「reference-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming apparatus which achieves accurate meandering correction control of a belt by avoiding a situation in which a reference mark of the belt is not detected during the meandering correction control of the belt.例文帳に追加

ベルトの蛇行補正制御中にベルトの基準マークが検出されなくなるのを回避して、高精度なベルトの蛇行補正制御を実現することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The recognition mark 2 is located on an X-axis or a Y-axis passing through the mounting position of the flip chip 4 with reference to an X-Y coordinate system set for the mounting board by the mounting position recognizing device.例文帳に追加

また、認識マーク２は、実装位置認識装置により実装基板に対して設定されるＸＹ座標系からみて、フリップチップ４の実装位置を通るＸ軸上又はＹ軸上に配置される。 - 特許庁

Above each of the at least one processed region, a second groove 7 extending in the second direction y is formed with the alignment mark MK as a reference position with respect to the second layer 4.例文帳に追加

少なくとも１つの被加工領域の各々の上において第２層４に対してアライメントマークＭＫを基準位置として、第２方向ｙに沿って延在する第２溝７が形成される。 - 特許庁

An optical sensor 18 for detecting intensity of the exposure light that has at least passed through a reference mark MK for a specified inspection in the reticle 12 is deployed at a prescribed part of the wafer stage mechanism 16.例文帳に追加

ウェハステージ機構１６の所定部には少なくともレチクル１２における所定の検査用の基準マークＭＫを通した露光光の強度を検出するための光センサー１８が配備されている。 - 特許庁

The exposure amount can be properly set according to the result of comparison by determining the reference intensity value with a specified relation with the best exposure amount for exposing the measurement mark PM.例文帳に追加

基準強度値を、計測マークを露光する際のベスト露光量と所定の関係で定めておくことにより、前記の比較結果に基づいて、露光量を適切に設定することが可能となる。 - 特許庁

By detecting the mark 16 arranged to the panel 1 with the detection device 4, the mounting direction of the tab of the panel and the reference direction B are aligned by the angle calculation means 9 and the turning device 5.例文帳に追加

そして、検知装置４によりパネル１に設けられたマーク１６を検知し、角度算出手段９及び回動装置５によりパネル１のタブの取付け方向と基準方向Ｂとを一致させる。 - 特許庁

To perform a real time correction mode without transferring a registration mark to the end of paper even if the paper is fed to be deviated from the reference position of an image forming system.例文帳に追加

用紙が画像形成系の基準位置に対してずれて給紙された場合であっても、用紙の端部にレジストマークが転写されることなく、リアルタイム補正モードを実行することができるようにする。 - 特許庁

A mark is put on a band substrate in a preceding continuous machining process and employed as a reference position when the band substrate is set in a roll-to-roll type system in the subsequent continuous machining process.例文帳に追加

先行する連続加工工程において帯状基板上に印を付し、該印を、後続の連続加工工程において帯状基板をロール・ツー・ロール方式の装置にセットする際の基準位置とする。 - 特許庁

A light component L1, which is a portion of the light of the light source 3, is incident on a reference signal mark 67 of the scale 9 from the light source 3 and is reflected thereby to be received by a second light receiving section 69.例文帳に追加

光源３の光の一部の光成分Ｌ１は光源３側から、スケール９の参照信号用マーク６７に入射し、ここで反射されて第２受光部６９で受光される。 - 特許庁

In the upper illumination, a transmitted light which has penetrated through a insulating rein W' is absorbed by the shutter 100, and only the reflected light from the reference mark T1 and adjacent wiring circuits T2 and so on is received with an image pickup part 8.例文帳に追加

上方照明では、絶縁樹脂Ｗ’を透過した透過光をシャッタ１００で吸収し、基準マークＴ１や隣設する配線回路Ｔ２…からの反射光のみを撮像部８で受光する。 - 特許庁

In this case, first code data are arranged in a predetermined region near the position reference mark of the two-dimensional code in the region of the two-dimensional code, and the second code data are arranged in the other region.例文帳に追加

