「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent the surface of a substrate from being altered by hot water treatment, with respect to an optical element having the hot water treatment in a preparation process.例文帳に追加

作製プロセスに熱水処理を有する光学素子において，処理によって基板表面が変質してしまうことを防ぐ。 - 特許庁

A process liquid discharged from the hole 24 flows along the connecting face 30 and resides on the liquid filling face 31 due to the surface tension.例文帳に追加

吐出口２４から吐出される処理液は、表面張力により連絡面３０を伝わり液盛面３１に留められる。 - 特許庁

To make a space smaller and to decease the volume of the water to be used in a rinsing process step after degreasing, pickling and plating in a continuous surface treatment line.例文帳に追加

連続表面処理ラインにて、脱脂、酸洗、めっき後のリンス工程にてスペースが小さく、使用水量を少なくする。 - 特許庁

To prevent the mirror surface properties from being damaged by a flaw or dust in injection molding simultaneous decoration accompanied by a vacuum forming process.例文帳に追加

真空成形工程を伴なう射出成形同時加飾にて、表面の鏡面性が傷や塵で損なわれない様にする。 - 特許庁

To provide an ultra precise processing method using plasma which can process the surface of a work with high efficiency.例文帳に追加

被加工物表面を高能率に加工することができるプラズマによる超精密加工方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

A silicon dioxide (SiO_2) film is deposited on the surface of a magnetostrictive material having a composition satisfying Tb_0.3Dy_0.7Fe_2 by a plasma CVD process.例文帳に追加

組成がＴｂ_0.3 Ｄｙ_0.7 Ｆｅ_2 である磁歪材の表面に、プラズマＣＶＤ法により二酸化珪素（ＳｉＯ_2 ）膜を形成する。 - 特許庁

To provide an end mill made of surface-coated hard metal which exerts an excellent resistance against thermoplastic deformation in the high-speed machining process.例文帳に追加

高速切削加工ですぐれた耐熱塑性変形性を発揮する表面被覆超硬合金製エンドミルを提供する。 - 特許庁

Also, the cleaning method of the stencil reticule is provided with a process of removing an OH group on the surface of the membrane.例文帳に追加

また、メンブレンの表面のＯＨ基を除去する工程を有することを特徴とするステンシルレチクルの洗浄方法とした。 - 特許庁

The manufacturing method of the present invention comprises a process for forming an insulating sheath layer on the second surface of the smart card body.例文帳に追加

また、本発明の製造方法は、スマートカード本体の第２面上に絶縁性の外被層を形成する工程を含む。 - 特許庁

To provide a spin dryer apparatus capable of preventing that a semiconductor wafer surface is contaminated in a drying process.例文帳に追加

乾燥工程において、半導体ウェハ表面が汚染されることを防止することのできる、スピン乾燥装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain an inspection method in which surface defects of a metal band conveyed on a production line containing a hot rolling process is detected with high accuracy.例文帳に追加

熱間圧延工程を含む製造ライン上を搬送される金属帯の表面欠陥を高い精度で検出する。 - 特許庁

To protect a driver from electrostatic destruction when a surface protection film is peeled in the process of manufacturing a liquid crystal device or a display.例文帳に追加

液晶装置や表示装置の製造過程において、表面保護フィルムを剥離する際にドライバを静電破壊から保護する。 - 特許庁

The method for manufacturing the outer ring includes a pressing tool pressing process for pressing a pressing tool 45 onto an outside diameter surface 36 of an outer ring member 32.例文帳に追加

外輪の製造方法は、外輪部材３２の外径面３６に押圧冶具４５を押し当てる押圧冶具押し当て工程を含む。 - 特許庁

The underlying antireflection film 2 is removed during the burning process thus bringing the semiconductor substrate 1 and the surface electrode 3 into conducting state.例文帳に追加

焼成過程で下層の反射防止膜２が除去され、半導体基板１と表面電極３とが導通状態となる。 - 特許庁

In the drawing layer forming process, a drawing layer 10 on which a picture pattern 16 is drawn is formed on the surface 3a of the work 2.例文帳に追加

