「surface formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

An easy-axis impart magnetic field generating system 7 for applying easy magnetizing property in a prescribed direction, while a magnetic field is applied along the surface at the position near to the surface of the substrate 8 for formation of the film is provided outside the sputter chamber 1.例文帳に追加

成膜の際に基板８の表面付近にその表面に沿った特定の向きの磁界を印加してその特定の向きにのみ磁化され易い性質を付与する容易軸付与用磁界発生装置７が、スパッタチャンバー１の外に設けられている。 - 特許庁

To provide a sensor element improved in accuracy and reliability for surface monitoring such as detection of water, snow and ice on the exposed surface, and detection of ice formation in an initial stage, and a method of detecting a capacity change of the sensor element.例文帳に追加

露出表面上の水、雪、氷の検出及び初期段階での氷形成の検出等、表面監視のための正確性及び信頼性の改善されたセンサ素子及び、センサ素子の容量変化を検出する方法を提供する。 - 特許庁

The composition of an RE-TM alloy constituting the recording layer 5 is denoted by TMrich, and the flattening layer 3 of good surface smoothness is formed on the substrate of the antiferromagnetic layer 4 to deal with surface roughness caused by the formation of the antiferromagnetic layer 4.例文帳に追加

記録層５を構成するＲＥ−ＴＭ合金の組成をＴＭｒｉｃｈとし、反強磁性層４の形成による表面荒れに対しては反強磁性層４の下地に表面平滑性の良い平坦化層３を形成するものとする。 - 特許庁

To provide a lens with built-in hologram element which delays the sagging of an adhesive when the adhesive is applied to a joint surface of optical base material and the fitting is performed and, upon the assembly formation, reduces the unevenness of the adhesive on the joint surface, and to provide a manufacturing method of the lens with built-in hologram element.例文帳に追加

光学基材の接合面に塗布し、嵌合する際に接着剤のタレを遅くし、アセンブリ形成時に接合面での接着剤のムラを低減するホログラム素子内蔵レンズ及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

A separation groove 7 whose sidwall makes an acute angle of θ a with the surface of an n-type matrix 1 is formed on a isolation area of the surface of the n-type matrix 1 by etching, and a p-type diffusion region (emitting part) 5, etc., is formed on an LED array formation region.例文帳に追加

ｎ型基材１表面の分離領域に、エッチングにより、側壁がｎ型基材１表面に対し鋭角θａをなす分離溝７を形成し、またＬＥＤアレイ形成領域に、ｐ型拡散領域（発光部）５等を形成する。 - 特許庁

Polarities are alternately inverted at a high velocity, by which anodic oxidation is prevented and the corrosion of the material to be treated is suppressed; in addition, the formation of the gas is promoted by dropping the reaction products of the cathode sticking to the surface of the material to be treated from the surface.例文帳に追加

また、極性を高速で交互に反転させることにより、陽極酸化を防ぎ、被処理物の腐食を抑制するとともに、陰極の被処理物表面に付着した反応生成物を表面から落としてガスの生成を促進させる。 - 特許庁

To provide a method of producing a langasite-type oxide single crystal wafer, by which the formation of undulation of the surface of the wafer or of a local deep unevenness on the surface of the wafer can be suppressed and the langasite-type oxide single crystal wafer almost free from warps can be easily obtained without generating harmful gas such as NOx.例文帳に追加

ＮＯ_xなどの有害ガスを発生することなく、表面のうねりや局所的な深い凹凸の発生を抑え、反りの少ないウエハを容易に得ることのできるランガサイト型酸化物単結晶ウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The protective layer formation sheet for an optical recording medium is obtained by laminating an adhesive layer to the surface of the highly smooth film not coated with the solvent, if necessary, coating the adhesive layer with the solvent of the highly smooth film, drying the film and laminating a hard coat layer to the dried surface.例文帳に追加

