「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

This surface roughening method for the electrophotographic photoreceptor base material has a wet process honing step for polishing the surface of the electrophotographic photoreceptor base material by spraying a polishing liquid, having the polishing agent toward the surface of the base material and a washing process step for washing the surface of the base material, by jetting water, towards the surface of the base material from a ring nozzle arranged around the base material.例文帳に追加

研磨剤を含有する研磨液をスプレーノズルから電子写真感光体基材の表面に向けて噴射させて、該基材の表面を研磨する湿式ホーニング工程と、水を前記基材の周囲に配置されたリングノズルから前記基材の表面に向けて噴射させて、前記基材の表面を洗浄する洗浄工程と、を含むことを特徴とする、電子写真感光体基材の表面粗面化方法。 - 特許庁

This invention relates to this method for biomolecule immobilization, comprising: providing a substrate; forming a surface modification layer of carboxy groups on one surface of the substrate, wherein the process for forming the surface modification layer comprises plasma surface modification; and providing multiple biomolecules and bonding the biomolecules with the surface modification layer.例文帳に追加

基材を供給；基材の一表面上にカルボキシ基の表面改質層を形成、ここで表面改質層の形成のための工程はプラズマ表面改質を含む；および多数の生体分子を供給しおよび生体分子を表面改質層と結合することを含む、生体分子固定化のための方法に関する。 - 特許庁

In the casting process, before a resin solution is cast, activation treatment is applied on the surface of a support to make the surface energy of the surface of the support in contact with both ends in the width direction of the cast film, higher than the surface energy of the surface of the support in contact with the middle part in the width direction of the cast film.例文帳に追加

流延工程において、樹脂溶液を流延する前に、流延膜の幅方向両端部と接する支持体の表面の表面エネルギーが、流延膜の幅方向中央部と接する支持体の表面の表面エネルギーよりも高くなるように支持体の表面に活性化処理を施す。 - 特許庁

To provide a polymer electrolyte membrane which has an improved handling during a membrane producing process and has a large wettability difference or a large contact angle difference against water on a surface of a first surface and a second surface of the electrolyte surface in order to dispense with a surface treatment after the membrane production and provide a laminate of the membrane and manufacturing methods of the membrane and the laminate.例文帳に追加

製膜工程でのハンドリング性を改善し、且つ、製膜後の表面処理を不要とするために、電解質膜表面の第一面と第二面の表面の水に対する濡れ性の差が大きい、即ち接触角の差が大きい高分子電解質膜、その積層体、及びそれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a manufacturing process of the polarized light separation device, first, a glass block is formed by alternately laminating a sheet glass having a polarized light separation film constituted of an inorganic multi-layer film on its surface and a sheet glass having a reflection surface on its surface together, and the glass block is cut along a cutting surface oblique to the stuck surface.例文帳に追加

偏光分離装置の製造工程では、まず、無機物質からなる多層膜で構成された偏光分離膜を表面に有する板ガラスと、反射面を表面に有する板ガラスを交互に貼り合わせたガラスブロックを形成し、その貼り合わせ面に対して斜めの切断面に沿ってガラスブロックを切断する。 - 特許庁

The method of manufacturing the optical disk for inspection comprising forming the projecting part on the reflecting surface on the data reproducing surface side by a process step of adding the deformation thereto by irradiating the optical disk with the laser for processing from the printing surface side formed on the rear surface side of the data reproducing surface as the post processing after the molding of the optical disk.例文帳に追加

また、光ディスクの成形後の後加工として、当該光ディスクにおけるデータ再生面の裏面側に形成される印刷面側から、加工用レーザを照射して変形を加える工程により、データ再生面側の反射面に凸部を形成する検査用光ディスクの製造方法。 - 特許庁

Because the surface roughness of the outside surface guide plane 12d is poor, it is subjected to a grinding process and a surface treatment so as to enhance the surface roughness of the plane 12d, and the wear can be suppressed low even if the plane 12d is in slide contact with the internal circumferential surface of an epicyclic gear 4c.例文帳に追加

外径案内面１２ｄの面粗度が悪いことから、研削加工を施し且つ上述した表面処理を行い、外径案内面１２ｄの面粗度を向上させることで、外径案内面１２ｄが遊星歯車４ｃの内周面と摺接したような場合でも、摩擦を低く抑えることができる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of increasing the number of sheets per unit time for reversing the front surface and back surface after an image forming process even when one side printing and both sides printing are mixed.例文帳に追加

片面印刷と両面印刷とが混在するときにも、画像形成処理後に表裏を反転させる単位時間当たりの用紙の数を増加できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

