「surface activation」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

This method includes a process of treating a carbon fiber with at least one activation gas selected from carbon dioxide and water vapor so as to increase the specific surface area of the carbon fiber surface, and a process of reducing the activated carbon fiber to remove oxygen-containing functional groups introduced into the surface by the activation treatment and to increase C=C groups which constitute active points.例文帳に追加

炭素繊維を二酸化炭素および水蒸気から選ばれる少なくとも１つの賦活ガスで処理して前記炭素繊維表面の比表面積を増大させる工程と、前記賦活処理された炭素繊維を還元処理して前記賦活処理により表面に導入された含酸素官能基を除去し、活性点であるＣ＝Ｃ基を増加させる工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing the titanium oxide photocatalyst thin film comprises the step of subjecting a substrate to surface activation treatment, forming a titanium oxide thin film on the substrate, and subsequently subjecting the surface of the titanium oxide thin film to plasma treatment.例文帳に追加

基材を表面活性化処理した後、該基材上に酸化チタン系薄膜を形成し、次いで該酸化チタン系薄膜面をプラズマ処理することを特徴とする、酸化チタン系光触媒薄膜の製造法。 - 特許庁

If a photocatalyst-containing layer is formed on the surface H of a lower frame material 1, the surface becomes hydrophilic by activation of the photocatalyst, so that a pollutant hardly attaches thereto and is easily cleaned by rain water.例文帳に追加

下枠材１の表面Ｈに光触媒含有層を形成すれば、光触媒の活性化作用によりその表面は親水化されて、汚染物質が付着しにくく且つ雨水により容易に洗浄される。 - 特許庁

The optical elements and electrical element are bonded by surface activation bonding to bonding portions 110, 111 and 112 formed on the substrate 100 and made of a metal material.例文帳に追加

光素子と電気素子とは、基板１００上に形成された金属材料からなる接合部１１０，１１１，１１２に表面活性化接合により接合される。 - 特許庁

To solve the problem that it is difficult to increase an activation rate of impurities in a field stop layer formed in a region ≥1 μm deep from a backside surface of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の裏側の表面から深さ１μｍ以上の深い領域に形成されるフィールドストップ層の不純物の活性化率を高めることが困難である。 - 特許庁

To provide a perovskite multiple oxide small in the lowering of specific surface area and the deterioration of activation even if being exposed in a state of a high temperature for a long time and suitable for a catalyst.例文帳に追加

長時間高温の状態に晒されても、比表面積値の低下が小さく活性劣化が少ない、触媒に好適なペロブスカイト型複合酸化物を提供する。 - 特許庁

In the inner plate 10 for cosmetics which houses the cosmetics 11 to be mounted on a compact case 12, the internal surface of the inner plate 10 has an activation processing applied thereon.例文帳に追加

化粧料１１を収容してコンパクト容器１２に装着される化粧料用中皿１０において、中皿１０の内面に活性化処理が施されている。 - 特許庁

(a)A target value is set of activation depth of a semiconductor substrate in which impurities are added to a surface layer part used for manufacturing an IGBT or a MOSFET.例文帳に追加

（ａ）ＩＧＢＴまたはＭＯＳＦＥＴの製造に用いられる、表層部に不純物が添加された半導体基板の活性化深さの目標値を決定する。 - 特許庁

To chemically join a joint surface between a semiconductor device or a heat conductor and a diamond heat spreader at normal temperature not by using an adhesive agent but by activation.例文帳に追加

半導体デバイス及び金属製熱伝導体と，ダイヤモンドヒートスプレッダとの接合面を，常温で，接着剤等を使用することなく活性化により化学的に結合させる。 - 特許庁

To provide a method for producing an agonist antibody to cell surface molecules and an inhibitory antibody concerning the cell proliferation, differentiation or activation.例文帳に追加

細胞表面分子に対するアゴニスト抗体の製造方法、ならびに細胞の増殖、分化または活性化に関する阻害性抗体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a monoclonal antibody to an activation-induced T cell surface protein in order to verify a B cell activating mechanism by Jurkat D1. 1.例文帳に追加

