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solution temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2245件
After the end of growth, the solid-solution semiconductor laser material is taken out after the temperature of each part drops to the room temperature, and by purging the inside of a vacuum tank with adequate gas such as nitrogen, an appropriately formed thin film is manufactured.例文帳に追加
成長終了後、固溶半導体レーザ材料の取り出しは、各部の温度が室温まで降下した後、真空槽内を適当なガス、例えば、窒素によりパージすることにより適当な形状の薄膜を製造する。 - 特許庁
To provide a crosslinkable resin solution excellent in dissolvability with a solvent and compatibility with a main agent and capable of satisfying both of the low temperature curability of curing at a low temperature without using a catalyst and preservation stability, and a method for producing the same.例文帳に追加
溶剤への溶解性や主剤との相溶性に優れ、触媒を用いることなく低温で硬化する低温硬化性と保存安定性とを両立することができる架橋性樹脂溶液と、その製造方法の提供。 - 特許庁
A glass coating material in the form of a solution or a slurry is housed in a drying chamber 1, and its inside is highly evacuated and quickly cooled to quickly freeze the liquid to effect quick freezing at a temperature not higher than the eutectic temperature, and the ice is sublimated and the coating material is solidified.例文帳に追加
溶液状又はスラリー状のガラスコーティング剤を乾燥室1に収納し、内部を高真空化、急速冷却して液体を共晶温度以下で急速凍結し、氷を昇華して、コーティング剤を固化する。 - 特許庁
A method for freezing a sample comprises pressurizing a solution containing the sample to 0.1-0.2 GPa while keeping a temperature range of (a phase transition temperature of ice-I and liquid water) +4°C in a state in which a vapor phase does not exist and then suddenly reducing the pressure.例文帳に追加
試料を含む溶液を気相の存在しない状態で氷—Iと液体の水の相転移点からプラス4℃の温度範囲を保ちながら0.1から0.2GPaの範囲まで加圧し、その後、急激に減圧する。 - 特許庁
An organic compound 541, which is not lost by the temperature set in the drying and solidifying treatment process P2 and has a property gasified by the temperature set in the heat treatment process P3, is used in the synthetic raw material solution 54.例文帳に追加
ここで合成原料溶液54には、乾燥固化処理工程P2に用いる温度によっては失われずかつ熱処理工程P3に用いる温度によって気化する性質を有する有機化合物541を用いる。 - 特許庁
To provide a processing solution heating device for a photosensitive material processor capable of improving the detecting accuracy of the temperature of a heater by a temperature detection part by surely bringing the heater into contact with a protection tube.例文帳に追加
ヒータと保護管とを確実に接触せしめることにより、温度検出部によるヒータの温度の検出精度を向上させることができる感光材料処理装置の処理液加熱装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
The heat resistant steel for an exhaust valve is produced through: a forging step; a solid solution heat treatment step where, after holding in the temperature range of 1,000 to 1,200°C, oil cooling is performed; and a step where aging treatment is performed in the temperature range of 700 to 800°C.例文帳に追加
かかる排気バルブ用耐熱鋼は、鍛造工程と、1000〜1200℃の温度範囲で保持した後に油冷する固溶化熱処理工程と、700〜800℃の温度範囲で時効処理する工程とを経て製造される。 - 特許庁
The glass is freshly formed at high temperature and when the freshly formed glass first comes into contact with the aqueous solution, the temperature is higher than 175°C and the formed coating lessens the adhesion to the surface of the glass chips.例文帳に追加
ここで、ガラスが高温で新たに形成され、この新たに形成されたガラスが、その水溶液と最初に接触したときに、175℃よりも高い温度であり、形成されたコーティングが、ガラスチップの表面への付着を減少させている。 - 特許庁
In this method of manufacturing barium titanate, carboxylates containing barium and titanium are kept in an alkaline aqueous solution of pH not lower than 11.5, substantially at a reaction temperature of not lower than the thermal decomposition temperature of the carboxylates.例文帳に追加
本発明のチタン酸バリウムの製造方法は、バリウムとチタンを含むカルボン酸塩をpH11.5以上のアルカリ性水溶液中で、カルボン酸塩の熱分解温度以上の反応温度に実質的に保持してなるように構成される。 - 特許庁
After growth is terminated, the solid solution semiconductor light emitting material is taken out after the temperature of each part drops to the room temperature, and then the inside of a vacuum tank is purged with an appropriate gas, for example, nitrogen, to manufacture an thin film of an appropriate form.例文帳に追加