As etching masks in an etching process on a metal base 1, a permanent dry-film resist is used on one surface, and a removable dry-film resist or noble-metal plating for bonding is used on the other surface.例文帳に追加

金属基材１のエッチング工程で、エッチングマスクとして、片面に永久ドライフィルムレジストを用い、もう一方の面に剥離型ドライフィルムレジスト又はボンディング用の貴金属めっきを用いる。 - 特許庁

Temporal transition of intensity of surface radiation radiated from a part of a surface during the physical and/or chemical process is measured by using a measurement instrument such as especially a sensor.例文帳に追加

物理および／または化学プロセス中に表面の一部から放射される表面放射線の強度の時間的な変移を特にセンサ等の測定装置を使用して測定する。 - 特許庁

To efficiently realize high degree of working accuracy and excellent surface roughness in one process without fitting a work again by grinding the work with the mill grinding method while performing the electrolytic dressing to a lower surface of a cylinder of a cup grinding wheel.例文帳に追加

ワークの再取付けなしに１工程で加工でき、高精度の加工精度と優れた表面粗さを高能率で達成できる球面レンズ研削装置を提供する。 - 特許庁

The blackened surface is exposed to various chemicals to be used for the etching process, and the reflectivity change of the blackened surface after copper mesh formation by etching is set to be 2 or less.例文帳に追加

黒色化処理した表面がエッチング工程に用いられる各種薬剤に暴露され、エッチングによる銅メッシュ形成後の黒色化された表面の反射率変化が２以下とした。 - 特許庁

To suppress the generation of a hillock on the surface of a wiring electrode without complicating a process and to smooth and stabilize paper feed at a time of printing by smoothing the surface of a protective film.例文帳に追加

工程を複雑化することなく配線電極表面でのヒロックの発生を抑制し、保護膜表面を平滑にすることにより印字の際の紙送りがスムーズかつ安定化させる。 - 特許庁

In a row bar polishing process, a polished surface of the row bar 1 is polished while pressing the row bar 1 held by the keeper 16 against a concave surface 13a of a rotational polishing platen.例文帳に追加

ローバー研磨工程では、キーパー１６に保持されたローバー１を、凹曲面１３ａを有する回転する研磨定盤の凹曲面１３ａに押し付けながら、ローバー１の研磨面を研磨する。 - 特許庁

This has an inner layer printed wiring 12 on one surface of an inner layer insulating layer 12 of a nonwoven fabric basic material, and a rectangular copper foil 13 to be the bottom of the recess remains on the other surface in an after process.例文帳に追加

これは、不織布基材内層絶縁層１１の一面に内層プリント配線１２を有し、他面に後工程で凹陥部の底となる矩形の銅箔１３を残してある。 - 特許庁

A first recess 41 which is cone-shaped over the entire circumference is formed on an upper surface of the floor 4 within a range including a part where a lower-end part of an inner peripheral surface of the process tube 1 is positioned.例文帳に追加

フロア４の上面におけるプロセスチューブ１の内周面の下端部が位置する部分を含む範囲内に、全周にわたってすり鉢状の第１の凹部４１を形成した。 - 特許庁

To reduce noise caused by turbulence of air current while using a housing formed as a structure including a tapered surface on an inside surface by a process including injection molding in an axial fan.例文帳に追加

軸流ファンにおいて、射出成形を含む工程により内側面がテーパ面を有する構造として形成されるハウジングを用いつつ、気流の乱れに起因する騒音を低減する - 特許庁

To surely remove electrical noises due to the presence of an interface at which different conduction type layers are laminated on a cut surface of a rear surface irradiation type imaging element, by a simple process.例文帳に追加

裏面照射型撮像素子の切断面に異なる導電型の層が積層された界面が存在することによる電気的なノイズを、簡易な工程で確実に除去する。 - 特許庁

Before austenizing the cast iron, the cast iron is coated with a surface treating material which is not reacted with molten tin (surface treating process) so that the cast iron is not brought into direct contact with the molten tin.例文帳に追加

鋳鉄をオーステナイト化する前に、鋳鉄に溶融錫と反応しない表面処理材を被覆し（表面処理工程）、鋳鉄と溶融錫とを直接接触しない様にした。 - 特許庁

The reflection surface is molded so that the surface has irregular asperity in a molding process of the reflecting plate 4, and formed by evaporating metal such as aluminum.例文帳に追加

この反射表面は、反射板（４）の成形過程において表面を不規則的な凹凸を有するように成形し、アルミ等の金属を蒸着させることにより形成される。 - 特許庁

In a preheating process, the mode field diameter in the end surface is enlarged by heating the area including the end surface of the first optical fiber 1 having a large mode field diameter by diffusing an additive.例文帳に追加