このとき、２次元コードの領域のうち、２次元コードの位置基準マークの近傍の所定領域に第１の符号データが配置され、残りの領域に第２の符号データが配置される。 - 特許庁

A notch is provided in one of the four corners of a tray whose plain view shape is formed into rectangle or square, and the rotational phase of the tray is detected by imaging with a substrate reference mark imaging device.例文帳に追加

平面視の形状が長方形あるいは正方形を成すトレイの４つの角のうちの１つに切欠を設け、基板基準マーク撮像装置により撮像してトレイの回転位相を検出する。 - 特許庁

For this reason, the read sensor reads a reference mark, waveform is shaped into a pulse waveform, and a printing start point Pc is determined based on a rise point (or a fall point), corresponding to its rear edge.例文帳に追加

そのため、読み取りセンサで基準マークを読み取り、波形をパルス波に成形し、その後端縁に相当する立ち下がり点（または立ち上がり点）を基準にして印字開始点Ｐｃを決める。 - 特許庁

As for other resist marks of C, M and Y, by detecting them by forming the two kind of resist mark with the different reference position, and correcting the respective main scanning direction quantity in the same way as the above.例文帳に追加

他のＣ、Ｍ、Ｙのレジストマークについても基準位置の異なる２種類のレジストマークを形成してこれを検出し、上記と同様にしてそれぞれの主走査方向検出量を補正する。 - 特許庁

A positioning member 48 for positioning the chips 43 and 44 is formed with an alignment mark 410a of a semiconductor substrate wafer in which the photodetector is built in the wafer process as reference.例文帳に追加

これらのチップ４３、４４を位置決めする位置決め部材４８は、ウェハプロセスにおいて受光素子が作り込まれている半導体基板ウェハのアライメントマーク４１０ａを基準にして形成される。 - 特許庁

A tilting mirror 562 moves the spot of radiation relative to the reference frame of the measurement optical system synchronously with a scanning motion of the mark itself, to allow more time for accurate position measurements to be acquired.例文帳に追加

傾斜ミラー５６２は、放射スポットを、マーク自体のスキャン運動と同期して測定光学システムの基準フレームに対して移動させて、正確な位置測定値を取得するより多くの時間を提供する。 - 特許庁

Before the publishing of an invention application, only following data may be communicated: who is author of the invention, applicant of the invention, data concerning the right of priority, title of the invention application and its reference mark. 例文帳に追加

特許出願の公開の前は，発明者の名称，特許出願人，優先権に関連する詳細事項，特許出願の名称及びその参照記号のみを第三者に知らせることができる。 - 特許庁

Any license contract concerning a registered mark, or an application therefor, shall be submitted to the Registrar who shall keep its contents confidential but shall record it and publish a reference thereto. 例文帳に追加

登録標章に関するライセンス契約又はそれについての申請は,登録官に提出するものとし,登録官はその内容の秘密を保持するが,それを登録し,かつ,それへの言及を公告する。 - 特許庁

Where the product for which the applicant wishes to register the mark is not mentioned in the classification, referred to in paragraph (2), the product shall be classified by reference to the criteria adopted in the general comments to that Classification.例文帳に追加

出願人が標章の登録を望む製品が(2)にいう分類に記載されていない場合は，製品は，同分類の概説において採用されている基準を参照して分類しなければならない。 - 特許庁

On the other hand, in the case of performing the setup operation, that is, in the case of forming a toner pattern for adjustment, each color toner image is formed not depending on the detection result by the reference mark sensor 517 in the image forming apparatus.例文帳に追加

一方、セットアップ動作を行うとき、すなわち調整用トナーパターンを形成するときには、画像形成装置は基準マークセンサ５１７の検知結果によらずに各色のトナー像を形成する。 - 特許庁

Then after the central point of the cross mark is aligned with reference point 22a of a module M22 adjacent in the Y direction to a module M12 adjacent in the X direction to a module M11, the set switch is pushed.例文帳に追加

次にクロスマークの中心点を、モジュールＭ１１にＸ方向に隣接するモジュールＭ１２に対しＹ方向に隣接するモジュールＭ２２の基準点Ｍ２２ａに合わせて、セットスイッチを押す。 - 特許庁

