6bの垂直辺4bへの投影長、即ち、傾斜量H’を画素サイズにほぼ等しくもしくはその整数倍程度とする。 - 特許庁
At least one element selected from a group of mask table MT, substrate table WT, projection system PL and isolated reference frame MF is surrounded at least partially and at least one temperature control member VC, TE, TB for controlling the temperature of the surrounded elements is included.例文帳に追加
マスクテーブルMT、基板テーブルWT、投影システムPLおよび隔離した基準フレームMFからなる群から選択した少なくとも1個の要素を少なくとも部分的に囲み、囲まれた要素の温度を制御する少なくとも1個の温度制御部材VC,TE,TBを含む。 - 特許庁
Sampling data from an A/D converter 7 are stored in a storage means 9 as reference data in plural sampling timings within a prescribed period including the light projection period under a detection condition of a detected object 5 in an environment not affected by the interference light in a setting operation.例文帳に追加
設定動作時は干渉光の影響を受けない環境における被検出物体5の検出状態で、投光期間を含む所定期間における複数のサンプリングタイミングでA/Dコンバータ7からのサンプリングデータを基準データとして記憶手段9に記憶する。 - 特許庁
The hologram screen 11 is obtained by irradiating a recording medium 100 with reference light LR in hologram screen recording, that is, non-diffused light, as the light emitted from a zoom lens (combination lens) 90 comprising a plurality of lenses, used in a video projection device.例文帳に追加
本発明に係るホログラムスクリーン11は、ホログラムスクリーン記録における参照光LR、すなわち非拡散光を、映像投影装置に使用される複数枚のレンズからなるズームレンズ(組合せレンズ)90からの出射光として記録媒体100に照射することで得られる。 - 特許庁
The projection display device is equipped with a drawing means of generating drawing information based upon the display information, an imaging means of imaging the information on the displayable area on an imaging surface, a position measuring means of measuring positions of imaging points of the respective reference standard points, and a distance measuring means of measuring distances between the reference standard points and imaging surface.例文帳に追加
投射表示装置は、表示情報に基づいて描画情報を生成する描画手段と、描画情報を表示可能領域に投射表示する投射手段と、表示可能領域上の情報を撮像面上で撮像する撮像手段と、各参照基準点の撮像点の位置を測定する位置測定手段と、各参照基準点と撮像面との距離を測定する距離測定手段とを備える。 - 特許庁
The image registration method for performing accurate registration between a reference image and an attentive image in a time-series image of an object comprises setting a predetermined area on the reference image an attention area; and estimating, at the time of registration, a motion parameter based on the pixel of a mask image showing an area accurately registrable by planar projection conversion within the set attention area.例文帳に追加
対象を撮影した時系列画像中の参照画像と注目画像との間に高精度なレジストレーションを行う画像レジストレーション方法であって、参照画像上の所定の領域を注目領域に設定し、レジストレーションを行う際に、設定された注目領域内で、平面射影変換によって正確にレジストレーションできる領域を表すマスク画像の画素に基づき、モーションパラメータを推定する。 - 特許庁
The device includes a stimulating electrode pricked in one area and electrically stimulating, a measuring electrode for measuring the evoked potential from one area, a reference electrode for measuring brain activity from the other area different from the measuring site of the evoked potential, and a data analyzing section for analyzing data by taking in measured potentials from the measuring electrode and the reference electrode, while focusing on two areas anatomically having projection relation in the brain.例文帳に追加
本発明は、脳内で解剖学的に投射関係を持つ2領域に着目し、一方の領域に刺入して電気刺激を行う刺激電極と、一方の領域から誘発電位を計測する計測電極、及び該誘発電位の計測部位とは異なる他方の領域からの脳活動を計測する参照電極と、計測電極及び参照電極それぞれからの計測電位を取り込み、データを解析するデータ解析部とを備える。 - 特許庁
An angle α', formed between the reference face 10a and respective reflective faces 12a, is adjusted to correspond to a distance R between an optical center CL of the Fresnel lens form and the centers of the respective reflective parts 12 so as to reflect the projection light 11a from the projector 11 toward a prescribed position Pe.例文帳に追加
投射装置11からの投射光11aを所定の位置Peに向かって反射させるように、基準面10aとそれぞれの反射面12aとのなす角度α’が、フレネルレンズ形状の光学的中心CLとそれぞれの反射部12の中心との間の距離Rに対応して調整される。 - 特許庁
A plurality of displacement points Tf displaceable only in respective given radial directions is set about a reference point (center point Ob) of the ball B, and a given number of displacement points Tm are set in descending order of distance on feature projection portions of the combined objects E.例文帳に追加
