「substrate-level」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Another glass substrate is provided with a plurality of concentric circular structure of level differences 50 whose level height (depth) is each λ1/(ng-1) respectively.例文帳に追加

また、他方のガラス基板には、各段の高さ（深さ）がそれぞれλ_1／（ｎ_g−１）である複数の同心円状の段差構造５０が設けられている。 - 特許庁

The level sensor has optical constitution in a prescribed area near to a place to arrange the substrate.例文帳に追加

レベル・センサは、基板を配置すべき場所に近い所定のエリアに光学的構成を有する。 - 特許庁

To automatically check the vacuum leakage level of a chamber employed for a substrate sticking apparatus etc.例文帳に追加

基板貼り合わせ装置等に採用されるチャンバの真空漏洩度を自動的にチェックする。 - 特許庁

RADIATION TUBE SYSTEM OF CARBON NANOTUBE SUBSTRATE SEPARATION TYPE FOR ELECTRON BEAM GENERATION OF MICRO FOCUSING LEVEL例文帳に追加

マイクロ集束レベルの電子ビーム発生用炭素ナノチューブ基板分離型の放射線管システム - 特許庁

Level shifters 101, 102, 103, 104 and buffers 105, 106 are formed on an SOI substrate.例文帳に追加

ＳＯＩ基板上にレベルシフター１０１、１０２、１０３、１０４とバッファ１０５、１０６を形成する。 - 特許庁

The lower surface of the silicon substrate 1 is then roughened with level difference of 1-5 μm by wet etching.例文帳に追加

次に、ウェットエッチングにより、シリコン基板１の下面を段差１〜５μｍの粗面仕上げとする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium by which the high purification of the surface of a glass substrate is attained at a high level.例文帳に追加

ガラス基板表面の高清浄化を高いレベルで達成しうる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This intermediate electrode is controlled separately from the control of the potential of the cathode substrate, although it is kept at the same potential level as that of the cathode substrate.例文帳に追加

この中間電極は、カソード基板の電位と同程度にしておくが、カソード基板の電位の制御とは別個に制御される。 - 特許庁

For a scanning electrode driving IC of a p type semiconductor substrate, a fluctuating power supply level shifter IC is manufactured with an n type semiconductor substrate.例文帳に追加

ｐ型半導体基板の走査電極駆動ＩＣに対して、ｎ型半導体基板で揺動電源レベルシフタＩＣを作製する。 - 特許庁

To provide an AlN substrate capable of stably growing a low Heyes level epitaxial film, and a cleaning method for achieving the AlN substrate.例文帳に追加

ヘイズレベルの低いエピタキシャル膜を安定して成長できるＡｌＮ基板とこのＡｌＮ基板を得るための洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a method for manufacturing a wafer-level lens array, the method preventing air from mixing in a formed substrate part or lens parts when forming a wafer-level lens array having the substrate part and the lens parts integrated therein; a wafer-level lens array; a lens module; and an imaging unit.例文帳に追加

基板部とレンズ部とが一体のウェハレベルレンズアレイを成形する際に、成形される基板部やレンズ部にエアが混入することを防止できるウェハレベルレンズアレイの製造方法、ウェハレベルレンズアレイ、レンズモジュール及び撮像ユニットを提供する。 - 特許庁

Since the potential of the supporting substrate can be set at the ground level or an arbitrary bias level even when a face-down packaging method is employed, potential of the supporting substrate is not brought into floating state.例文帳に追加

フェイスダウン実装法により実装する場合にも、支持基板を接地するか任意のバイアスに設定することができるので、支持基板の電位がフローティング状態になるようなことがなくなる。 - 特許庁

An optical communication establishment determining unit 60 acquires the average light reception level, from the average light reception level detection unit 50 and determines whether communication is available between the function substrate 10 and processing substrate 30.例文帳に追加

光通信確立判断部６０は、平均受光レベル検出部５０から平均受光レベルを取得して、機能基板１０と処理基板３０との間で通信が可能か否かの判断を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor device fabricated in an SOI substrate, and its fabricating method, in which the potential of a supporting substrate can be set at the ground level or an arbitrary bias level even after packaging.例文帳に追加

ＳＯＩ基板に形成した半導体装置であって、実装後においても、支持基板の電位を、接地または任意のバイアスに設定可能な半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