描画層形成工程では、ワーク２の表面３ａ上に、絵柄１６が描画された描画層１０を形成する。 - 特許庁

Weld lines 23a to 23d generated during a process of resin formation are formed on a flat section 21, which is the bottom surface of a housing 20.例文帳に追加

筺体２０の底面である平面部２１には樹脂成形工程で発生したウェルドライン２３ａ〜２３ｄが形成されている。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING HOT-ROLLED STEEL SHEET FOR WORKING EXCELLENT IN FORMABILITY AND SURFACE CHARACTERISTIC WITHOUT DEVELOPING FINE WRINKLES USING CONTINUOUS HOT-ROLLING PROCESS例文帳に追加

熱延連続化プロセスを用いた畳じわのない成形性と表面性状に優れた加工用熱延鋼板の製造方法 - 特許庁

To produce a nonoriented silicon steel sheet which has excellent surface properties and magnetic properties by a process with the recycling of an iron source as a base.例文帳に追加

表面性状と磁気特性が優れた無方向性電磁鋼板を、鉄資源のリサイクルを基本としたプロセスで製造する。 - 特許庁

In the third process, the surface layer portion of the silicon substrate 101 under the film 104 is oxidized to form a silicon dioxide film 105.例文帳に追加

第３の工程により、膜１０４の下のシリコン基体１０１の表層部を酸化してシリコン酸化膜１０５を形成する。 - 特許庁

The surface of the conductive core 14a is flattened by performing high-temperature heat processing to complete the waveguide core 14a (process 8).例文帳に追加

高温の熱処理を行い、導波路コア１４ａの表面を平坦化させ、導波路コア１４ａを完成させる（工程８）。 - 特許庁

The process C is for washing the metal material surface with cleaning water having 20-60°C of temperature, for a time from one minute to 12 hours.例文帳に追加

工程（Ｃ）：金属材料の表面を、２０〜６０℃の洗浄水で１分以上１２時間以下の時間、洗浄する工程。 - 特許庁

(2) A surface protection insulating film is formed excepting a part of the circuit pattern and the connection pad portion formed in the process (1).例文帳に追加

（２）前記工程（１）で形成された回路パターンおよび接続パッド部の一部を除き表面保護絶縁膜を形成する。 - 特許庁

An inspection map is prepared by performing a defect detection process 32 to the surface of the substrate, and a data base 34a is provided.例文帳に追加

基板表面に対して欠陥検出プロセス３２を行って検査マップを製作し、またデータベース３４ａを提供する。 - 特許庁

The surface hardness of the rollers is made at least 150 Hv, and one of them is used sometimes in a film making process.例文帳に追加

これらの表面硬さを１５０Ｈｖ以上とし、上記２種類のローラを一つの製膜工程内で併用することもある。 - 特許庁

To provide a plasma etching apparatus which can surely remove remaining chlorine adhered to the front surface of a substrate to be etched during an etching process.例文帳に追加

エッチング時に被エッチング基板の表面に付着した残留塩素を確実に除去できるプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

Before a surface coating process of an object 7 to be shielded, an electromagnetic-wave-shielding tape 1 is stuck on its body side and a door (lid).例文帳に追加

シールド対象物７の表面塗装工程の前に、本体側及び扉（蓋）に電磁波シールドテープ１を貼着させておく。 - 特許庁

After that, roughness of a resist mask 7 formed on the surface 5a is removed by a plasma process before a BG tape 25 is attached.例文帳に追加

その後、ＢＧテープ２５の貼付前に表面５ａに形成されたレジストマスク７の荒れをプラズマ処理により除去する。 - 特許庁

With such an etching process, roughness 11b having a tapering angle of α that is almost perpendicular is formed on the bottom surface 11a.例文帳に追加

このようなエッチング処理により、テーパ角αが垂直に近く、且つトレンチ１１の底面１１ａに粗さ１１ｂが形成する。 - 特許庁

When the pipeline is actuated in a specified drawing mode, the hidden surface elimination process can be executed at an early stage in the pipeline.例文帳に追加

ある描画モードでパイプラインが動作する場合、隠面消去処理をパイプライン内の早い段階において行うことができる。 - 特許庁

Then, the variable probe 52a is evacuated from the surface plane 2a of the coating 2 and the coating 2 is ground at a primary grinding process.例文帳に追加