得られた高平滑フィルムの溶剤の非塗布面に接着層を積層し、必要に応じて高平滑フィルムの溶剤を塗布し乾燥した面にハードコート層を積層して、これを光記録媒体用保護層形成シートとする。 - 特許庁

To provide a method of forming a silicon oxide film of good quality on the surface of a silicon wafer by oxidizing the silicon wafer at a low temperature in the formation of the silicon oxide film on the surface of the wafer in the manufacturing process of a semiconductor element and to provide a silicon oxide film manufacturing system.例文帳に追加

半導体素子の製造工程におけるシリコンウェーハ表面への酸化珪素膜の形成において、低温でシリコンウェーハを酸化して、シリコンウェーハ表面に良質の酸化珪素膜の形成方法及びその装置の提供。 - 特許庁

The electron emission surface can be activated by removing an adsorptive substance of the electron emission surface, and the formation of a Ba-O dipole layer by means of sputtering or the like and annealing to the negative electrode base material 4 on which the alloy layer 8 is formed.例文帳に追加

また、上記合金層８を形成した陰極基材４に対し、スパッタ等とアニール処理により電子放出面の吸着物質の除去とＢａ−Ｏ双極子層の形成を行い、電子放出面を活性化することができる。 - 特許庁

The hydrogen storage alloy 3 deteriorated owing to the formation of oxide film on the surface is heated in a hermetically sealed vessel 1 and held for a prescribed period of time under hydrogen atmosphere, by which the oxide film on the surface of the hydrogen storage alloy 3 can be removed by the reducing reaction of hydrogen.例文帳に追加

表面に酸化被膜が形成されて劣化した水素吸蔵合金３を密閉容器１内で加熱し、水素雰囲気下で一定時間保持することで該水素吸蔵合金３表面の酸化被膜を水素の還元反応により除去する。 - 特許庁

To prevent formation of unnecessary recessed grooves on the surface of the body of a substrate or unnecessary cavities in an embedded oxide film by preventing the exposure of the edge area of the oxide film on the surface of the main body of the substrate.例文帳に追加

パターン形成した埋込み酸化膜のエッジ領域を基板本体の表面に露出させず、これにより基板本体の表面に不要な凹溝が形成されたり、或いは埋込み酸化膜に不要な空洞が形成されるのを防止する。 - 特許庁

To perform highly uniform development control formation of the flow of the liquid into the liquid developer film on the surface of the substrate, in a method of applying liquid developer, while making a feed nozzle move from the rear end to the front end of a substrate surface.例文帳に追加

基板表面に対して後端側から前端側へ供給ノズルを移動させながら現像液を塗布する手法において、基板表面の現像液膜に液流が形成するのを抑制して均一性の高い現像を行うこと。 - 特許庁

Circuit structures (10, 20, 30, 40) respectively have a major surface (1a) positioned in a co-planar orientation with respect to a major surface of another of the circuit structures to provide a sequence of the structures (10-40) in a stack-like formation.例文帳に追加

回路構造（１０、２０、３０、４０）が、各々主表面（１ａ）を含み、主表面は回路構造のもう一つのものの主表面に関して共面配向に配置されて、積層状構成を成す構造（１０−４０）の系列を提供する。 - 特許庁

To prevent leakage of smoke and hot air by preventing the formation of clearance relatively to an inside surface of a hole of a concrete floor in a box-shaped frame body fixed as a member for fireproof treatment to the inside surface of the hole of the concrete floor for penetrating a combustible long size material.例文帳に追加

可燃性長尺物が貫通するコンクリート床の穴の内面に防火処置用の部材として固定される箱型枠体で、コンクリート床の穴の内面との間に隙間ができないようにして、煙や熱気の漏れを防止する。 - 特許庁

An insulating layer formation process is provided, where, on a laminated substrate 1 comprising a metal layer 3 on its surface, a resin insulating layer 13 comprising a bottomed hole 12 whose bottom surface is a part of the metal layer 3 is formed.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、表面１Ａに金属層３を有する被積層基板１上に、この金属層３の一部を底面とした有底孔１２を有する樹脂絶縁層１３を形成する絶縁層形成工程を備える。 - 特許庁

