「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

The fine structure transfer method includes a process in which a solvent 14 is applied to the surface 11a of the mold 11 having the fine structure 12, a process in which the resin substrate 13 is contacted with the solvent on the mold, and a process in which the resin substrate is peeled from the mold.例文帳に追加

この微細構造転写方法は、微細構造１２を有するモールド１１の表面１１ａに溶剤１４を適用する工程と、モールド上の溶剤に樹脂基材１３を接触させる工程と、モールドと樹脂基材とを剥離する工程と、を含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the plate glass 1 comprises a process for melting glass raw materials, a process for shaping the plate by drawing downward, and a process for treating the translucent surface 2 by a plasma irradiation, a laser beam irradiation, and/or an ion beam irradiation.例文帳に追加

また本発明の板ガラス１の製造方法は、ガラス原料溶融工程、下方に延伸成形する板成形工程、透光面２にプラズマ照射、レーザー照射、イオンビーム照射の１以上を行う該透光面２の表面処理工程よりなる。 - 特許庁

A method of manufacturing the gas sealing material comprises a process for applying unvulcanized rubber to the outer peripheral surface of the linear member formed of at least one of the organic fiber and metal, a process for joining both ends of the linear member, and a process for vulcanizing the unvulcanized rubber.例文帳に追加

さらに、有機繊維および金属の少なくとも一方からなる線状部材の外周面に未加硫ゴムを塗布する工程と、線状部材の両端部を接合する工程と、未加硫ゴムを加硫する工程とを含むガス用シール材の製造方法である。 - 特許庁

To provide a housing case of high molding quality including a sharp angular portion particularly, by reducing the influence of a hard coat layer during the shape molding process in the deep narrowing process in the housing case allowing coverage of hard coat at the surface with the simplified manufacturing process.例文帳に追加

より簡単な製造工程により表面にハードコートを被覆したハウジングケースを形成することができ、特に深絞工程時の形状成形時にハードコート層の影響を小さくし、角部がシャープで、成形品質も良好なウジングケースを提案する。 - 特許庁

The metal pattern formation method comprises a process (a) of forming a graft polymer directly bonding with the surface of a base material on the base material, a process (b) of forming a metal film by adhering a conductive material to the graft polymer, and a process (c) of etching the metal film.例文帳に追加

（ａ）基材上に、該基材表面に直接結合したグラフトポリマーを形成する工程と、（ｂ）該グラフトポリマーに導電性材料を付着させて金属膜を製膜する工程と、 （ｃ）該金属膜をエッチングする工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The surface hardening material is obtained by solutionizing carbon to a thin film of an alloy consisting of Fe, Cr and Ni groups by continuous process steps of a first process step of depositing the thin film of the above alloy on a substrate and a second process step of solutionizing the carbon.例文帳に追加

基板にＦｅ、Ｃｒ、Ｎｉ基からなる合金の薄膜を析出させる第１の工程と、炭素を固溶させる第２の工程の連続した工程により上記合金薄膜に炭素を固溶させ表面硬化材料を得ることが可能となった。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed wiring board by the electrophotographic process includes the steps of using a liquid developer made of resin particles by positive type photosensitive polymer, and performing overall surface light emitting substantially immediately before an etching process or/and a resist stripping process.例文帳に追加

ポジ型の感光性高分子による樹脂粒子から成る液体現像剤を使用し、エッチング処理または／及びレジスト剥離処理の略直前に全面光照射を行う電子写真法によるプリント配線板の製造方法によって達成される。 - 特許庁

To carry out a tab connection process and a resin sealing process for a solar cell together at a relatively low temperature of the resin sealing process in a method of manufacturing the solar cell module constituted by resin-sealing a solar cell having a surface electrode, to which a tab line is connected.例文帳に追加

タブ線が接続された表面電極を有する太陽電池セルが樹脂封止されてなる太陽電池モジュールの製造において、タブ接続工程と太陽電池セルの樹脂封止工程とを、比較的低温の樹脂封止工程の温度で一括で行う。 - 特許庁

The method includes a process for forming the primary film on the metal surface by the sol-gel method, and a process for soaking it in a solution containing a metal ion, and subjecting it to the electrolytic precipitation and the baking process in the holes present in the primary film.例文帳に追加