成長終了後、固溶半導体発光材料の取り出しは、各部の温度が室温まで降下した後、真空槽内を適当なガス、例えば、窒素によりパージすることにより適当な形状の薄膜を製造する。 - 特許庁
It is preferable at hydrogen reduction treatment that they are heat-treated in a hydrogen containing air flow at temperature of 200-600°C, and it is preferable at etching treatment that they are come in contact with a mineral acid solution at temperature of 15-60°C for 10-60 minutes.例文帳に追加
水素還元処理では、水素含有気流中において温度200〜600℃で熱処理することが好ましく、エッチング処理では、温度15〜60℃の鉱酸溶液に10〜60分間接触させることが好ましい。 - 特許庁
Then, when an iron alloy is immersed in the supplied acid solution, the control part 4 maintains the temperature of the inside of the wet etching tank 111 at a predetermined temperature for a predetermined period of time by controlling a heat insulating part 420.例文帳に追加
そして、供給された酸溶液により鉄合金が浸漬されると、制御部4は、保温部420を制御してウェットエッチング槽111の内部の温度を、予め定めた時間に亘り予め定めた温度に維持する。 - 特許庁
This liquid composition is used to form a film by a chemical- solution-deposition(CSD) method such as a sol-gel method, and thus a ferroelectric thin film fired at a low temperature of about 400°C can be obtained.例文帳に追加
この組成物を用い、ゾルゲル法等のCSD法により成膜し、400℃程度の低温で焼成した強誘電体薄膜を得ることができる。 - 特許庁
To provide a very simple method for producing zinc oxide nanoparticles with low environmental load in a high yield by heating in a neutral solution at a medium or low temperature.例文帳に追加
本発明は、中性溶液中で、中低温で加熱する、低環境負荷であり非常に簡便で高収率の酸化亜鉛ナノ粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁
The amount of the saturated solution of the salt to be supplied is set by a control part 10 on the basis of the temperature of the salt water in the electrolytic cell 1 measured by a thermometer 1c.例文帳に追加
飽和食塩水の供給量は、温度計1cによって計測された電解槽1内の塩水の温度に基づいて、制御部10によって設定される。 - 特許庁
The second temperature control pipe 102 is disposed at the outer peripheral of the second developing solution feeding pipe 101 and it is connected aslant to the upper face of the body 80.例文帳に追加
第2の現像液供給管101の外周には第2の温度調節管102が配置され,本体80の上面に対して斜めに接続されている。 - 特許庁
To provide a dissolved oxygen sensor which can accurately and quickly measure the concentration of dissolved oxygen even in the case temperature of a solution to be measured is varied rapidly.例文帳に追加
被測定溶液の温度が急激に変化した場合でも、正確かつ迅速に溶存酸素濃度を測定することの可能な溶存酸素センサを提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which can be developed using an aqueous alkaline solution and has sufficient heat resistance and flexibility in processing at a low temperature.例文帳に追加
アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To decompose and clean a harmful material contained in soil and underground water in a solution at an ordinary temperature while preventing the use of a chemical agent and the generation of secondary pollution.例文帳に追加
土壌中や地下水中に含有される有害物質を、化学薬品の使用や2次公害の発生を防止し、常温の溶液中で分解し浄化する。 - 特許庁
The dissolved oxygen sensor of a galvanic cell type is composed of a positive electrode, a negative electrode, an electrolytic solution, a barrier membrane, a vessel, and a temperature-compensating thermistor being arranged at an outer wall of the vessel.例文帳に追加
正極と負極と電解液と隔膜と容器とを備えたガルバニ電池式溶存酸素センサにおいて、容器の外壁に温度補償用サーミスタを備える。 - 特許庁
The temperature of the alkali solution is preferably ≥80°C, more preferably ≥90°C to form blisters on the product, to suppress a powdery feeling and to provide the crunchy texture.例文帳に追加
アルカリ液の温度は、製品に火ぶくれを形成し、粉っぽさを抑えパリパリとした食感とするために、80℃以上、好ましくは90℃以上とすることが望ましい。 - 特許庁
This method for improving the germination of seeds is characterized by bringing the seeds into contact with an aqueous betaine solution for such a time and at such a temperature as being sufficient for improving the vitality of the seeds but insufficient for causing the germination.例文帳に追加
ベタイン水溶液と種子を、種子の活力を増進するには充分であるが発芽を起こさせるには不充分な時間と温度にて、接触させる。 - 特許庁
To reduce the fluctuation of the frequency of an etched wafer by holding the temperature of etching solution in an internal tank, and to completely exclude the influence of any external environment.例文帳に追加
内槽内のエッチング液の温度を保持して、エッチング上がりのウェハの周波数のバラツキを低減させるとともに、外部環境の影響を完全に排除する。 - 特許庁