At least at a part 4 of the tunnel insulation film 5 in the vicinity of an interface with the semiconductor substrate 1, there provided is an electric charge trap level at which an electronic potential is higher than a Fermi level of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

トンネル絶縁膜５のうち少なくとも半導体基板１との界面付近の一部４には、電子ポテンシャルが半導体基板１のフェルミレベルよりも高い電荷トラップ準位が設けられている。 - 特許庁

A lower-level insulating film 161 of the sidewall 16 serves as a stopping layer in dry-etching the upper-level insulating film 162 as well as a protecting layer for the SOI substrate 11.例文帳に追加

サイドウォール１６の下層絶縁膜１６１は、上層絶縁膜１６２のドライエッチ加工時のストッパ層であると共にＳＯＩ基板１１の保護層となる。 - 特許庁

In this way, an alpha irradiation area 11 at a deep level of impurity level is formed as lifetime control area in an n-type silicon substrate 1.例文帳に追加

これにより、ｎ型シリコン基板１内に主にディープレベルの不純物準位から成るアルファ照射領域１１を、ライフタイムコントロール領域として形成する。 - 特許庁

The method of the present invention comprises the steps of letting in/out the substrate to/from the cleaning or etching liquid using the equipment at a level lower than the liquid level.例文帳に追加

本発明の方法は、前記装置を利用して、クリーニングまたはエッチング液に、液面よりも低いレベルで基材を導入、導出するステップから成る。 - 特許庁

Level sensors (LSP, LSD) are disposed to project level sensing radiation beams, reflect them from the position on the substrate surface, and detect the reflected sensing beams to measure the surface level of the position.例文帳に追加

レベルセンサ（ＬＳＰ，ＬＳＤ）は、レベルセンシング放射ビームを投影して基板表面の位置から反射させ、反射したセンシングビームを検出して位置の表面レベルを測定するために設けられる。 - 特許庁

To provide a mold of wafer level lens array capable of preventing the intrusion of air into a substrate and a lens to be molded, a method for manufacturing a wafer level lens array, a wafer level lens array, a lens module, and an imaging unit.例文帳に追加

成形される基板部やレンズ部にエアが混入することを防止できるウェハレベルレンズアレイの成形型、ウェハレベルレンズアレイの製造方法、ウェハレベルレンズアレイ、レンズモジュール及び撮像ユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a nano-level systematic structure having determined uniform dimensions and dispositions in a substrate-scale on a substrate.例文帳に追加

決定された均一な寸法および配置を基板規模で有するナノ規則構造を基板上に作製する方法を提供することである。 - 特許庁

An upper surface of the substrate including the chip level laminate structure is sealed with a sealant 360, and a solder ball 370 is affixed to a lower surface of the substrate.例文帳に追加

チップレベル積層構造物を含む基板の上部面を封止剤３６０で封止し、基板下面にはんだボール３７０を付着する。 - 特許庁

To uniformly apply a coating liquid within the surface of a substrate while keeping the supply amount of the coating liquid down to a low level when applying the coating liquid onto the substrate.例文帳に追加

基板上に塗布液を塗布する際に、塗布液の供給量を少量に抑えつつ、基板面内で均一に塗布液を塗布する。 - 特許庁

The substrate table is located with respect to the surrounding structure by an actuator and the substrate surface is made be at the substantially the same level with the surface of the surrounding structure.例文帳に追加

アクチュエータで、基板テーブルを周囲構造に対して位置決めし、基板表面が周囲構造の表面とほぼ同一レベルにする。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of preventing defective drying of a substrate by shifting rising position of a liquid level.例文帳に追加

液面の盛り上がり位置をずらすことにより、基板に乾燥不良が生じることを防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate wherein a level of an interface between a semiconductor and an insulating material is reduced, a method for manufacturing the semiconductor substrate, and a semiconductor device.例文帳に追加

半導体−絶縁体界面の界面準位が低減した半導体基板とその製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁

To manufacture a large-area GaN substrate of a two-inch wafer level, in which the separation of a GaN layer from a sapphire substrate can be easily controlled.例文帳に追加

サファイア基板とGaN層の分離の制御性が容易で、且つ２インチウエハーレベルの大面積のGaN基板が作製できるようにすることを目的とする。 - 特許庁

The opposite substrate or the TFT array substrate forms a projection-like level different part (510) in a prescribed region including the reflective display region.例文帳に追加

