「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

The film is formed in a simple film formation process, whereby the wear resistance and lubricity of the bearing surface can be greatly enhanced.例文帳に追加

これは、簡単な成膜工程で形成され、軸受面の耐摩耗性と潤滑性を大幅に向上させることができる。 - 特許庁

To provide an image display surface plate capable of sticking a plurality of respective different phosphor substances in a single process.例文帳に追加

複数の異なる蛍光体物質の各々を、単一工程で付着することができる画像表示面板を提供する。 - 特許庁

In a film manufacturing process, paste 120 is applied onto the surface of a first film base material 10a, and a second film base material 10b is laminated on the paste 120.例文帳に追加

フィルム製造工程において、第一フィルム基材10a表面にペースト120を塗布し、これに第二フィルム基材10bをラミネートする。 - 特許庁

Difference in thickness between the wafers in each group should be within a tolerance, which allows the simultaneous polishing of the wafers in each group in the mirror-surface polishing process.例文帳に追加

各グループにおけるウェハの厚さの差は、鏡面研磨工程で同時に研磨するための許容範囲以内とする。 - 特許庁

This process is performed only within a limited range of the model surface 16 that corresponds to an area in which the die is corrected (S11).例文帳に追加

この工程は、モデル面１６のうち、金型が修正された箇所に相当する範囲だけに限定して行う（Ｓ１１）。 - 特許庁

An attaching member 41 is fixed on the upper surface of the process cartridge 15, and a handle 10 is rotatably attached to the attaching member 41.例文帳に追加

プロセスカートリッジ１５の上面に取り付け部材４１を固定し、取り付け部材４１に回動可能に把手１０を取り付ける。 - 特許庁

The means for analyzing the correlation on the surface 18 identifies the cause of the fault based on the systematic faulty area 5 and a process managing data 6.例文帳に追加

面内相関解析手段１８は、システマティック不良領域５とプロセス管理データ６から不良原因を特定する。 - 特許庁

To significantly shorten the process time required for a step of causing a porous semiconductor layer on a substrate surface to adsorb pigments.例文帳に追加

基板表面上の多孔質の半導体層に色素を吸着させる工程の処理時間を大幅に短縮すること。 - 特許庁

As a first process, a tape part of one fastener piece is sewn substantially inverted-U shaped on the outer surface of a front plate of the school satchel.例文帳に追加

第一工程として、ランドセルの前板の外面に、一方のファスナー片のテープ部を、略逆Ｕ字状に縫着する。 - 特許庁

The basic element 1 of the head is attached to a supporting device 30 and grinding process and formation of score lines 21 of the face base surface 2 is performed.例文帳に追加

このヘッド素体１を支持装置３０に装着し、フェース素面２の研削加工及びスコアライン２１の形成を行う。 - 特許庁

The method for producing the seasoned solid food includes a process for subjecting solid food to surface wetting treatment with the seasoned liquid food.例文帳に追加

前記味付き液状食品で固形食品を接液処理する工程を有する味付き固形食品の製造方法。 - 特許庁

To achieve a sensor device for preventing a pad formed on the surface of a package from being scratched in a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程においてパッケージの表面に形成されたパッドが傷付かないようにすることができるセンサ装置を実現する。 - 特許庁

The scribe line-forming process is to form a scribe line on a first main surface of the brittle material substrate along a planned scribe line.例文帳に追加

スクライブライン形成工程はスクライブ予定ラインに沿って脆性材料基板の第１主面にスクライブラインを形成する。 - 特許庁

To print a color image on a recording medium and also to print a linear pattern on a surface of the color image through one process.例文帳に追加

１工程で、記録媒体にカラー画像を印刷するとともに、このカラー画像の表面に線状のパターンを印刷する。 - 特許庁

To provide an end mill made of surface-coated hard metal which exerts an excellent resistance against thermoplastic deformation in the high-speed machining process.例文帳に追加

高速切削加工ですぐれた耐熱塑性変形性を発揮する表面被覆超硬合金製エンドミルを提供する。 - 特許庁

Also, the cleaning method of the stencil reticule is provided with a process of removing an OH group on the surface of the membrane.例文帳に追加