To provide a nonaqueous electrolyte solution for a secondary battery suppressing deterioration of repeating charge/discharge characteristics (cycle characteristics) of a battery and excellent in low temperature discharge characteristics as well.例文帳に追加
電池の繰り返し充放電特性(サイクル特性)の低下を抑制し、低温放電特性にも優れた二次電池用の非水系電解液を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for amplifying a nucleic acid in which a period of time to retain the temperature of a reaction solution within a predetermined range in nucleic acid amplification can be regulated, and a chip for nucleic acid amplification.例文帳に追加
核酸増幅において反応液を所定の温度範囲に留める時間を制御できる核酸増幅方法および核酸増幅用チップを提供する。 - 特許庁
To provide a reactor and a reaction method for using a small quantity of a solution of high concentration to react on the surfaces of solids while attaining temperature control.例文帳に追加
温度制御が可能であって、濃度の高い溶液を少量使用して固形物の表面に反応させるための反応装置および反応方法を提供する。 - 特許庁
To provide a rheology modifier capable of exhibiting excellent viscosity imparting effect to a slurry or an aqueous solution in a wide temperature range even when the concentration of its effective components is low.例文帳に追加
有効成分が低濃度でも、スラリーや水溶液に対して、幅広い温度領域で良好な粘性付与効果を発現できるレオロジー改質剤を提供する。 - 特許庁
The above problems can be solved by a polishing solution recycling system of a CMP device provided with a filtration device, a temperature controlling means, and a washing means.例文帳に追加
ろ過装置、温度管理手段及び洗浄手段を設けた研磨液循環装置を備えたCMP装置の研磨液再利用システムにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
An aqueous solution containing the water-soluble organic compounds is prepared, concentrated by heating and further heated to the decomposition temperature of the organic component to obtain a precursor.例文帳に追加
各水溶性有機化合物を含む水溶液を調製し、この水溶液を加熱して濃縮した後、有機分が分解する温度まで加熱して前駆体を製造する。 - 特許庁
This sterilization technique comprises treating whole spice before crushing in a peracetic acid aqueous solution of concentration and temperature of a specific range so as to reduce the number of fungi without spoiling flavor.例文帳に追加
粉砕前のホール状の香辛料を、過酢酸水溶液の特定の範囲の濃度、温度で処理することにより、風味劣化は無く、菌数低減が可能となる。 - 特許庁
To provide a method for producing a metal particulate-dispersed solution which is excellent in stability and can be produced at a low temperature of ≤100°C, and to provide a method for producing metal ink.例文帳に追加
安定性に優れ、100℃以下の低温で製造することが可能な金属微粒子分散液の製造方法及び金属インクの製造方法を提供する。 - 特許庁
When the pH of the sodium carbonate solution is adjusted to 8-9, the concentration of the slurry is adjusted to 100-200 g/L and the temperature is adjusted to 60-80°C, the grade of sodium in a carbonated lead residue can be lowered to around 0.2-1.5 mass%.例文帳に追加
さらに、溶液のpHを8〜9、スラリー濃度を100〜200g/L、温度を60〜80℃にすることで炭酸化残渣中のナトリウム品位が0.2〜1.5mass%程度に抑えることができる。 - 特許庁
The device for simulating wafer temperature includes: an element part coverage calculation part 32; an effective emissivity calculation part 33; a model creation part 34 and a thermal diffusion equation solution part 35.例文帳に追加
ウエハ温度シミュレーション装置は、素子部被覆率計算部32と、実効放射率計算部33と、モデル作成部34と、熱拡散方程式解法部35とを具備する。 - 特許庁
To provide a lithium secondary battery which is superior in battery characteristics such as material characteristics such as Mn elution factor into an electrolytic solution or the like and charge and discharge cycle characteristics at a high temperature or the like.例文帳に追加
電解液中へのMn溶出率等の材料特性、及び高温時の充放電サイクル特性等の電池特性に優れたリチウム二次電池を提供する。 - 特許庁
To provide an aluminum alloy in which high strength can be secured in a cast article as it is without applying high-temperature heat treatment (solution treatment, quench treatment or the like).例文帳に追加
高温度での熱処理(溶体化処理−焼入れ処理等)を施すことなく鋳造のままでも高強度を確保することができるアルミニウム合金を提供する。 - 特許庁
Temperature of the intense heat ashing treatment is set to not less than the melting point of zinc and not more than the boiling point of cadmium, and pH of solution supplied for measurement is adjusted to 3.5 to 5.5.例文帳に追加
強熱灰化処理温度は、亜鉛の融点以上でありカドミウムの沸点以下の温度とし、測定に供される溶液のpHは3.5から5.5に調節する。 - 特許庁