この際、球B内の基準点(中心点Ob)を取り囲むようにして、それぞれ所定の放射方向にのみ変位する複数の変位点Tfを設定し、結合されている配置物Eの特徴的な出っ張り部位のうち、最も離れている部位から順に所定数に変位点Tmを設定する。 - 特許庁
A magnetoresistive effect element is provided with a first reference layer 2c fixing a magnetization direction; and a storage layer 2e having a body 3 in which a magnetization easy axis direction is longer as compared with a magnetization difficult axis direction, and a projection part 4 provided in the magnetization difficult axis direction of the center part of the body part, and changing a magnetization direction in response to an outside magnetic field.例文帳に追加
磁化方向が固定される第1の基準層2cと、磁化容易軸方向が磁化困難軸方向に比べて長い本体部3およびこの本体部の中央部の磁化困難軸方向に設けられた突出部4とを有し、外部磁界に応じて磁化方向が変化する記憶層2eを備えている。 - 特許庁
A collimated radiation detector 50 is constituted in such a way that it is arranged at a certain angle with reference to the coincidence radiation detectors 32, 34, and that it detects a single photon radiation advancing along a selected projection path decided by a collimator 52 attached to the front face of the collimated radiation detector 50.例文帳に追加
コリメート式の放射線検出器(50)は、一致放射線検出器(32,34) に対してある角度で配置され、コリメート式の放射線検出器(50)の前面に取り付けられたコリメータ(52)により決定される選択された投影経路に沿って進行する単一光子放射線を検出するように構成される。 - 特許庁
When the data is acquired in the three-dimensional projection direction, anticipating the object Q to be measured from the best positions with reference to the object Q to be measured, the position resolution of the acquired data is enhanced, the influence of the scatterer and the absorber is reduced, and satisfactory data can be obtained.例文帳に追加
このように、測定対象物に対する最良の位置から、当該測定対象物を見込む三次元の投影方向においてデータ収集を行うことで、収集されるデータの位置分解能を向上させ、且つ、散乱・吸収体の影響をより低減して良好なデータを得ることができる。 - 特許庁
Engaging the projection 211 of the running body 21 with the engagement section 132 of the CIS unit 10 can align the running body 21 of the CIS unit 10 in the main scanning direction so as to set a mount position reference of the CIS unit 10 with respect to the scanning body 21 to be the center of the image in the main scanning direction.例文帳に追加
そして、走行体21の突起211をCISユニット10の係合部132に係合させることにより、CISユニット10の走行体21に対する主走査方向の位置決めが行われ、CISユニット10の走行体21に対する実装位置基準を主走査方向画像中心とすることができる。 - 特許庁
A projection position coordinate acquisition part 76 acquires the position coordinate on which each representative point is projected in a map plane perpendicular to the mapping direction in the three-dimensional game space, and a depth acquisition part 78 acquires the depth of each representative point which is obtained by viewing in the mapping direction from the reference point in the three-dimensional game space.例文帳に追加
さらに、投影位置座標取得部76は、3次元ゲーム空間においてマッピング方向に垂直なマップ平面に各代表点を投影した位置座標を取得し、奥行き取得部78は、3次元ゲーム空間において基準点から前記マッピング方向を見たときの各代表点の奥行きを取得する。 - 特許庁
An image processing section 29 is inputted with the image signal, determines reflection intensity data on the basis of the reflected light from the reflection section of the mask 26 and decides that the projection quantity of the buffer films is large and that the buffer films are defective when the reflection intensity at the inflection point of the reflection intensity data is below the prescribed reference value.例文帳に追加
画像処理部29は、画像信号を入力し、マスク26の反射部からの反射光を基準として反射強度データを求め、その反射強度データの変曲点における反射強度が、所定の基準値を下回る場合には、バッファ膜の突出量が多いとして不良であると判定する。 - 特許庁
On a reference face 301 on the inner face side of the device in an upper case 3, that constitutes the exterior case of a projection type display device, projecting lines 302, 303 are formed extending along the flowing direction B of a half-molten metal and also, an auxiliary rib 304 is formed across these projected lines 302, 303.例文帳に追加
投写型表示装置の外装ケースを構成するアッパーケース3の装置内面側の基準面301には、半溶融金属の湯流れ方向Bに沿って延びる凸条部302,303が形成されているとともに、この凸条部302,303に交差して、補助用リブ304が形成されている。 - 特許庁
For example, a punch 6 is provided with an engaging groove 23A which is engaged with a projection 15a provided on a movable clamping member 15 of the clamping device 9, wherein the engaging groove 23A is formed into a V-shape having a first slope 25A and a second reference surface 26A which are formed into facial symmetry each other about the center surface 24.例文帳に追加