ＪｕｒｋａｔＤ１．１によるＢ細胞活性化機構を検証する為、活性化誘導Ｔ細胞表面タンパク質に対するモノクローナル抗体を用いて調べる。 - 特許庁

Then, at least one main surface of the SiGe epitaxial film 11 on which an ion implantation layer is formed and a support substrate 20 is subjected to plasma treatment and ozone treatment for purposes of surface cleaning, surface activation, or the like, and both main surfaces are laminated for bonding.例文帳に追加

続いて、イオン注入層を形成したＳｉＧｅエピタキシャル膜１１と支持基板２０の少なくとも一方の主面に、表面清浄化や表面活性化などを目的としたプラズマ処理やオゾン処理を施し、主面同士を密着させて貼り合わせる。 - 特許庁

A heat-resistance resin composition covering for electroless plating for eliminating the need for the corrosion of one surface or both the surfaces of a polyimide films is formed, electroless copper plating is made by each process of covering activation, catalysis imparting, and catalysis activation, and then copper plating covering is formed to desired thickness through electroless plating.例文帳に追加

ポリイミドフィルムの片面或いは両面腐食工程が不要の耐熱性無電解めっき用樹脂組成物被膜を形成し、被膜活性化、触媒付与、触媒活性化の各工程により無電解銅めっきを行った後、電解めっきにより銅めっき皮膜を所望の厚さに形成する。 - 特許庁

In this treatment, the developed original disk is subjected to original disk surface hydrophilic treatment, susceptibility treatment, a first activation treatment, a second activation treatment, nonelectrolytic zinc oxide plating treatment and nonelectrolytic nickel plating treatment according to the conductive coating film formation treatment to form a conductive coating film of nickel on an information pattern surface side of the original disk 3.例文帳に追加

本処理では、現像処理後の原盤に図４のフロー図に示す導電性被膜形成処理に従って原盤表面親水化処理、感受性化処理、第１の活性化処理、第２の活性化処理、無電解酸化亜鉛めっき処理、無電解ニッケルめっき処理を順に行うことにより原盤３の情報パタン面側にニッケルの導電皮膜を形成する。 - 特許庁

The recombination life time of the epitaxial layer or the SOI layer is obtained by employing a first recombination life time measured after applying a first surface non-activation process with respect to the wafer, and a second recombination life time measured after applying a second surface non-activation process with respect to the wafer after measuring the first recombination life time.例文帳に追加

エピタキシャル層またはSOI層の再結合ライフタイムを、前記ウェーハに対して第一の表面不活性化処理を行った後に測定される第一の再結合ライフタイムと、前記第一の再結合ライフタイム測定後のウェーハに対して第二の表面不活性化処理を行った後に測定される第二の再結合ライフタイムを用いて求める。 - 特許庁

To provide a surface protective film for an optical film, which is used for protecting the surface of an optical film subjected to an activation treatment, wherein a peeling charge amount generated when the surface protective film is peeled from the optical film is reduced and there is no trouble of contamination on the optical film surface after the surface protective film is peeled.例文帳に追加

活性化処理がなされた光学フィルム表面を保護するための光学フィルム用表面保護フィルムであって、表面保護フィルムを光学フィルムから剥離する際に発生する剥離帯電量を低減でき、かつ表面保護フィルムを剥離した後の光学フィルム表面の汚染性の問題のない、表面保護フィルムを提供すること。 - 特許庁

More preferably, the activation treatment in the method for manufacturing the laminated strip material comprises forming the activated surfaces by sticking and forming dry deposition layers to either or both of the surface to be joined of the first strip material and the surface to be joined of the second strip material.例文帳に追加

好ましくは、活性化処理は第一の帯材の被接合面と、第二の帯材の被接合面の何れか若しくは両方に、乾式成膜層を付着形成して、活性化面を形成する積層帯材の製造方法である。 - 特許庁

To provide a biological activation material where the metallic glass surface of the material is firmly connected with HAp because of similarities between the network of the metallic glass surface and the network of bio-tissues, and connections with HAp are more strengthened with an oxide as roots and component of interfaces with HAp.例文帳に追加

金属ガラス表面が生態組織と類似のネットワークを形成してHApとの接着が強固であり、更にHApとの接合が界面構成物の根状酸化物により強固に結合された生体活性化材料を提供する。 - 特許庁