金属表面にゾルゲル法を用いて一次被膜を形成する工程と、金属イオンを含有する溶液中に浸漬して、当該金属イオンを一次被膜に有する孔に電解析出及び焼成処理する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device having a Cu wiring 12 includes a process for oxidizing the surface area of the Cu wiring 12 after forming the Cu wiring 12, and a process for removing oxide 17 formed by the oxidation process.例文帳に追加

Ｃｕ配線１２を有する半導体装置の製造方法であって、Ｃｕ配線１２を形成した後にＣｕ配線１２の表面領域に酸化処理を施す工程と、この酸化処理によって形成された酸化物１７を除去する工程とを有する。 - 特許庁

This method comprises a first process where three semiconductor substrates 1 or less are introduced into a processing chamber 3, a second process where the semiconductor substrates 1 are heated up to a prescribed temperature, and a third process where a natural oxide film formed on the surface of the semiconductor substrate 1 is completely removed in a hydrogen atmosphere.例文帳に追加

３枚以下の半導体基板１を処理室３に設置する工程と、半導体基板１を所定の温度に加熱する工程と、所定の温度の水素雰囲気中で半導体基板１の表面の自然酸化膜を除去する工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a printed wiring board, in which a metal foil whose ten-point average roughness (Rz) of a surface is 2.0 μm or less is used, includes a process in which a roughening process is executed as a pre-process when applying or laminating a solder resist.例文帳に追加

表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が２．０μｍ以下の金属箔を用いるプリント配線板の製造方法において，ソルダーレジストを塗布または積層する際の前処理として粗化処理を施す工程を有するプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

This manufacturing method of the organic EL panel 1 is provided with a process to apply a thinning treatment to the support substrate 2 after forming an organic EL element 3, and a process to dispose a color filter 4 on the other surface side of the support substrate 2 after the process to apply the thinning treatment to the support substrate.例文帳に追加

有機ＥＬパネル１の製造方法は、有機ＥＬ素子３形成後に支持基板２を薄厚処理する工程と、支持基板２を薄厚処理する工程後に、支持基板２の他方の面側にカラーフィルタ４を配設する工程と、を備える。 - 特許庁

The projecting operation member 41 operates following along the outer shape surface of the process cartridge 20 when the process cartridge is loaded to the holding position and unloaded from the holding position to open and close the protection cover 71 of the process cartridge 20.例文帳に追加

突起作用部材４１は、プロセスカートリッジの保持位置への装着動作、及び、保持位置からの脱着動作において、プロセスカートリッジ２０の外形面に従って突起作用部材４１が追従するように作用し、プロセスカートリッジ２０の保護カバー７１の開閉動作を行う。 - 特許庁

The manufacturing method of the solid electrolyte film including a process, which manufactures rare earth oxide particles whose specific surface area is 5 to 30 m^2/g, the process, which manufactures the solid solution of the rare earth oxide particles and zirconia, and the process, which forms the film using the solid solution, are provided.例文帳に追加

比表面積が５〜３０ｍ^2／ｇの希土類酸化物粒子を製造する工程と、該希土類酸化物粒子とジルコニアとの固溶体を製造する工程と、該固溶体を用いて製膜する工程とを含む固体電解質膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the frequency-adjusting method of a quartz resonator and the electrode surface smoothing method, a frequency-adjusting process using carbon dioxide gas snow is provided between a process of forming electrodes of a quartz resonator and a process of sealing the resonator.例文帳に追加

本発明は水晶振動子の周波数調整方法及び電極表面平滑方法であって、水晶振動子の電極形成の工程と封止の工程のあいだに炭酸ガススノーを使用した周波数調整工程を有することにより課題を解決する。 - 特許庁

The method of planarizing the insulation film is provided with a process, in which the insulation film is formed on the substrate having the step, a process in which the surface of the formed insulation film is polished, so as to be planarized and a process in which the polished insulation film is heat-treated, thereby achieving the purpose.例文帳に追加

