「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

A grit layer including a lot of individual grit particles is welded to a circumferential outside surface of the roller body by a thermal spray process.例文帳に追加

多数の個別のグリット粒子を含むグリット層は、溶射プロセスによってローラ本体の円周状の外面に溶着される。 - 特許庁

The groove section 2f is not necessarily formed, a through hole may be formed, and the surface process 2e is also applied to the groove section 2f or through hole.例文帳に追加

溝部は形成しなくても良く、または透孔を形成しても良く、溝部または透孔にも表面処理を施す。 - 特許庁

(D) After the process (C), the second layer 20U is arranged at a position above a sensor on the top surface of the first layer 20D.例文帳に追加

（Ｄ）工程（Ｃ）の後に、第一の層２０Ｄ上面におけるセンサ部の上方となる位置に、第二の層２０Ｕを配設する。 - 特許庁

The surface 40b of the formative predetermined spot Y of the valve seat 43 of the material 40W is polished in a second process.例文帳に追加

第２工程では、バルブプレート素材４０Ｗに対して、弁座４３の形成予定地Ｙ側の面４０ｂの研磨が行われる。 - 特許庁

There is provided a mounting process (S1) for mounting a plurality of surface acoustic wave elements on an aggregate board comprising a plurality of mounting boards.例文帳に追加

複数の弾性表面波素子を、複数の実装基板からなる集合基板に実装する実装工程（Ｓ１）を設ける。 - 特許庁

It has a further step for oxidizing a side surface section of the gate electrode 5 by a thermal oxidation process to form an insulating region 9.例文帳に追加

更に、ゲート電極５の側面表層部を熱酸化法で酸化し、絶縁領域９を形成する工程を有する。 - 特許庁

To obtain a favorable ground surface by preventing a grinding mark using a simple method without complicating the device and the process.例文帳に追加

装置及び工程を複雑にすることなく、簡単な方法で研削痕が発生するのを防いで良好な研削面を得る。 - 特許庁

Then a front-end coming-out stopper is formed by performing a crushing-in process on the front end of the lead 2 with another punch 82 from the bottom surface side.例文帳に追加

次に、パンチ８２により、リード部２の先端下面側からの潰し加工を行って、先端抜け止め部を形成する。 - 特許庁

The prescribed image process forms a plurality of second two-dimensional ultrasonic images which are alternately cut out along a parallel surface.例文帳に追加

所定の画像処理は、互いに平行な平面に沿って切り出した複数の第２の２次元超音波画像を生成する。 - 特許庁

It employs a manufacturing process of a plurality of processes that automate the surface mounting of a semiconductor chip and achieve the three-dimensional array of a chip.例文帳に追加

半導体チップの表面実装を自動化し、チップの３次元アレイを達成する複数工程の製作プロセスを用いる。 - 特許庁

To produce a spherical composite particle, in which a small particle is stuck dispersedly to the surface of a spherical large particle, by one process.例文帳に追加

球状の大粒子の表面に小粒子が分散付着した球状複合粒子を一つのプロセスで製造する。 - 特許庁

To provide a surface mounting machine which is capable of coping with a process of mounting various types of parts and meeting space-saving requirements.例文帳に追加

より多品種の部品実装に対応することができ、かつ装置の省スペース化の要請にも応えることができるようにする。 - 特許庁

To provide a process for the production of a material coated with a coating material with higher accuracy, equipment for the production thereof and a surface mask.例文帳に追加

より高精度に塗布物が塗布された塗布物被塗布材の製造方法および製造装置、表面マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a plate making process for producing a planographic printing plate free from a deposit inadequate to the printing plate on the plate surface.例文帳に追加

印刷版に不適な付着物を版面上に有さない平版印刷版を作成するための製版方法を提供する。 - 特許庁

In a dividing process of the surface acoustic wave apparatus, it is cut so that the width of the piezoelectric substrate may become smaller than the width of the support substrate after division.例文帳に追加

これにより、圧電基板に欠けなどの欠陥を与えることなく、良質な弾性表面波装置を得ることが出来る。 - 特許庁

The image is recorded on one surface of the recording paper by a recording section 24 in a process of being conveyed in the first conveyance path 23.例文帳に追加

この記録用紙は、第１搬送路２３を搬送される過程で記録部２４により一方の面に画像が記録される。 - 特許庁

A metal impurity at thermal process is gettered to suppress the metal contamination at a wafer surface layer, to improve electrical characteristics.例文帳に追加

熱処理時の金属不純物をゲッタリングし、ウェーハ表層部の金属汚染を抑制し、電気的特性を高めることができる。 - 特許庁

To supply, without waste, a developing solution onto the surface of a substrate which is coated with a resist and subjected to an exposure process while restraining it from flowing.例文帳に追加

レジストが塗布され露光処理がされた基板の表面に液流れのない現像液を無駄を抑えて供給すること - 特許庁

SURFACE TREATED FILM FOR PREPARATION OF METAL VAPOR DEPOSITED FILM AND PROCESS FOR PRODUCING METAL VAPOR DEPOSITED FILM例文帳に追加

表面処理済フィルム、及び該表面処理済フィルムを用いた金属蒸着フィルム、及び金属蒸着フィルムの製造方法 - 特許庁

To provide a laminated adhesion core excellent in dimensional precision by preventing adhesive from remaining on the lamination surface, and to provide its production process.例文帳に追加