前加熱工程において、モードフィールド径が大きい第１の光ファイバ１の端面を含む領域を加熱して添加物を拡散させて、端面におけるモードフィールド径を拡大させる。 - 特許庁

By this removing process of the DZ layer, the silicon wafer 30 can be obtained having the DZ layer exposed on a first surface 31 and the BMD layer exposed on the second surface.例文帳に追加

以上のようなＤＺ層の除去工程によって、第１面３１にＤＺ層が露出するとともに、第２面にＢＭＤ層が露出した本発明のシリコンウェーハ３０が形成される - 特許庁

From a surface of an insulating film (High-k film) 32 of a Ge substrate 31 for which the insulating film 32 is laminated on an upper surface, plasma of process gas containing oxygen-atom-containing gas is radiated.例文帳に追加

上面に絶縁膜（Ｈｉｇｈ−ｋ膜）３２が積層されたＧｅ基板３１の絶縁膜３２の表面から、酸素原子含有ガスを含む処理ガスのプラズマを照射する。 - 特許庁

To provide a surface-treated copper foil having excellent gray color and workable in a regular copper etching process, and a conductive mesh for PDP manufactured by the surface-treated copper foil.例文帳に追加

良好な灰色を持ち、且つ、通常の銅エッチングプロセスで加工可能な表面処理銅箔、及び、そのような表面処理銅箔で製造されたＰＤＰ用導電性メッシュを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a nozzle plate capable of making the surface of the nozzle plate to be uniformly rough and forming a uniform ink repellent layer on the surface in a simple process.例文帳に追加

簡易な工程により、ノズルプレートの表面を均一に粗面化し、該表面上に均一な撥インク層を形成することができるノズルプレートの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Alternatively, inclination of the scanning plane and the mask surface is corrected by a biaxial tilt stage provided in an atomic force microscope scanner system to process the mask, while the mask surface is kept parallel to the scanning plane.例文帳に追加

もしくはスキャン面とマスク面の傾きを原子間力顕微鏡スキャナー側に設けた2軸チルトステージで補正してスキャン面とマスク面が平行になる状態で加工を行う。 - 特許庁

In a process for forming a film on the surface of a wafer W by heat treatment, the surface of the wafer W is irradiated with laser light generated from a light source 206 and depolarized through a depolarizer 210.例文帳に追加

熱処理によるウェハＷ表面への成膜工程において、光源２０６の発生したレーザ光をデポーラライザ２１０により無偏光化してウェハＷ表面に照射する。 - 特許庁

For the purpose of lowering the temperature of the surface to be treated to a fixed temperature, previous to a process for surface treatment at least a portion of at least one side of the surfaces of the steel product, is cooled.例文帳に追加

処理されるべき面を一定の温度に低下させるために、表面処理の行程に先立って、金属製品の少なくとも一方の表面の少なくとも一部分を冷却する。 - 特許庁

The thickness of the surface deterioration layer formed at a test process is actually measured, beforehand, and a processing condition table T1 is created which is to be related to the processing conditions and the surface deterioration layer.例文帳に追加

予め、テスト加工工程で形成された表面変質層の膜厚を実測し、加工条件と表面変質層の膜厚を関係付ける加工条件テーブルＴ１を作成する。 - 特許庁

To provide a polishing process which can briefly and efficiently polish a surface to be polished of a workpiece such as an optical element mainly composed of silicon oxide, a silicon wafer or the like into a smooth surface with a high degree of accuracy.例文帳に追加

酸化シリコンを主成分とする光学素子やシリコンウェハ等の被加工面を能率良く短時間に高精度の平滑面に加工できる研磨加工方法を提供する。 - 特許庁

To extend grinding whetstone life and to improve roughness of a workpiece surface by suppressing rapid drop of abrasive grains on the whetstone surface due to interference with the workpiece in a grinding process.例文帳に追加

研削過程における工作物との干渉による砥石表面の砥粒の急激な脱落を抑制し、砥石寿命の延長と工作物表面粗さの改善を図る。 - 特許庁

To reduce adhering of dust by static electricity generated at the time of the cleaning process of a panel surface executed at the time of forming a low reflection coat on the panel surface of a display device.例文帳に追加

ディスプレイデバイスのパネル表面に低反射コートを形成する際に行われるパネル表面の清浄工程時に生ずる静電気による、塵の吸着を減少させる。 - 特許庁

Though it is a titanium-niobium system, electrical resistance of the surface can be reduced without using a high temperature process and further electric resistance of the surface can be reduced without using precious indium.例文帳に追加