また、メンブレンの表面のＯＨ基を除去する工程を有することを特徴とするステンシルレチクルの洗浄方法とした。 - 特許庁

A silicon dioxide (SiO_2) film is deposited on the surface of a magnetostrictive material having a composition satisfying Tb_0.3Dy_0.7Fe_2 by a plasma CVD process.例文帳に追加

組成がＴｂ_0.3 Ｄｙ_0.7 Ｆｅ_2 である磁歪材の表面に、プラズマＣＶＤ法により二酸化珪素（ＳｉＯ_2 ）膜を形成する。 - 特許庁

The manufacturing method of the present invention comprises a process for forming an insulating sheath layer on the second surface of the smart card body.例文帳に追加

また、本発明の製造方法は、スマートカード本体の第２面上に絶縁性の外被層を形成する工程を含む。 - 特許庁

To protect a driver from electrostatic destruction when a surface protection film is peeled in the process of manufacturing a liquid crystal device or a display.例文帳に追加

液晶装置や表示装置の製造過程において、表面保護フィルムを剥離する際にドライバを静電破壊から保護する。 - 特許庁

To provide an ultra precise processing method using plasma which can process the surface of a work with high efficiency.例文帳に追加

被加工物表面を高能率に加工することができるプラズマによる超精密加工方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a spin dryer apparatus capable of preventing that a semiconductor wafer surface is contaminated in a drying process.例文帳に追加

乾燥工程において、半導体ウェハ表面が汚染されることを防止することのできる、スピン乾燥装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain an inspection method in which surface defects of a metal band conveyed on a production line containing a hot rolling process is detected with high accuracy.例文帳に追加

熱間圧延工程を含む製造ライン上を搬送される金属帯の表面欠陥を高い精度で検出する。 - 特許庁

Then, in a step 12, ultraviolet irradiation process to an Si wafer, which activates the modification of a contact opening part surface, is executed.例文帳に追加

次に、ステップ１２でコンタクト開口部表面の改質を促すＳｉウェハに対する紫外線照射工程がなされる。 - 特許庁

To provide a process for producing a large-size Group III nitride crystal in which the dislocation density of at least the surface thereof is wholly low.例文帳に追加

少なくとも表面の転位密度が全面的に低い大型のＩＩＩ族窒化物結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

COATING LIQUID FOR FORMING SURFACE LAYER, METHOD OF MANUFACTURING ELECTROPHOTOGRAPHIC SENSITIVE BODY, ELECTROPHOTOGRAPHIC SENSITIVE BODY, PROCESS CARTRIDGE AND ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVICE例文帳に追加

表面層形成用塗布液、電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - 特許庁

To produce a spherical composite particle, in which a small particle is stuck dispersedly to the surface of a spherical large particle, by one process.例文帳に追加

球状の大粒子の表面に小粒子が分散付着した球状複合粒子を一つのプロセスで製造する。 - 特許庁

To provide a surface mounting machine which is capable of coping with a process of mounting various types of parts and meeting space-saving requirements.例文帳に追加

より多品種の部品実装に対応することができ、かつ装置の省スペース化の要請にも応えることができるようにする。 - 特許庁

To provide a method for producing a cast slab without causing surface defects on the hot-rolled steel slab by a continuous casting process.例文帳に追加

熱間圧延後の鋼片に表面疵が発生しない鋳片を連続鋳造により製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for the production of a material coated with a coating material with higher accuracy, equipment for the production thereof and a surface mask.例文帳に追加

より高精度に塗布物が塗布された塗布物被塗布材の製造方法および製造装置、表面マスクを提供する。 - 特許庁

Then a front-end coming-out stopper is formed by performing a crushing-in process on the front end of the lead 2 with another punch 82 from the bottom surface side.例文帳に追加

次に、パンチ８２により、リード部２の先端下面側からの潰し加工を行って、先端抜け止め部を形成する。 - 特許庁

The prescribed image process forms a plurality of second two-dimensional ultrasonic images which are alternately cut out along a parallel surface.例文帳に追加