To provide a technique capable of preventing formation of balls on a rice malt substrate layer as much as possible, when prepared rice malt is maintained, and capable of efficiently conducting crushing treatment of the balls which form on an upper surface of the rice malt substrate layer or float to the upper surface.例文帳に追加

製麹の手入れの際に、麹基質層に玉の発生をできるだけ抑制し、また麹基質層上表面に発生、浮上する麹の玉を効率よく破砕処理することのできる技術を提供することを課題とする。 - 特許庁

The electrode surface farther from the active layer on the semiconductor substrate 1 is entirely flat, and a structure for restricting the length of dielectric film 5 to be wrapped around to an electrode side at dielectric film 5 formation is formed on the surface of the electrode.例文帳に追加

半導体基板１の活性層から遠い方の電極面は全体に平坦であり、誘電体膜５を形成する際、誘電体膜５の電極面側への回り込み長を制限する構造が電極面上に形成されたものである。 - 特許庁

To provide an improved method for improving solderability by suppressing formation of an oxide of surface on metal finishing, as a method which tries to cope with a problem of the oxide of surface on metal deposits.例文帳に追加

金属堆積物上の表面酸化物の問題に対処することを試みる方法があるが、金属仕上げの上の表面酸化物形成を抑制し、はんだ付け性を改善するための改善された方法が依然として必要とされている。 - 特許庁

To easily obtain thin-wall maraging steel having sufficiently improved surface hardness by nitriding itself, and having superior abrasion resistance and bending fatigue strength by inhibiting formation of a white layer such as Fe_2N on the surface.例文帳に追加

薄肉マルエージング鋼を窒化処理し、表面硬さを十分に向上させると共に、薄肉マルエージング鋼の表面にＦｅ_２ Ｎ等の白層が発生するのを抑制し、耐摩耗性や曲げ疲労強度に優れた薄肉マルエージング鋼が簡単に得られるようにする。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet enabling the positioning of a circuit surface from the adhesive sheet side and formation of a modified layer by incidence of infrared wavelength laser beam from the adhesive sheet side even when the circuit surface of a wafer is stuck on the adhesive sheet.例文帳に追加

ウエハの回路面を粘着シートに貼合した場合でも、粘着シート側からの回路面の位置合わせおよび粘着シート側からの赤外波長レーザー光の入射による改質層の形成が可能とする粘着シートを提供する。 - 特許庁

The sliding part and its manufacturing method has a pore 10 formed by combusting carbon particles of the sliding surface 2 of the sliding part 1, and reaction sintering SiC with formation of Si and carbon/SiC is conducted to the sliding surface 2.例文帳に追加

摺動部品及びその製造方法であって、摺動部品１の摺動面２のカーボン粒子を燃焼させて気孔１０を形成すると共に、摺動面をＳｉとカーボン／ＳｉＣの組織を有する反応焼結ＳｉＣさせたものである。 - 特許庁

The optical film has a fine rugged structure layer, on a base material and a surface protection layer is formed on a ruggedness formation surface of the fine rugged structure layer, and the optical transfer sheet that uses the optical film is also provided.例文帳に追加

基材上に微細凹凸構造層を有する光学フィルムであって、前記微細凹凸構造層の凹凸形成面上に、表面保護層が形成されていることを特徴とする光学フィルムおよびそれを用いた光学用転写シートである。 - 特許庁

To provide a means to prevent film formation on a surface of a photosensitive composition containing self-water-dispersible fine resin particles, and to avoid deterioration in image quality, peeling and cracking of a surface of a photosensitive layer and environmental pollution, caused by the film.例文帳に追加