段差を有する基板上に前記絶縁膜を成膜する工程と、成膜された絶縁膜の表面を平坦化のために研磨する工程と、研磨された絶縁膜を熱処理する工程とを有することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The activity measuring method of protein kinase has a reaction process for bringing protein kinase, a substrate and a known amount of ATP into contact with each other, a separation process for separating ATP and ADP and a measuring process for performing electrochemical measurement in a state that separated ATP is collected on the surface of an electrode.例文帳に追加

プロテインキナーゼと基質と既知量のＡＴＰとを接触させる反応工程と、ＡＴＰとＡＤＰとを分離する分離工程と、分離したＡＴＰを電極の表面に集めた状態で電気化学測定を行う測定工程とを有する。 - 特許庁

The levelling method of the present invention is constituted of disintegrating process loosening the upper layer part of the ground by a rake 1 having a plurality of vibrating tines (protrusions) 14, a rolling process by a roller, and a levelling process to level the surface by a leveling brush or a smoothing mat.例文帳に追加

本発明のグラウンド整地方法は、揺動する複数のタイン（突起）１４を有するレイキ１でグラウンド１００の上層部をほぐすほぐし工程と、ローラーをかける転圧工程と、整地ブラシや整地マットで表面をならすならし工程とを有する。 - 特許庁

The manufacturing method of the sheet for the electronic part comprises a process of preparing slurry containing ceramic powder or metallic powder, a hydrophobic organic binder and an organic solvent, and a process of supplying the obtained slurry to the surface of water, spreading the slurry over the surface of water by surface tension and evaporating the organic solvent to form a green sheet on the surface of water.例文帳に追加

電子部品用シートの製造方法において、セラミックス粉末又は金属粉末と、疎水性有機バインダと有機溶剤とを含むスラリーを準備する工程、得られたスラリーを水面上に供給し、水の表面張力によりスラリーを水面上に広げてスラリー中から有機溶剤を揮発させて水面にグリーンシートを形成する工程、を有することを特徴とする。 - 特許庁

In addition, the presented printed wiring board production method includes: an inactive conductor film formation process for forming an inactive conductor film on the surface of the first circuit conductor; and a surface treatment process for roughening the surface of the second insulator layer formed at the first circuit conductor formation side of the first insulator layer with the first circuit conductor formed on the surface.例文帳に追加

第一回路導体の表面に不活性導体皮膜を形成する不活性導体皮膜形成工程と、さらに表面に第一回路導体が形成された第一絶縁体層の第一回路導体形成面側に形成された第二絶縁体層の表面を粗化する表面処理工程を含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

This laying method comprises a process forming a sliding face up to the laying position of the precast box culvert, a process installing a friction reducing member containing a polymer which is gelled after absorbing moisture to the bottom surface of the precast box culvert, a process absorbing moisture by giving moisture to the friction reducing member and a process moving the precast box culvert on the skid surface to which friction reducing member absorbing the moisture is provided.例文帳に追加

プレキャストボックスカルバートの敷設位置まで滑走面を形成する工程と、プレキャストボックスカルバートの下面に、水分を吸収するとゲル化するポリマーを含む摩擦低減材を設ける工程と、摩擦低減材に水分を与えて水分を吸収させる工程と、水分を吸収した摩擦低減材が設けられたプレキャストボックスカルバートを、滑走面上で移動させる工程とを備えている。 - 特許庁

The manufacturing method of the low-temperature calcination ceramic substrate comprises a process for forming a conductive pattern on the surface of the low-temperature calcination ceramic substrate, a process for calcining the low-temperature calcination ceramic substrate, and a process for applying plating on the conductive pattern while blasting treatment is applied on the surface of the low-temperature calcination ceramic substrate forming the conductor pattern before the plating process.例文帳に追加

低温焼成セラミック基板の表面に導体パターンを形成する導体パターン形成工程と、該低温焼成セラミック基板を焼成する焼成工程と、前記導体パターンに対しめっきを行うめっき工程とを含む低温焼成セラミック基板の製造方法であって、めっき工程の前に、導体パターンを形成した低温焼成セラミック基板の表面に対しブラスト処理を施す。 - 特許庁