To obtain a hydrogen storage alloy electrode that has a high discharge capacity by providing a process method in which the hydrogen storage alloy powder surface is activated by a hydrogen gas reduction treatment and the surface activation can be maintained.例文帳に追加

水素ガス還元処理を行って水素吸蔵合金粉末表面を活性にしても、この表面活性を維持できるような処理方法を提供して、放電容量に優れた水素吸蔵合金電極を得られるようにする。 - 特許庁

While using a roller as a developer carrier, its surface is suitably subjected to activation for increasing the surface energy, thus the reduction in the surface energy can be suppressed, and the generation of the unevenness in image density such as a rib pattern caused by the unevenness in a developer thin layer can be suppressed.例文帳に追加

現像剤担持体としてのローラ使用中に、その表面に対して、表面エネルギーを上げる活性化を適宜行うことで、その表面エネルギーの低下を抑制することができ、現像剤薄層のムラに起因するリブ模様などの画像濃度ムラ発生を抑制することができる。 - 特許庁

The medical equipment realizes lubrication durability when wetted by forming a diamond-like carbon membrane, whose surface is activation-treated, on the surface of a base material forming the medical equipment and chemically fixing a hydrophilic polymer having a crosslinked structure to the surface and then treating it by an alkali.例文帳に追加

医療用具を構成する基材の表面に、表面活性化処理されたダイヤモンドライクカーボン薄膜を形成し、さらにその表面に架橋構造を有する親水性高分子を化学的に固定化した後、アルカリ処理することにより、湿潤時に優れた潤滑耐久性を実現する。 - 特許庁

After a thermoplastic resin material of ≥50 MPa in shearing strength is molded, the surface of molded goods is subjected to a liquid honing treatment by a grinding agent of an alumina system in such a manner that the surface roughness Rz (ten point average roughness) attains ≥10 μm and thereafter, the surface is subjected to catalyst impartation, activation treatment and electroless plating.例文帳に追加

剪断強さが５０ＭＰａ以上の熱可塑性樹脂材料を成形した後、成形品表面をアルミナ系の研削剤により液体ホーニング処理して表面粗さＲｚ（十点平均粗さ）が１０μｍ以上になるようにし、次いで触媒付与、活性化処理、無電解メッキする。 - 特許庁

To provide an activated carbon manufacturing device by which activation is surely and efficiently performed only by steam, and the good-quality activated carbon increased in specific surface is obtained.例文帳に追加

水蒸気のみによる賦活化を確実かつ効率的に行うことができ、比表面積の大きい良質な活性炭を得ることができるようにした活性炭製造装置を提供する。 - 特許庁

Then the base particles having an activated surface by the plasma treatment are subjected to a contact reaction with oxygen so that the activation point is deactivated to give the objective new fine particles.例文帳に追加

次に、プラズマ処理によって活性化表面を持つ前記基粒子を、酸素との接触反応によって、活性化点を失活する事により新規微粒子を得る事が出来る。 - 特許庁

A receiving layer which is obtained by laminating the above composition and by curing the laminate by an activation energy beam and which enables recording with ink by an ink jet recording method is provided on the surface of an information recording medium.例文帳に追加

情報記録媒体の面に標記組成物を積層し活性エネルギー線で硬化してなる、インクジェット記録方法にてインキで記録可能な受容層を設けた情報記録媒体。 - 特許庁

Otherwise, a catalytic activation reducing layer 12 containing the anti-catalyst is provided so as to cover at least a part of the surface of the lower part electrode 5, the upper part electrode 7, and the wiring layer 8.例文帳に追加

又は、下部電極５、上部電極７及び配線層８の表面の少なくとも一部を覆うように、上記触媒毒を含む触媒活性低減層１２を設ける。 - 特許庁

Then, heat treatment is performed in a state where the conductive film is exposed to perform activation treatment for removing the moisture, oxygen, the hydrogen, or the like adsorbed onto a surface or the inside of the conductive film.例文帳に追加