Thickness of the dry film is 20-50 μm, and the film stripping processing is performed by applying liquid stripper consisting of amine system solution at temperature of 40-70°C to the printed circuit board.例文帳に追加
ドライフィルムの厚みは20〜50μmであり、かつ剥膜処理は、温度40〜70℃のアミン系水溶液からなる剥膜液を上記プリント配線板に施すことにより行う。 - 特許庁
To provide electrolytic solution which is excellent in fire retardancy, low temperature characteristics and a withstand voltage, and which is high in the solubility of electroyte salt, and which is excellent in the compatibility with hydrocarbon system solvent.例文帳に追加
難燃性、低温特性、耐電圧に優れ、また、電解質塩の溶解性が高く、炭化水素系溶媒との相溶性にも優れた電解液を提供する。 - 特許庁
Then, the capacitor element is dried at 100°C for 10-30 minutes and impregnated with an aqueous solution of acetonitrile added with 3-20 wt.% of water at room temperature for 1-5 minutes.例文帳に追加
そして、このコンデンサ素子を100℃で、10〜30分乾燥させた後、水分を3〜20wt%添加したアセトニトリルの水溶液に、室温で1〜5分浸漬する。 - 特許庁
To obtain a magnetic garnet single crystal by epitaxially growing after precisely controlling the temperature of a solution at crystal growth and increasing the substitution amount of Bi.例文帳に追加
結晶成長時の溶液の温度制御をより精密に制御し、Biの置換量を増加させたたうえでエピタキシャル成長を行い磁性ガーネット単結晶を得る。 - 特許庁
When the temperature of phosphate solution reaches about 140°C, violent boiling occurs, resulting in the upward scattering of droplets from a liquid face, and moisture also evaporates.例文帳に追加
燐酸溶液の温度が140℃程度にまで達すると、激しい沸騰が生じて液面から上方へ液滴の飛散が生じるとともに、水分が蒸発する。 - 特許庁
The temperature of the methanol solution of the fuel supply tube 81 is increased by heat generated from the motor M1, thus improving power generation efficiency in the fuel cell 80.例文帳に追加
モータM1から発生する熱で燃料供給チューブ81のメタノール水溶液の温度が上昇し、燃料電池80の発電効率を向上させることができる。 - 特許庁
To provide a continuous heat treatment furnace, which increases a heating rate, and reduces fluctuation of temperature, and continuously performs solution treatment and aging treatment at higher temperatures.例文帳に追加
昇温速度を速く、かつ温度の振れを小さくし、しかも、より高い温度で溶体化処理や時効処理を連続的に行うことができる連続式熱処理炉を提供する。 - 特許庁
By reducing the temperature of the copper electrolyte solution below 25°C, the rate of self annealing grain growth increases reducing the final resistivity of the copper lines.例文帳に追加
銅電解質溶液の温度を25度Cより下に低くすることにより、自己アニーリングによる結晶粒の成長速度を増加して、銅線の最終的抵抗率を低下させる。 - 特許庁
Since the mixing of the flammable fluid and the non-flammable fluid raises the flash point and the ignition temperature of the mixed solution, a possibility of ignition and catching a fire can be greatly reduced.例文帳に追加
可燃性流体と不燃性流体とを混合することで、混合溶液の引火点及び発火点を上げ、引火や発火の可能性を大幅に低減することができる。 - 特許庁
To accurately measure the electrolyte concentration of a component to be measured included in a sample solution without making the configuration of the entire instrument complicate and without performing temperature correction calculation.例文帳に追加
装置全体の構成を複雑化することなく、試料溶液に含まれる被測定成分の電解質濃度を温度補正演算をせずに正確に測定する。 - 特許庁
The vapor of aqueous hydrofluoric acid solution is introduced to the surface of a wafer W heated to a prescribed temperature by a hot plate 45 from a hydrofluoric acid vapor generating vessel 43.例文帳に追加
ホットプレート45によって所定の温度に加熱されたウエハWの表面に、ふっ酸蒸気発生容器43から、ふっ酸水溶液の蒸気が導かれる。 - 特許庁
This method for producing the frozen fish includes: soaking a fish body in an alkali aqueous solution adjusted in pH to 7.1-11.5 under atmospheric pressure and room temperature for a prescribed time, and freezing the fish body subjected to alkali treatment.例文帳に追加
魚体をpH7.1以上11.5以下に調整されたアルカリ水溶液中に大気圧室温下で所定時間漬け込み、アルカリ処理された魚体を冷凍する。 - 特許庁
As a method of forming the body of the composition, first a soap solution is formed by stirring water, the soap surface active agents, aromatics, and foam stabilizers at a sufficient temperature.例文帳に追加
組成物本体の形成方法として、まず、十分な温度において、水、石けん界面活性剤、芳香剤、及び泡安定剤を攪拌して石けん溶液を形成する。 - 特許庁
To provide a processing method for a solution layer for, for example, forming a thin film on the base or processing the base surface in a liquid phase at normal temperature under normal pressure.例文帳に追加
液相中で、常温、常圧にて、例えば基体上に薄膜を成膜し、あるいは又、基体表面を処理するための溶液層の処理方法を提供する。 - 特許庁
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