自己水分散性樹脂微粒子を含む感光性組成物の表面における皮膜形成を防止し、当該皮膜に起因する画質低下、感光層表面の剥離乃至亀裂、及び、環境汚染を回避する手段を提供すること - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device comprises a polishing step of polishing peripheral edges of a semiconductor substrate 1 and a protection film formation step of forming a protection film 9, that is an insulating film 6, over the surface of the semiconductor substrate 1 including a surface 8 exposed by the polishing step.例文帳に追加

半導体基板１の周縁部を研削する研削工程と、研削工程により露出した表面８を含む前記半導体基板１の表面に、絶縁膜６である保護膜９を形成する保護膜形成工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a die for extrusion capable of forming a coated layer having a long smooth surface by preventing the film formation of the coating solution at the die tip, and continuously and stably producing a resin sheet having a good surface condition and the like.例文帳に追加

本発明は、ダイ先端部での塗工液の皮膜化等を防止して表面が平滑な塗工層を可及的に永く形成し、表面状態の良好な樹脂シート等を連続して安定に製造できるエクストリュージョン用のダイを提供する。 - 特許庁

The film 2 having a thin thickness is used while enabling proper protection and sealing of the surface serving as a circuit formation surface, thereby making the thickness of the device 1 to be ultrathin to the extent for dealing with high-density packaging.例文帳に追加

回路形成面たる表面の保護及び封止を適正に行い得るようにしつつ、厚さの薄い樹脂フィルム２を用いることによって、半導体装置１の厚みを高密度実装に応え得る程度に極薄いものとすることができる。 - 特許庁

The method further includes a step of bonding a formation surface of the wire grid polarizer 30 of the support base 34 onto the insulating layer 26 on the surface of the photoelectric conversion element and a step of removing the support base 34 from the wire grid polarizer 30.例文帳に追加

そして、光電変換素子表面の絶縁層２６上に、支持基体３４のワイヤグリッド偏光子３０形成面を接合する工程と、ワイヤグリッド偏光子３０から支持基体３４を除去する工程とにより、固体撮像装置を製造する。 - 特許庁

The formation of the ruggedness on the surface of the discharge member by the discharge is prevented and the generation of the pinhole on a photoreceptor 1 due the concentration of the discharge is obviated by providing the portion to be subjected to the discharge on the surface of the electrostatic charging roller with the protective layer 23.例文帳に追加

帯電ローラ２の表面で放電を行う部分に保護層２３を設けることによって、放電部材の表面が放電により凹凸になることを防ぎ、放電の集中によって感光体１にピンホールが発生することをなくす。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of easily and inexpensively preventing a lateral registration shift and an oblique travel at an image formation part when a recording medium is conveyed in order to form an image on its reverse surface.例文帳に追加

裏面に画像を形成すべく記録媒体を搬送する際の横レジずれ、及び画像形成部での斜行を簡単、安価に防止し得る画像形成装置を提供する。 - 特許庁

After parts except the pit region part 13 are masked and a surface treatment by a fluorine processing agent is executed only at the pit region part 13, dyestuff application by a spin coat (formation made of a recording film) is executed.例文帳に追加

ピット領域部１３以外の部分をマスクし、ピット部領域１３にのみフッ素加工剤による表面処理を施した後、スピンコートにより色素塗布（記録膜の形成）を行った。 - 特許庁

Therefore, a main light beam passing through the lens 50 can be made in parallel with an optical axis OA, so that the image surface curvature does not occur in the case of image formation of minor-axis section along a major axis direction.例文帳に追加

よって、イメージングレンズ５０を通過する主光線を光軸ＯＡに平行にすることができ、長軸方向に沿った短軸断面の結像について像面湾曲は発生しない。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of preventing a surface staining caused on an image and an abnormal image such as toner scattering in initial image formation performed for the first time after the developer is supplied.例文帳に追加

現像剤投入後初めて行う初期画像形成で画像に生じる地汚れやトナー飛散などの異常画像を防止することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Then, a heating area on the conductive surface substrate heated rapidly is made to be an equal size to the film forming substrate, and film formation on the film forming substrate is completed by one time heating.例文帳に追加