This lipid quantity determination method includes: a preparation process for preparing a non-antibody probe material bondable specifically to some lipid which is a determination object; an immobilization process for immobilizing the object lipid on the substrate surface; a process for bonding the non-antibody probe material to the object lipid immobilized on the substrate surface; and a process for detecting quantitatively the non-antibody probe material bonded to the object lipid.例文帳に追加

定量の対象である脂質に対して特異的に結合可能な非抗体プローブ物質を準備する準備工程と、前記対象脂質を基材の表面に固定する固定工程と、前記基材表面に固定された対象脂質に前記非抗体プローブ物質を結合させる工程と、前記対象脂質に結合した非抗体プローブ物質を定量的に検出する工程と、を含む脂質定量方法とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the micrometallic structures which forms the conductive layer film on the surface of the PMMA matrix 3 formed with X-ray patterns includes an etching process of roughening the surface of the PMMA matrix 3 by a high chromium acid bath, a sensitizing process, an activating process and an electroless plating process for forming the conductive layer film.例文帳に追加

Ｘ線パターンが形成されたＰＭＭＡ母型３の表面上に導電層膜を形成し電鋳を行う微細金属構造体の製造方法において、ＰＭＭＡ母型３の表面を高クロム酸浴により粗化するエッチング工程と、センサタイジング工程と、アクチベーティング工程と、導電層膜を形成する無電解めっき工程と、を含むことを特徴とする微細金属構造体５の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the decorative sheet comprises a process of mounting a picture layer on a surface of an olefin-based resin-made base sheet, a process of mounting an ionizing radiation curable resin-made protective layer on the surface of the picture layer, a process of completely curing the protective layer by irradiating the ionizing radiation, and a process of embossing the completely cured protective layer by an embossing machine.例文帳に追加

オレフィン系樹脂からなる基材シートの表面に絵柄層を設ける工程と、該絵柄層の表面に電離放射線硬化性樹脂からなる保護層を設ける工程と、該保護層を電離放射線を照射して完全に硬化させる工程と、完全に硬化してなる前記保護層にエンボス機を用いてエンボスを賦型してなる工程とからなることを特徴とする化粧シートの製造方法。 - 特許庁

Furthermore, only surface refining treatment having favorable reproducibility is employed to control the surface tension, whereby required surface tension is readily obtained, and it is not necessary to regulate the surface tension after completing the formation of the liquid immersion status afterward, whereby the oil immersion exposure process can be finished simply.例文帳に追加

しかも、表面張力を制御するために再現性のよい表面改質処理しか使用しないため、所望の表面張力が得られやすいと共に、液浸状態の完成後において表面張力を事後的に調整する必要がないため、液浸露光工程が簡単で済む。 - 特許庁

In a process chamber 10, coating films 7A, 7C which are smooth on the surface and highly in slippage and corrosion resistant to deposits are formed on the inner surface of the chamber wall 10a mainly depositing reaction products, on the inner surface of the chamber base 10b, and on the surface of the insulating pipe 3.例文帳に追加

プロセスチャンバ１０において、主に反応生成物が堆積するチャンバウォール１０ａ内面およびチャンバベース１０ｂ内面、インシュレーティングパイプ３表面に、滑らかで堆積物に対する滑り性が高く、プロセスガス、堆積物等に浸食されないコーティング膜７Ａ、７Ｃを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a surface functionality light curing sheet having a functional layer on a surface capable of manufacturing a surface functionality light curing sheet having the uniform quality of a surface functional layer by a simple process at low manufacturing cost and at a high yield.例文帳に追加

表面に機能層を有する光硬化シートの製造方法として、簡易な製造プロセスにて表面機能層の品質均一性、低製造コスト、及び高製品歩留まりを達成して表面機能性光硬化シートを連続して効率よく製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

In a first process, a lead fixing member 15 is formed in a second open end region 11d of a second main surface side of a hole 13 for lead insertion penetrating from a first main surface 11a of a substrate 11 to a second main surface 11b facing the first main surface.例文帳に追加

第１過程では、基板１１の第１主表面１１ａからこの第１主表面に対向する第２主表面１１ｂまで貫通して形成されたリード挿入用孔部１３の、第２主表面側の第２開口端領域１１ｄにリード固定部材１５を形成する。 - 特許庁