Based on the detected result on the focus of the subject image and the arithmetic result on a distance from a reference mark 118 to the sensor 154, the detected result on the focus of the subject image is corrected.例文帳に追加

被写体の像の焦点の検出結果と、基準マーク１１８から焦点検出センサ１５４までの距離の演算結果とに基づいて、被写体の像の焦点の検出結果を補正する。 - 特許庁

Alignment of the terminals 12, 22 of the first and the second groups is performed by measuring relative positions of the first and the second electronic components 10, 20 with the scale 30 and the reference mark 40.例文帳に追加

第１及び第２のグループの端子１２，２２の位置合わせは、スケール３０及び基準マーク４０によって、第１及び第２の電子部品１０，２０の相対的な位置を測定しながら行う。 - 特許庁

A mark for correcting the magnification of the reference color is formed on the carrying belt, read by a light emitting part 15, and a light receiving part 17, etc., and the magnification is adjusted by utilizing a CPU 25 and a ROM 27.例文帳に追加

搬送ベルト３には基準色の倍率補正用マークが形成され、このマークを発光部１５、受光部１７等で読み取り、ＣＰＵ２５、ＲＯＭ２７を利用して倍率調整を行う。 - 特許庁

The "established value α" is a value represented by an interval between the reference mark 73 and the center point position CP of the optical recording disc D as fitted to an optical disc fitting part 72 in the subscan direction Y.例文帳に追加

「既定値α」は、基準目印７３と光記録ディスク装着部７２に装着された状態の光記録ディスクＤの中心点位置ＣＰとの副走査方向の間隔となる値である。 - 特許庁

The reference APC is used to determine the track pitch, and by using the mark 411 of the defined size, the product servo pattern can be written at a desirable exact track pitch.例文帳に追加

基準ＡＰＣはトラック・ピッチを決定するものであり、寸法が確定しているマーク４１１を使用することによって、所望の正確なトラック・ピッチでプロダクト・サーボ・パターンを書き進めることができる。 - 特許庁

The scale includes a scale track comprising a first type of track portion providing first level of zero order reflectance, such as a grating, and a reference mark providing a second level of zero order reflectance, such as a mirror.例文帳に追加

スケールは、格子などの、第１のレベルの０次反射率を提供する第１のタイプのトラック部分を備えるスケールトラックと、鏡面などの、第２のレベルの０次反射率を提供する基準マークとを含む。 - 特許庁

The reference mark and a character or the like on the document are read by an image scanner 10 while being decomposed into lateral and longitudinal black and white binary pixels and the picture image is stored in an image memory 20.例文帳に追加

帳票上の基準マーク及び文字等は、イメージスキャナ１０によって横及び縦方向の白黒２値の画素に分解されて読み取られ、画像メモリ２０にその画像イメージが格納される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which the accurate detection of a first reference mark is made possible even when a flaw and the like exist in an intermediate transfer member, and the formation of an image on a paper sheet with satisfactory accuracy is made possible.例文帳に追加

中間転写体に傷等が存在した場合でも第１基準マークを精度よく検出可能とし、用紙に精度よく画像を形成可能とした画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The green sheets 3 are laminated by overlapping two of the substrates 1 with the green sheet 3 formed thereon in a positioned state on the basis of the position reference mark M to obtain a layered body 10.例文帳に追加

グリーンシート３が形成された２つの基板１同士を位置基準マークＭに基づいて位置決めした状態で重ね合わせることにより、各グリーンシート３を積層し、積層体１０を得る。 - 特許庁

The patterning device includes a proximity mark 10 having several proximity structures 20 adjacent to one another, and each of the proximity structures 20 includes a space structure 11, a reference structure 12, and an inspection structure 13.例文帳に追加

パターニングデバイスは、幾つかの隣接する近接構造体２０を有する近接マーク１０を含み、各近接構造体２０はスペース構造体１１、基準構造体１２、および検査構造体１３を含む。 - 特許庁