なお、急速に加熱する導電表面基板の加熱面積は、被成膜基板と同等のサイズとし、１回の加熱で１枚の被成膜基板への成膜を終了させる。 - 特許庁

To provide a method for formation of a hydroxyapatite (HAP) coating film which can form HAP coating film having excellent adhesivity on the surface of a base material made of a metal, or the like, at an appropriate film forming speed.例文帳に追加

金属製等の基材の表面に、密着性の良好なＨＡＰ被膜を適当な成膜速度で形成可能なＨＡＰ被膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

A conductive layer 31 is formed on the entire surface of the substrate, and a spiral groove 32 is formed on the conductive layer 31 at the spiral section, thus adhering the conductor to the substrate for formation.例文帳に追加

基台の表面全体に導体層３１を形成し、螺旋部における導体層３１に螺旋状に溝３２を形成することにより、導体を基台に密着するように形成する。 - 特許庁

As a result, before abnormal film formation takes place in W nuclei, W nuclei 16 can be uniformly formed on the entire surface of the TiN film 13 as an underlying adhesion layer.例文帳に追加

これにより下地密着層としてのＴｉＮ膜１３の表面には、Ｗ核において異常成膜が発生する前に、Ｗ核１６が全体に渡って均一に形成される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium by which a projecting defect on a substrate surface is reduced and obstruction of pattern formation of a magnetic recording layer and damage of a stamper is prevented.例文帳に追加

基体表面の凸状欠陥を低減し、磁気記録層のパターン形成の阻害、およびスタンパの損傷を防ぐことが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wafer storage device which prevents formation of a watermark and the occurrence of a scratch on the surface of a wafer in a process of conveying the wafer while submerging the wafer after polishing.例文帳に追加

研磨後にウェーハを水没させて搬送する工程において、ウェーハの表面にウォータマークが形成されたり傷がついたりすることのないようなウェーハ収納装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminate by using a base containing a solid material and by suppressing formation of indentations derived from the solid material of the base, on the surface.例文帳に追加

固形材料を含有する基材を用いて、基材の固形材料に由来する凹凸が表面に形成されることを抑制して積層体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

A tape printing device 1 has a rubber key member 45, and a key input part 40 constituted by a printed circuit board P having an electrode formation surface, at a curved portion of a body housing 10.例文帳に追加

テープ印字装置１は、ラバーキー部材４５と、電極形成面を有するプリント基板Ｐにより構成されるキー入力部４０を、本体筐体１０の曲面部分に有している。 - 特許庁

The surface of the isolation 105 is lower than that of the silicon substrate 101 in the element formation regions, and hence there is a difference in level having a predetermined vertical interval between these two surfaces.例文帳に追加

この素子分離１０５の表面は素子形成領域のシリコン基板１０１の表面よりも低く、両者間には所定の高低差を有する段差部が形成されている。 - 特許庁

To provide a bump formation technique for a semiconductor integrated circuit or the like where the integrated circuit mounting time is short and besides which does not require an exclusive device for reforming of a resist surface.例文帳に追加

集積回路実装工程時間が短く、かつ、レジスト表面改質のための専用装置を必要としない半導体集積回路等のバンプ形成技術を提供すること。 - 特許庁

When the film 4 is formed by the P-CVD method and/or the temperature is raised after the formation of the Si_3N_4 insulating film 4, pinholes P are formed through the film 4 from the surface of the film 4 to a GaN layer 3.例文帳に追加

この-CVD法によるSi_3N_4膜４の形成時、および／もしくは、形成後温度上昇をさせた際に、該Si_3N_4膜４にその表面からGaN層３に貫通するピンホールＰが生じる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of thin film formation substrate by which a substrate having a surface on which a fine pattern is formed with high precision can be obtained, with high degree of freedom in process conditions and material selection.例文帳に追加

表面に高精度で微細パターンが形成された基板を得ることができ、かつプロセス条件や材料選択の自由度の大きな薄膜形成基板の製造方法を提供する。 - 特許庁