In the inspection method for surface defect, the surface image of a metal band 1 which is conveyed on a production line containing a hot rolling process is photographed by an optical system 20, and a defect which exists on the surface of the metal band 1 is detected on the basis of the photographed surface image.例文帳に追加

本発明は、熱間圧延工程を含む製造ライン上を搬送される金属帯１の表面画像を光学系２０で撮影して、この撮影した表面画像に基づいて金属帯の表面に存在する欠陥を検出する表面欠陥検出方法に適用される。 - 特許庁

The process for producing a double sided wiring board where the circuits formed on the front surface and the back surface of the board are connected electrically through a conductive part formed on the side face part of through holes comprises a step for forming the conductive part simultaneously with the circuits on the front surface and the back surface.例文帳に追加

スルーホールの側面部分に形成された導電部を介して基板の表面と裏面に形成された回路を電気的に接続する両面配線基板の製造方法であって、導電部、及び表面と裏面に形成された回路をめっき処理により同時に形成するステップを有する。 - 特許庁

This surface treating method of the moist surface heat exchanger is characterized by coating the heat exchanger surface with the hydrophilic porous structure by passing through a curing process after applying a mixture made by mixing a fine solid particle with a hydrophilic binder to the surface by a spray and dipping method.例文帳に追加

湿った表面熱交換器の表面処理方法において、微細固体粒子を親水性バインダーと混合させてスプレーやディッピング方法で表面に塗布した後、キュアリング過程を経ることによって、熱交換器表面に親水性多孔構造をコーティングすることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing silicon curved surface bodies used as a material of a curved surface semiconductor or the like, in a simple process and at a low cost, and to provide the silicon curved surface bodies having excellent performance, a device equipped with the silicon curved surface bodies, and a method for manufacturing the device.例文帳に追加

本発明の目的は、低コストで、プロセスの簡便な曲面状半導体等の材料となるシリコン曲面体の製造方法、優れた性能を有するシリコン曲面体、該シリコン曲面体を備えたデバイス、及び該デバイスの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The sucking face of the collet 36 for transferring the thermo compression bonding film is constituted of a projected surface 36a and a tapered surface 36b of a lateral portion which removed the top part of the projected surface 36a while surface process portions 38, such as paste of alternatively fluorinated carbon resin film, are formed on the sucking face.例文帳に追加

熱圧着フィルム搬送用のコレット３６の吸着面は、凸面３６ａと、凸面３６ａの頂部を外した側方部のテーパ面３６ｂとから構成され、その吸着面に、フッ素樹脂コーティング、あるいはフッ素樹脂フィルムの貼り付けなどの表面処理部３８が設けられている。 - 特許庁

To provide a seamless metal can improved in commodity value by enhancing decorative property of a printed image and achieving printing diversity through utilization of a metal glossy surface of an outer surface of a body portion formed by a drawing-ironing process and concealment of a metal base surface by applying a base coat to the metal base surface.例文帳に追加

絞り−しごき加工による胴部外面の金属光沢面と、ベースコートによる金属下地の隠蔽を利用して印刷を行い、印刷像の加飾性を高めると共に印刷の多様化を図り、商品価値を向上させたシームレス金属缶を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing the surface hydrophilic molded product capable of continuous production at one process without requiring activation of the material surface, not generating deterioration of the material, widely controllable a bonding amount of a heparin derivative on the surface, without generating photopolymerization reaction excepting on the material surface.例文帳に追加

材料表面の活性化が不要で、材料の劣化が生じず、ヘパリン誘導体の表面結合量を幅広く制御でき、材料表面を除き光重合反応を起こさせず、連続生産が可能で、且つ、一工程で表面親水性成形物を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a fixing belt having a surface layer which is free of a surface defect such as a stripe or trail causing an image defect when the fixing belt is manufactured through a process of forming the surface layer on the outer peripheral surface of a base material by using a resin solution.例文帳に追加

定着ベルトが基材の外周面に樹脂溶液を利用して表面層を形成するプロセスを経て定着ベルトを作製される場合において、画像欠陥の原因となるスジやダレ等の表面欠陥の無い表面層を有する定着ベルトを提供すること。 - 特許庁