To improve workability by facilitating setting of a stand-by film without requiring complicated work of measuring and cutting it to a registration mark C for reference even in a case where it requires pattern matching.例文帳に追加

模様合わせを必要とするフィルムであっても、レジマークＣを基準としてフィルムを測長し切断する煩雑な作業を必要とせず、待機用フィルムのセッティングを容易化して作業性の向上を図る。 - 特許庁

At the moment the reference mark 206 flashes, a user timely presses a decision button to be continued to the next attack, and again the continuous attack of the hero on the monster 202 can be performed.例文帳に追加

指標２０６が光った瞬間に、ユーザがタイミングよく決定ボタンを押すことによって、次の攻撃につながり、再び主人公２００のモンスター２０２に対する連続攻撃を行えるようにする。 - 特許庁

To eliminate an erroneous calculation and misunderstanding by constructing a scale for a leveling rod movable by making always the zero of the scale coincide with the lateral line of a crisscross mark of the level at a reference point, that is at the first observation point.例文帳に追加

標尺の目盛りを可動式にし、基準点つまり最初の測点で常にレベルの十字横線に目盛りのゼロを合わせられるようにして、計算のミス、勘違いをなくすのが目的である。 - 特許庁

The mask size checking mark 3 includes a line pattern 4 having a line width equal to that of the product pattern and a reference pattern 5 disposed next to the line pattern 4 and having a larger width than the line pattern 4.例文帳に追加

マスク寸法検査マーク３は、製品パターンの線幅と等しい線幅のラインパターン４と、このラインパターン４に隣接して配置されラインパターン４よりも幅が広い基準パターン５とを含んでいる。 - 特許庁

To provide an immersion aligner capable of reducing the precision deterioration when detecting a reference mark of a movable stage due to residues of impurities incorporated in immersion liquid itself, thereby reducing the deterioration of aligning precision.例文帳に追加

液浸液自体に含まれる不純物の残留物による可動ステージの基準マークを検出する際の精度劣化を低減し、位置合わせ精度の劣化を低減する液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

If the reproduction of a registered trade mark in a dictionary, encyclopaedia or similar reference work gives the impression that it constitutes a generic name of goods or services, the proprietor of the trade mark may ask the publisher to ensure that the reproduction of the trade mark at the latest in the next edition of the publication is accompanied by an indication that it is a registered trade mark. 例文帳に追加

辞書，百科事典その他類似の参考書における登録商標の掲載により当該商標は商品若しくはサービスの一般名称であるとの印象が与えられている場合は，当該商標の所有者はかかる辞書，百科事典若しくはその他類似の参考書の出版者に対して，当該出版物の次の版での最新の当該商標の掲載において当該商標が登録商標である旨の表示を付すよう要求することができる。 - 特許庁

Upon forming a plurality of elements on a semiconductor substrate 1 with a circular substrate surface by implementing a plurality of steps including at least an epitaxial growth step and a device step thereafter, a laser mark 2 is formed at a reference position of mask alignment in the device step before the epitaxial growth step, and the mask alignment is performed taking the laser mark 2 as a reference in the device step after the epitaxial growth step.例文帳に追加

基板面が円形の半導体基板１に、少なくともエピタキシャル成長工程とその後のデバイス工程を含む複数の工程を行って複数の素子を形成する際に、エピタキシャル成長工程以前に、デバイス工程でのマスク位置合わせの基準位置にレーザマーク２を施しておき、該エピタキシャル成長工程後のデバイス工程でそのレーザマーク２を基準としてマスク位置合わせをする。 - 特許庁

The method further includes a step in which a reference process mark 600 having a double rotational symmetry with respect to a rotation center 600c is created by adding another element graphic 630, in which the extracted element graphic 620 is rotated by, for example, 180° on the rotation center 600c, to the tentative process mark 605.例文帳に追加

当該方法は更に、抽出された要素図形６２０を回転中心６００ｃの周りで例えば１８０°回転させた更なる要素図形６３０を暫定的なプロセスマーク６０５に追加することにより、回転中心６００ｃに関して２回回転対称性を有する基準プロセスマーク６００を作成するステップを含む。 - 特許庁