そして、該導電膜が露出した状態で加熱処理を行うことで、導電膜の表面や内部に吸着されている水分、酸素、水素などを取り除く活性化処理を行う。 - 特許庁

The GaAs substrate 16 (semiconductor substrate) is immersed in Pd, causing activation of a liquid 28 (palladium chloride) containing Pd ions, and Pd catalyst 30 is made to adhere to a surface of the GaAs substrate.例文帳に追加

Ｐｄイオンを含むＰｄ活性化液２８（塩化パラジウム）にＧａＡｓ基板１６（半導体基板）を浸漬してＧａＡｓ基板の表面にＰｄキャタリスト３０を付着させる。 - 特許庁

To sufficiently react reaction components while preventing contamination from adhering to electrodes during surface treatment of a film to be treated by activation of a reaction gas containing the reaction components.例文帳に追加

反応成分を含む反応ガスを活性化させて被処理フィルムを表面処理する際、反応成分を十分に反応させ、かつ電極に汚れが付着するのを防止する。 - 特許庁

The CNT paste layer is printed on the cathode electrode 12 by a screen stencil method, and this CNT paste is calcined and applied surface activation to make an emission chip 13.例文帳に追加

カソード電極１２の上に、スクリーン印刷法により本発明のＣＮＴペースト層を印刷し、このＣＮＴペーストをエミッションチップ１３とするための焼成および表面活性化が施される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silicon carbide semiconductor device eliminating an occurrence of a surface roughness of a bunching step or the like to sufficiently improve an activation rate of an impurity-injection layer.例文帳に追加

バンチングステップ等の表面荒れを発生させることなく、不純物注入層の活性化率を十分に高くする炭化珪素半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, heat treatment is performed in the state where the conductive film is exposed to perform activation treatment for removing moisture, oxygen, hydrogen, or the like adsorbed onto a surface of or in the conductive film.例文帳に追加

そして、該導電膜が露出した状態で加熱処理を行うことで、導電膜の表面や内部に吸着されている水分、酸素、水素などを取り除く活性化処理を行う。 - 特許庁

The air activation device 1 for the combustion engine includes meshed base material made of resin and formed on the surface of the same with a coating film containing tourmaline powder and powder of natural radioactive rare element mineral.例文帳に追加

網状の樹脂製基材の表面に、トルマリン粉末と天然放射性希有元素鉱物の粉末とを含有する塗膜を形成してなる燃焼機関用空気活性化装置１。 - 特許庁

The initial activation method for the hydrogen storage metal 16 is performed by irradiating the hydrogen storage metal 16 with a plasma of rare gas and activating a surface of the hydrogen storage metal 16.例文帳に追加

水素貯蔵金属１６の初期活性化方法は、水素貯蔵金属１６に希ガスのプラズマを照射し、水素貯蔵金属１６の表面を活性化することにより行われる。 - 特許庁

To obtain a hydrogen storage alloy electrode having an excellent discharge capacity by providing a treatment method in which the alloy surface is activated by a hydrogen gas reduction treatment and the activation can be maintained.例文帳に追加

水素ガス還元処理を行って合金表面を活性にし、かつこの活性を維持できる処理方法を提供して、放電容量に優れた水素吸蔵合金電極を得る。 - 特許庁

The wiring circuit board 1 is obtained by preparing a support substrate 2 and a base insulating layer 3 respectively, bonding the reverse surface of the base insulating layer 3 having been subjected to activation processing to the support substrate 2 using laser light 9 after previously performing activation processing on the top surface of the base insulating layer 3, forming a conductor pattern 4 on the base insulating layer 3, and then removing the support substrate 2.例文帳に追加

支持基板２とベース絶縁層３とをそれぞれ用意し、ベース絶縁層３の表面を、予め活性化処理した後、活性化処理されたベース絶縁層３の下面を、レーザー光９を用いて支持基板２と接合し、ベース絶縁層３の上に導体パターン４を形成し、その後、支持基板２を除去することにより、配線回路基板１を得る。 - 特許庁

This surface emission semiconductor laser includes a first mirror 102, an activation layer 103 formed above the first mirror 102, and a second mirror 106 formed above the activation layer 103, wherein at least any one of the first mirror 102 and the second mirror 106 has a VBG (Volume Bragg Grating) 180.例文帳に追加