例えば、クランプ装置9における可動クランプ部材15に設けられた突起15aに係合する係合溝23Aを備えるパンチ6であって、前記係合溝23Aを、中心面24に関して互いに面対称をなす第1の傾斜面25Aと第2の基準面26Aとを有するVの字形状に形成する。 - 特許庁
A control means 8 sets a parameter with which a video signal corresponding to a wavelength region to be detected by one light-receiving sensor is processed by the processing means, on the basis of the output from the one light-receiving sensor when a reference light including the lights of the first, second and third wavelength regions is projected on the projection surface and the output from the other light-receiving sensors.例文帳に追加
制御手段8は、第1、第2および第3の波長領域の光を含む基準光を投射面に投射したときの1つの受光センサからの出力と他の受光センサからの出力とに基づいて、該1つの受光センサが検出する波長領域に対応する映像信号を処理手段で処理するためのパラメータを設定する。 - 特許庁
To achieve the recognition of the symbol, the distance is computed from the phase difference between the reference projection signal emitted to the detection member and the received signal reflected from the detection member and the symbol number previously defined corresponding to the loaded distance data undergoes indexing (distance-symbol conversion TBL) to extract the valid pattern.例文帳に追加
また、図柄認識は、検出部材に対して出射される基準投光信号と検出部材から反射される受光信号との位相差により距離を演算し、取り込まれた距離データに対応してあらかじめ定義された図柄番号を索引(距離−図柄変換TBL)して有効絵柄を抽出することにより行われる。 - 特許庁
To provide a laser marking device capable of adjusting the projection direction easily, capable of fixing and holding a beam projector at a correct position and a correct angle regarding the beam marking device to be used at a building site etc., irradiating an object with a light beam for marking a vertical line or horizontal line indicating the reference for execution.例文帳に追加
建築現場等における対象物に光ビームを照射して施工の基準となる垂直ラインや水平ラインを表示するために使用されるビーム式墨出し装置であって、ビーム投射器を正確な位置及び角度で固定・保持でき、投射方向の調整も簡単に行うことができるレーザー墨出し装置を提供すること。 - 特許庁
To easily and suitably match impedance by simplifying the constitution of a connection part of a high-frequency coaxial connector by forming a projection part of a reference potential layer at a position corresponding to a signal thin line in a recess part around a through hole formed in a surface on the opposite side from a surface where a signal thin line functioning as a microstrip line is formed.例文帳に追加
マイクロストリップラインとして機能する信号細線が形成された面の反対側の面に形成されたスルーホール周囲の逃げ部における信号細線と対応する部位に、基準電位層の凸部を形成することによって、高周波同軸コネクタの接続部を簡単な構成とし、インピーダンスを容易に、かつ、適切に整合させることができるようにする。 - 特許庁
In this mounting structure for mounting a decorative material 12 on building structures 10, 11 via mounting members 13, each of the mounting members 13 has a projection 17 projecting from the back of the mounting member 13 and abutting a portion 23 which serves as the reference for the building structures 10, 11, thus positioning the mounting member 13 itself.例文帳に追加
化粧材12が取付部材13を介して建築構造物10,11に取り付けられる取付構造において、上記取付部材13は、該取付部材13の背面側へ突出する突起部分17が、上記建築構造物10,11の基準となる箇所23に当接されて該取付部材13自体が位置決めされる。 - 特許庁
The openings O, in a reference state where it is retained at a prescribed lie angle and loft angle and grounded on a horizontal surface, include at least three vertically long openings O1 where the opening length L in the front/rear direction of the head in an opening projection shape formed by projecting its outline on the horizontal surface is larger than the opening length W in the toe-heel direction.例文帳に追加
規定のライ角及びロフト角に保持して水平面に接地させた基準状態において、前記開口部Oは、その輪郭を前記水平面に投影した開口投影形状におけるヘッド前後方向の開口長さLがトウ・ヒール方向の開口長さWよりも大きい縦長開口部O1を少なくとも3個含む。 - 特許庁
On this occasion, each light source unit reflects light from the light emitting elements 24A, 24B arranged upwards on reference axes Ax1a, Ax1b extending in directions inclining toward the front of the lighting fixture closer to an optical axis Ax1, by reflectors 26A, 26B toward the front, and the efficiency of incidence to the projection lens is increased.例文帳に追加
その際、各光源ユニットは、灯具前方へ向けて光軸Ax1寄りに傾斜した方向に延びる基準軸Ax1a、Ax1b上において上向きに配置された発光素子24A、24Bからの光を、リフレクタ26A、26Bにより前方へ向けて基準軸寄りに反射させる構成とし、投影レンズへの入射効率を高める。 - 特許庁
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