次いで、変動プローブ５２ａを被膜２の表面２ａから退避させ、一次研削工程にて被膜２の研削を行う。 - 特許庁

The basic element 1 of the head is attached to a supporting device 30 and grinding process and formation of score lines 21 of the face base surface 2 is performed.例文帳に追加

このヘッド素体１を支持装置３０に装着し、フェース素面２の研削加工及びスコアライン２１の形成を行う。 - 特許庁

The method for producing the seasoned solid food includes a process for subjecting solid food to surface wetting treatment with the seasoned liquid food.例文帳に追加

前記味付き液状食品で固形食品を接液処理する工程を有する味付き固形食品の製造方法。 - 特許庁

To print a color image on a recording medium and also to print a linear pattern on a surface of the color image through one process.例文帳に追加

１工程で、記録媒体にカラー画像を印刷するとともに、このカラー画像の表面に線状のパターンを印刷する。 - 特許庁

To achieve a sensor device for preventing a pad formed on the surface of a package from being scratched in a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程においてパッケージの表面に形成されたパッドが傷付かないようにすることができるセンサ装置を実現する。 - 特許庁

The scribe line-forming process is to form a scribe line on a first main surface of the brittle material substrate along a planned scribe line.例文帳に追加

スクライブライン形成工程はスクライブ予定ラインに沿って脆性材料基板の第１主面にスクライブラインを形成する。 - 特許庁

To significantly shorten the process time required for a step of causing a porous semiconductor layer on a substrate surface to adsorb pigments.例文帳に追加

基板表面上の多孔質の半導体層に色素を吸着させる工程の処理時間を大幅に短縮すること。 - 特許庁

As a first process, a tape part of one fastener piece is sewn substantially inverted-U shaped on the outer surface of a front plate of the school satchel.例文帳に追加

第一工程として、ランドセルの前板の外面に、一方のファスナー片のテープ部を、略逆Ｕ字状に縫着する。 - 特許庁

A curved surface panel part 11 and funnel part 13 of a glass structural body of cathode-ray tube are formed in a single piece through a blow molding process.例文帳に追加

陰極線管のガラス構造体の曲面パネル部１２及びファンネル部１３をブロー成形により一体に形成してなる。 - 特許庁

In the high corrosion-resistant member, the surface of the stainless steel base material is not exposed to a high temperature of 450°C or higher in manufacturing process.例文帳に追加

上記の高耐食性部材は、製造工程において、ステンレス鋼製の基材の表面が、高温（＞４５０℃）に曝されない。 - 特許庁

Since merely observation using X-rays from a surface is required, a non-destructive inspection for dislocation amount is possible in a manufacturing process.例文帳に追加

また、表面よりＸ線にてマークを観察すれば良いので、製造工程内での位置ズレ量の非破壊検査が可能となる。 - 特許庁

The other insulating layer 18 is formed on bottoms of the metal bumps 11D, a surface polishing process is carried out, and a wiring pattern 19 is formed.例文帳に追加

金属バンプ１１Ｄの底面側から別の絶縁層１８を形成し、表面研磨し、配線パターン１９を形成する。 - 特許庁

The steel wire material has an alloy plating layer on the surface thereof and is subjected to wet wire drawing in a production process of a steel wire.例文帳に追加

スチールワイヤ製造工程における湿式伸線に供する、表面に合金めっき層を有するスチールワイヤ材である。 - 特許庁

In the laser working process, the edge surface of glass raw disk 17 is heated and melted, so, the fine cracks are fuse bonded.例文帳に追加

このレーザー加工工程によって、ガラス素板１７の端面は加熱溶融されるとともに微小クラックは融着されている。 - 特許庁

The reproducing method of the first substrate includes a process for homoepitaxially growing the first substrate whose surface is processed.例文帳に追加

また、さらに、表面処理がされた第１の基板をホモエピタキシャル成長させる工程とを含む第１の基板の再生方法。 - 特許庁

A compact industrial process transmitter has an electronics module including a top surface which has a plurality of lead wire attachment points thereon.例文帳に追加

コンパクト産業プロセス送信機は、その上に複数のリード線取り付け点をもつ上面を含む電子機器モジュールを有する。 - 特許庁