本発明に係る面発光型半導体レーザは，第１ミラー１０２と、第１ミラー１０２の上方に形成された活性層１０３と、活性層１０３の上方に形成された第２ミラー１０６と、を含み、第１ミラー１０２および第２ミラー１０６のうちの少なくとも一方は，ＶＢＧ（Volume Bragg Grating）１８０を有する。 - 特許庁

The scratch-resistant resin plate is formed of a resin base and a cured coat formed on the surface of the base, and the cured coat is constituted of a composition which comprises an activation energy ray curable compound of 100 pts.wt. and silicone oil of 0.1-1 pts.wt. and is cured by irradiation with activation energy.例文帳に追加

樹脂基板と、その表面に形成された硬化被膜とからなり、該硬化被膜は、活性化エネルギー線硬化性化合物１００重量部及びシリコーンオイル０．１〜１重量部を含む組成物が活性化エネルギー線の照射により硬化されたものである耐擦傷性樹脂板が提供される。 - 特許庁

Upon activation of the fan motor 20, outside air is sucked from the lower surface side, once flows into the bracket 30, then is blown through the opening part 48 on the right side, and flows along the bottom surface 14 of the refrigerator main body 10 toward the right side edge.例文帳に追加

ファンモータ２０が駆動されると、下面側から外気が吸引されて一旦ブラケット３０内に流入したのち、右側の開口部４８から吹き出され、冷蔵庫本体１０の底面１４に沿って右側縁に向けて流通する。 - 特許庁

In the surface wave excitation plasma CVD device 100, a material gas comprising silicon element is introduced into a chamber 1 by at least one of an upper surface side introduction tube and a side surface side introduction tube 7, and a process gas which makes material gas cause chemical reaction by activation by surface wave excitation plasma P is introduced into the chamber 1 by a process gas introduction tube 5.例文帳に追加

表面波励起プラズマＣＶＤ装置１００は、シリコン元素を含む材料ガスを上面側導入管および側面側導入管７の少なくとも一方によりチャンバー１内に導入し、表面波励起プラズマＰにより活性化して材料ガスに化学反応を起こさせるプロセスガスをプロセスガス導入管５によりチャンバー１内に導入する。 - 特許庁

The ZnSe light emitting element which emits the light from an emitting surface 16 to an exterior includes an n-type ZnSe substrate 1 having a self-activation luminescent center SA, an active layer 4 formed on the substrate 1, and an Al layer 9a disposed on a surface at an opposite side to the emitting surface 16 to reflect the light to the emitting surface side.例文帳に追加

出射面１６から光を外部に出射するＺｎＳｅ系発光素子であって、自己活性発光中心ＳＡを含むｎ型ＺｎＳｅ基板１と、ｎ型ＺｎＳｅ基板１の上に形成された活性層４と、出射面１６と反対側の面に位置し、光を出射面側に反射するＡｌ層９ａとを備える。 - 特許庁

A light shielding frame for preventing a body to be transferred from being irradiated with unnecessary EUV light is stuck on the light shield region of the reflection type mask using surface activation bonding.例文帳に追加

不要なＥＵＶ光が被転写体へ照射されることを防止するための遮光枠を、表面活性化接合を用いて、反射型マスクの遮光領域に貼付することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate, in which an impurity doped into a semiconductor is activated, and a shape of a surface thereof is made uniform by the activation to achieve good properties for use as an imaging element.例文帳に追加

半導体に注入された不純物を活性化するとともに該活性化によって表面性状を一様なものにして撮像素子などとして使用する際に、良好な特性を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silicon carbide semiconductor device that suppresses warpage of a substrate and has smoother surface of silicon carbide than before, while keeping high activation of impurities.例文帳に追加

基板の反りが抑制され、高い不純物の活性化率を保ちつつ従来よりも平滑な炭化珪素の表面を有する炭化珪素半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In additional and alternative embodiments, the thermal absorbant may be configured to transfer heat into the surface and/or interior of suppressant particles or droplets to promote activation of the suppressant.例文帳に追加

さらなるかつ代替的な実施形態において、吸熱剤は、抑制剤の粒子または液滴の表面および／または内部に熱を移動して、抑制剤の活性化を促進するように構成される。 - 特許庁