対向基板又はＴＦＴアレイ基板には、反射表示用の領域を含む所定領域に凸状の段差部（５１０）が形成されている。 - 特許庁

A level shift IC 8, having an n-type silicon substrate is inserted between a graphic controller 1 and a scanning electrode drive IC 6, having a p-type silicon substrate.例文帳に追加

グラフィックコントローラ１と、シリコン基板がＰ型の走査電極駆動ＩＣ６との間に、シリコン基板がＮ型のレベルシフトＩＣ８を挿入する。 - 特許庁

To provide a thick film substrate printing pattern formation method for mounting a chip having a recessed film level difference which prevents the misalignment of a chip relative to a substrate even if the chip is soldered to the substrate through solder reflow.例文帳に追加

はんだリフローによりチップを基板にはんだ付けしても位置ずれの生じない凹膜段差を有するチップ実装用厚膜基板印刷パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To set the temperature of a substrate at a specified level without detecting temperature correlation.例文帳に追加

温度相関を検出することなく、基板の温度を所定の温度に設定することができるようにする。 - 特許庁

To provide a lithography device capable of performing a measurement at a substrate level without deteriorating the productivity.例文帳に追加

生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。 - 特許庁

In a step formed by a difference in level between the front surface of the gate electrode material and that of the semiconductor substrate, a side wall is formed.例文帳に追加

ゲート電極材料表面と半導体基板表面の段部にサイドウォールを形成する。 - 特許庁

To set and change a measurement level that is an inspection condition for inspecting a glass substrate in a short time.例文帳に追加

ガラス基板を検査するための検査条件である測定レベルを短時間に設定変更すること。 - 特許庁

The patterning sub-system is controlled according to a recorded result of measurement of the level fluctuations of the recorded substrate surface.例文帳に追加

パターニングサブシステムは、記録された基板表面のレベル変動の測定結果に従って制御される。 - 特許庁

To provide a method for forming a coating film having a high conformal property on a substrate having a difference in level.例文帳に追加

段差を有する基板上にコンフォーマル性の高い被覆膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the interfacial level density in the interface between the insulating film 4 and semiconductor substrate 1 falls.例文帳に追加

これにより、ゲート絶縁膜４と半導体基板１との界面での界面準位密度が低下する。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus capable of making a measurement at a substrate level without lowering the productivity.例文帳に追加

生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。 - 特許庁

The surface of the lithium niobate substrate is flat in atomic level and terminated with a single element.例文帳に追加

表面が原子レベルでフラットであり、かつ、上記表面が単一元素で終端されているようにした。 - 特許庁

The substrate inspection apparatus has such a constitution that its base mount 10 is supported by three supporting feet 75A, 75B, 76 on the floor level.例文帳に追加

基台１０を３つの支持脚７５Ａ，７５Ｂ，７６によって床面に支持する構成とする。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus capable of performing a measurement at a substrate level without reducing productivity.例文帳に追加

生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。 - 特許庁

To keep oxide contamination on a substrate surface prior to ion implantation at a low level, after a polymetal gate has been processed.例文帳に追加

ポリメタルゲート加工後、イオン注入に先立って、基板表面の酸化物汚染を低レベルに保つ。 - 特許庁

To reduce the level of metal contamination of an oxide film formed on a silicon substrate by plasma oxidation.例文帳に追加

プラズマ酸化によりシリコン基板上に形成される酸化膜の金属汚染量を低減すること。 - 特許庁

For the substrate, a nozzle 106 is provided so as to jet an air flow at nearly directly above the liquid level.例文帳に追加

この基板に対し、液面の直上付近に気流を噴射できるようにノズル１０６を設ける。 - 特許庁

Next, the substrate table is positioned relative to a radiation beam on the basis of the reading of the level sensor, and the value of the level sensor is read by using the level sensor and the patterned radiation beam while a pattern is synchronously imaged on a target portion by scanning the target portion of the substrate.例文帳に追加

さらに、基板テーブルをレベルセンサ読取値に基づいて放射ビームに対して位置決めし、基板のターゲット部分をスキャンすることによってパターンをターゲット部分に同期イメージングしている間、レベルセンサとパターン付き放射ビームを使用してレベルセンサ値を読取る。 - 特許庁