For an imaging unit for assembling, a chart with an alignment mark irradiated from a light source is imaged by an imaging device through a reference lens adjusted to a required optical axis position and then, the attitude of the imaging unit is controlled so as to perform alignment to the optical axis position, based on the mark position information of the imaged image.例文帳に追加

組立て用の撮像ユニットに対し、光源により照射されたアライメントマーク付チャートを、所要の光軸位置に調整された基準レンズを介して当該撮像素子で撮像させた後、その撮像画像のマーク位置情報に基づいて、上記の光軸位置に合わせるように当該撮像ユニットの姿勢制御を行う。 - 特許庁

The display device 100 includes a driver IC 300 and a display unit 200 mounting the driver IC 300, wherein the driver IC 300 has a second alignment mark AM2 formed on a back face opposite to the joining face with the display unit 200, the second alignment mark functioning as a reference for an arrangement position of each electrode E formed on the joining face.例文帳に追加

ディスプレイ装置１００は、ドライバＩＣ３００と当該ドライバＩＣ３００を実装するディスプレイユニット２００と、を有し、ドライバＩＣ３００には、ディスプレイユニット２００との接合面と反対の裏面に接合面に形成された各電極Ｅの配置位置の基準となる第２アライメントマークＡＭ２が形成されている。 - 特許庁

To prevent an irradiation position of reproduction light from being located at a mark non-formation part when a bulk type optical disk which has a reference surface having a position guide element formed and a recording layer formed at a position of different depth therefrom is reproduced from a position where an area having a mark array not formed on near side thereof is present.例文帳に追加

位置案内子が形成された基準面と、これと深さの異なる位置に形成された記録層とを有するバルク型光ディスクにおいて、その手前側にマーク列が非形成とされる領域の存在する位置からの再生を行う場合に、再生光の照射位置がマーク非形成部分に位置することを防止する。 - 特許庁

This method of interference measurement for measuring the optical characteristics of a lens using an interferometer includes a step of detecting a mark K previously given to the lens; a step of positioning the mark K so as to face in the reference direction of the interferometer by angularly displacing the lens around an optical axis; and a step of performing interference measurement on the positioned lens.例文帳に追加

干渉計を用いてレンズの光学特性を測定する干渉測定方法は、レンズに予め付与されたマークＫを検出するステップと、レンズを光軸周りに角変位させて、マークＫを干渉計の基準方向に位置決めするステップと、位置決めしたレンズの干渉測定を行うステップと、を含む。 - 特許庁

When an ASK receiving signal is a 'mark' and a wave detection voltage being more than the high-level threshold voltage Vth is inputted, the hysteresis comparator outputs an ASK demodulating signal which is +5 V corresponding to the 'mark' with the low- level threshold voltage Vtl as decision reference after that until the wave detection voltage lower than the one Vtl is inputted.例文帳に追加

ＡＳＫ受信信号が“マーク”の時、ハイレベルスレッショールド電圧Ｖth以上の検波電圧が入力されると、ヒステリシスコンパレーターは、以後、ローレベルスレッショールド電圧Ｖtlを判定基準とし、ローレベルスレッショールド電圧Ｖtl以下の検波電圧が入力されるまで、“マーク”に対応する＋５ＶのＡＳＫ復調信号を出力する。 - 特許庁

An improved device for determining 3D coordinates of an object 1 has a projector 10 for projecting a pattern to the object 1, a camera 11 connected with the projector 10 for imaging the object 11, and a reference camera 16 connected with the projector 10 and the camera 11 for imaging one or more reference marks 6 and 24 in a field 25 of the reference mark 6.例文帳に追加

対象物１の３次元座標を決定するための改良された装置は、対象物１にパターンを投影するプロジェクタ１０と、上記プロジェクタ１０に結合され、対象物１を撮影するカメラ１１と、上記プロジェクタ１０、およびカメラ１１に結合され、リファレンスマーク６のフィールド２５の１つ以上のリファレンスマーク６，２４を撮影するリファレンスカメラ１６とを備える。 - 特許庁