To provide a clear toner capable of always stably forming a smooth gloss surface, the toner to be used in a process of forming a gloss surface by supplying the clear toner to the whole surface of a transfer material on which an image is formed, heating and cooling the surface carrying the clear toner, while being in tight contact with a belt.例文帳に追加

画像形成された転写材全面にクリアトナーを供給し、ベルトに密着させた状態でクリアトナー面を加熱、冷却して光沢面を形成するのに使用され、平滑な光沢面をいつでも安定して形成することが可能なクリアトナーを提供する。 - 特許庁

The gravure printing doctor blade 10 is manufactured according to the method having a process of causing abrasion-resistant treatment liquid to contact with the whole of the surface of the distal end 12 of the base material 11 to cover the whole of the surface of the distal end 12 with the abrasion-resistant film 13 having a surface energy larger than that of the surface of a plate material 21.例文帳に追加

グラビア印刷用ドクターブレード１０は、基材１１の先端部１２の表面全体に耐摩耗処理液を接触させ、版材２１の表面よりも表面エネルギーの大きな耐摩耗性被膜１３で被覆する工程を有する方法により製造される。 - 特許庁

The method for producing a solid oxide sintered film having a laminate structure comprises an electrodeposition process for adhering solid oxide particles on the surface of the solid oxide sintered film as a substrate in a film-like shape by a migration electrodeposition method and a burning process for burning the solid oxide sintered film having the solid oxide particle film obtained in the electrodeposition process on the surface.例文帳に追加

基材としての固体酸化物焼結膜の表面上に固体酸化物粒子を泳動電着法により膜状に付着させる電着工程と、該電着工程で得られた固体酸化物粒子膜を表面に有する固体酸化物焼結膜を焼成する焼成工程とからなる積層構造の固体酸化物焼結膜の製造方法。 - 特許庁

After printing on ink jet recording medium having a surface layer containing at least a heat plastic resin with an ink jet, the ink jet recording medium is pressure processed by a post process having at least a pressure process, and a film thickness of the surface layer after the post process is compressed to 50-80% to that before printing.例文帳に追加

少なくとも熱可塑性樹脂を含有する表層を有するインクジェット記録媒体に、インクジェットにより印字した後、少なくとも加圧工程を有する後工程により該インクジェット記録媒体を加圧処理し、該後工程後の該表層の膜厚を、印字前に対し５０〜８０％に圧縮することを特徴とするインクジェット画像形成方法。 - 特許庁

The semiconductor film forming method comprises a first lamination process of laminating a transparent electrode layer 2, a semiconductor layer 3, and an oxide layer 4 successively on a support 1; an oxidation process of oxidizing the surface of the oxide layer 4; and a second lamination process of laminating a metal electrode layer 5 on the oxide layer 4 whose surface has been oxidized.例文帳に追加

支持体１上に透明電極層２と、半導体層３と、酸化物層４とを順次積層する第一の積層工程と、前記酸化物層４の表面を酸化する酸化工程と、表面を酸化された前記酸化物層４上に金属電極層５を積層する第二の積層工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

A micro-device manufacturing method includes a molding substrate preparation process S10 for preparing the molding substrate, a rough processing process S20 for roughly processing the surface of the molding substrate by using a laser processing device, and a finishing process S30 for finish treating the surface of the molding substrate by using a convergent ion beam processing device in turn.例文帳に追加

成形基材を準備する成形基材準備工程Ｓ１０と、レーザ加工装置を用いて成型基材の表面を粗加工する粗加工工程Ｓ２０と、集束イオンビーム加工装置を用いて成型基材の表面を仕上げ加工する仕上げ加工工程Ｓ３０とをこの順序で含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the substrate comprises a process preparing the substrate provided with a transparent conductive layer and a process forming an inorganic layer on the transparent conductive layer, a process performing surface treatment in a prescribed area to increase wettability over a first solution by performing surface modification in the prescribed area of the inorganic layer.例文帳に追加

この基板の製造方法は、透明導電層が形成された基板を用意する工程と、透明導電層の上に無機層を形成する工程と、無機層の所定の領域を表面改質することによって第１溶液に対する濡れ性を高くするように、所定の領域に表面処理を行う工程とを包含する。 - 特許庁