チタン−ニオブ系でありながら高温プロセスを用いずに表面の電気抵抗を下げることができ、また、高価なインジウムを用いずに表面の電気抵抗を下げることができる。 - 特許庁

The concave dots 18 formed on the surface of the resin sheet 12 are formed by pressing a plurality of concave projections 14b of a press die 14 on the surface of the resin sheet 12 through a cold process.例文帳に追加

樹脂シート１２の表面の凹状ドット１８は、プレス金型１４の複数の凸状突起１４ｂを冷間過程で樹脂シート１２の表面に圧接することにより成形する。 - 特許庁

Then a surface of the epitaxial film is etched with an HCl gas, so the mirror plane-polishing process is simplified, the productivity is improved to reduce the cost, and the surface roughness of the epitaxial film is suppressed.例文帳に追加

その後、エピタキシャル膜の表面をＨＣｌガスエッチングするので、鏡面研磨工程が簡略化し、生産性が高まってコストダウンが図れ、エピタキシャル膜の表面ラフネスも抑制できる。 - 特許庁

To provide a surface treatment process which reduces damage to a photoresist and a substrate, in improving wettability of the surface for the purpose of eliminating defects in plating or wet etching.例文帳に追加

めっき処理やウェットエッチング処理の不良をなくすために表面の濡れ性を向上させる際に、フォトレジストおよび下地へのダメージを減らした表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To prevent burr from being generated in a cutting surface in a manufacturing method of a semiconductor device having a process for dicing a semiconductor wafer where a die-bonding film is provided on a circuit surface.例文帳に追加

ダイボンディングフィルムが回路面上に設けられた半導体ウェハをダイシングする工程を有する半導体装置の製造方法において、切断面におけるバリの発生を防止する。 - 特許庁

The process tube 1 penetrates a hole 41 and is clamped with the upper and lower surfaces of its flange part 11 between the bottom surface of the liner base 44 and the upper surface of the skirt 45 interposing cushions 8, 9 therebetween.例文帳に追加

プロセスチューブ１は、孔部４１を貫通した後、フランジ部１１の上下面をライナーベース４４の底面とスカート４５の上面との間にクッション８，９を介在させて挟持される。 - 特許庁

The non-magnetic layer 15 prevents the surface on the side opposite to the gap layer 9 of the magnetic pole part layer 14A from being damaged in a manufacturing process of the head and maintains the flatness of the surface.例文帳に追加

非磁性層１５は、ヘッドの製造工程において磁極部分層１４Ａのギャップ層９とは反対側の面がダメージを受けることを防止し、その面の平坦性を維持させる。 - 特許庁

For a resist peeling process, the sulfuric acid is supplied from the nozzle 2 to the surface of the substrate S to form a liquid film of the sulfuric acid of nearly room temperature on the surface of the substrate S.例文帳に追加

レジスト剥離処理に際しては、ノズル２から基板Ｓの表面に硫酸が供給されて、その基板Ｓの表面上に略室温の硫酸の液膜が形成される。 - 特許庁

Furthermore, a manufacturing method of the metal member for the fuel cell includes a process of removing the surface damaged layer on the whole surface of the metal member.例文帳に追加

また、本発明の燃料電池用金属部材の製造方法は、該金属部材の表面全体において表面加工変質層を除去する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The process for producing the detergent comprises the step of mixing the surface active agent paste with the anionic surface active agent precursor to obtain a mixed paste and the step of neutralizing the mixed paste.例文帳に追加

界面活性剤ペーストとアニオン界面活性剤酸前駆体とを混合して混合ペーストを得る工程と、該混合ペーストを中和する工程と、を行って洗剤を製造する。 - 特許庁

To provide a treatment process for providing a glass surface with water repellency, by which a water-repellent coating film having excellent water repellency and high durability can be formed on the glass surface.例文帳に追加

優れた撥水性と高い耐久性とを有する撥水塗膜をガラス表面に形成することができるガラス表面の撥水処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electron emitting element that can carry out the surface treatment of a fluorescent layer by a simplified process and only the fluorescent layer is selectively surface treated, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

蛍光層の表面処理を単純な工程で実施することができ、蛍光層のみが選択的に表面処理された、電子放出素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve treatment performance and to suppress differences among cylinders when performing surface treatment by means of frictional stirring process on surface part between intake and exhaust ports of a cylinder head made of a light alloy.例文帳に追加

軽金属製シリンダヘッドの吸排気ポート間の表面部分に摩擦撹拌処理による表面処理を施すに際して、処理効率の向上を図り、また、気筒間のバラツキを抑制する。 - 特許庁