所定の画像処理は、互いに平行な平面に沿って切り出した複数の第２の２次元超音波画像を生成する。 - 特許庁

It employs a manufacturing process of a plurality of processes that automate the surface mounting of a semiconductor chip and achieve the three-dimensional array of a chip.例文帳に追加

半導体チップの表面実装を自動化し、チップの３次元アレイを達成する複数工程の製作プロセスを用いる。 - 特許庁

To provide a plate making process for producing a planographic printing plate free from a deposit inadequate to the printing plate on the plate surface.例文帳に追加

印刷版に不適な付着物を版面上に有さない平版印刷版を作成するための製版方法を提供する。 - 特許庁

To make a space smaller and to decease the volume of the water to be used in a rinsing process step after degreasing, pickling and plating in a continuous surface treatment line.例文帳に追加

連続表面処理ラインにて、脱脂、酸洗、めっき後のリンス工程にてスペースが小さく、使用水量を少なくする。 - 特許庁

To prevent the mirror surface properties from being damaged by a flaw or dust in injection molding simultaneous decoration accompanied by a vacuum forming process.例文帳に追加

真空成形工程を伴なう射出成形同時加飾にて、表面の鏡面性が傷や塵で損なわれない様にする。 - 特許庁

The underlying antireflection film 2 is removed during the burning process thus bringing the semiconductor substrate 1 and the surface electrode 3 into conducting state.例文帳に追加

焼成過程で下層の反射防止膜２が除去され、半導体基板１と表面電極３とが導通状態となる。 - 特許庁

The method for manufacturing the outer ring includes a pressing tool pressing process for pressing a pressing tool 45 onto an outside diameter surface 36 of an outer ring member 32.例文帳に追加

外輪の製造方法は、外輪部材３２の外径面３６に押圧冶具４５を押し当てる押圧冶具押し当て工程を含む。 - 特許庁

In the drawing layer forming process, a drawing layer 10 on which a picture pattern 16 is drawn is formed on the surface 3a of the work 2.例文帳に追加

描画層形成工程では、ワーク２の表面３ａ上に、絵柄１６が描画された描画層１０を形成する。 - 特許庁

The surface of the conductive core 14a is flattened by performing high-temperature heat processing to complete the waveguide core 14a (process 8).例文帳に追加

高温の熱処理を行い、導波路コア１４ａの表面を平坦化させ、導波路コア１４ａを完成させる（工程８）。 - 特許庁

The process C is for washing the metal material surface with cleaning water having 20-60°C of temperature, for a time from one minute to 12 hours.例文帳に追加

工程（Ｃ）：金属材料の表面を、２０〜６０℃の洗浄水で１分以上１２時間以下の時間、洗浄する工程。 - 特許庁

(2) A surface protection insulating film is formed excepting a part of the circuit pattern and the connection pad portion formed in the process (1).例文帳に追加

（２）前記工程（１）で形成された回路パターンおよび接続パッド部の一部を除き表面保護絶縁膜を形成する。 - 特許庁

An inspection map is prepared by performing a defect detection process 32 to the surface of the substrate, and a data base 34a is provided.例文帳に追加

基板表面に対して欠陥検出プロセス３２を行って検査マップを製作し、またデータベース３４ａを提供する。 - 特許庁

The surface hardness of the rollers is made at least 150 Hv, and one of them is used sometimes in a film making process.例文帳に追加

これらの表面硬さを１５０Ｈｖ以上とし、上記２種類のローラを一つの製膜工程内で併用することもある。 - 特許庁

To provide a plasma etching apparatus which can surely remove remaining chlorine adhered to the front surface of a substrate to be etched during an etching process.例文帳に追加

エッチング時に被エッチング基板の表面に付着した残留塩素を確実に除去できるプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

Before a surface coating process of an object 7 to be shielded, an electromagnetic-wave-shielding tape 1 is stuck on its body side and a door (lid).例文帳に追加

シールド対象物７の表面塗装工程の前に、本体側及び扉（蓋）に電磁波シールドテープ１を貼着させておく。 - 特許庁