積層面の接着剤の残存を防止し、寸法精度に優れた積層接着コアおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, a cleaning process is carried out for cleaning the surface of the SiN layer 12 with liquid flow consisting of aqueous cleaning liquid f_L.例文帳に追加

次いで、ＳｉＮ層１２の表面を水性の洗浄液ｆ_Ｌからなる液流で洗浄する洗浄工程を行なう。 - 特許庁

HYDROPHILIZING AGENT, HYDROPHYLIZING PROCESS OF ARTICLE SURFACE USING THIS HYDROPHILIZING AGENT AND ANTIFOULING AGENT CONTAINING THIS HYDROPHILIZING AGENT例文帳に追加

親水化剤、この親水化剤を用いた物体表面の親水化方法、及び前記親水化剤を含有する汚染防止剤 - 特許庁

This writing utensil is characterized in that a polyparaxylylene film is formed on the surface of the elastic resin by a gas phase vapor deposition/polymerization process.例文帳に追加

弾性樹脂表面にポリパラキシリレン皮膜を気相蒸着重合法により形成したことを特徴とする筆記具。 - 特許庁

There are also provided the single-sided printed wiring board using the two-layer laminate having the metal foil clad on its one side surface and its production process.例文帳に追加

また、当該２枚合わせ片面金属箔張積層板を使用した片面プリント配線板およびその製造方法。 - 特許庁

Water is sprayed onto the surface of the water pan at the end of the ice making process before inclining the water pan.例文帳に追加

製氷工程の終了時に前記水皿の表面に散水器１３で散水を行ってから前記水皿を傾動させる。 - 特許庁

The hydraulic transfer process (B) may be omitted when the decorated sheet already having the printed pattern layer formed on the surface side is used.例文帳に追加

既に表面側に印刷絵柄層形成済みの加飾シートを用いれば、（Ｂ）水圧転写工程は省略しても良い。 - 特許庁

To provide a multilayer coated paper having a good dry pick strength and printed surface feeling when printed, and causing no roll stain in the production process.例文帳に追加

印刷時のドライピック強度、印刷面感が良好で、かつ製造時にロール汚れを発生しない塗工紙を提供する。 - 特許庁

The phosphorus-containing layer on the surface of the epitaxial wafer is subjected to an oxidizing process in an oxidizing atmosphere.例文帳に追加

酸化雰囲気中でエピウエハ表面のリン含有層を酸化処理することを特徴とするリン含有エピウエハの製造方法。 - 特許庁

To provide a surface-coated cutting tool with a hard coating layer being excellent in chipping resistance and wear resistance in a heavy cutting process.例文帳に追加

重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。 - 特許庁

Thus, the polishing pad 3 can be installed on the surface 2a of the hollow dorm 2 to such a degree that will not be peeled off in a polishing process.例文帳に追加

これにより、研磨工程では剥がれない程度に研磨パッド３を中空ドーム部２の表面２ａに取り付けできる。 - 特許庁

To provide a cationic polymer particle on the surface of which a cationic group exists in a high density and to provide its manufacturing process.例文帳に追加

カチオン性基が粒子表面に高密度で存在してなるカチオン性ポリマー粒子、および、その製造方法を提供する。 - 特許庁

The applying work of an adhesive on several points of the corner part of the bottom surface of the hole is performed by only one robot positioning and coating process.例文帳に追加

穴の底面の隅部に接着剤を数点塗布する作業を１回のロボット位置決め及び塗布工程で行える。 - 特許庁

Then, in a step 12, ultraviolet irradiation process to an Si wafer, which activates the modification of a contact opening part surface, is executed.例文帳に追加

次に、ステップ１２でコンタクト開口部表面の改質を促すＳｉウェハに対する紫外線照射工程がなされる。 - 特許庁

To provide a process for producing a large-size Group III nitride crystal in which the dislocation density of at least the surface thereof is wholly low.例文帳に追加

少なくとも表面の転位密度が全面的に低い大型のＩＩＩ族窒化物結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

COATING LIQUID FOR FORMING SURFACE LAYER, METHOD OF MANUFACTURING ELECTROPHOTOGRAPHIC SENSITIVE BODY, ELECTROPHOTOGRAPHIC SENSITIVE BODY, PROCESS CARTRIDGE AND ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVICE例文帳に追加

表面層形成用塗布液、電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - 特許庁

To provide an image display surface plate capable of sticking a plurality of respective different phosphor substances in a single process.例文帳に追加

複数の異なる蛍光体物質の各々を、単一工程で付着することができる画像表示面板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a cast slab without causing surface defects on the hot-rolled steel slab by a continuous casting process.例文帳に追加

熱間圧延後の鋼片に表面疵が発生しない鋳片を連続鋳造により製造する方法を提供する。 - 特許庁

By the above process, a carburizing and hardening layer of about 0.3 to 0.6 mm can be formed on the surface layer of the female screw part 2.例文帳に追加

以上の工程によって、雌ネジ部２の表層に０．３〜０．６ｍｍ程度の浸炭焼き入れ層を形成することができる。 - 特許庁

In a first process, a non-through hole 18a is formed from a protecting film side surface 22 of the semiconductor apparatus 3a to be formed.例文帳に追加

第１工程では、形成すべき半導体装置３ａの保護膜側表面部２２から未貫通孔１８ａが形成される。 - 特許庁

Then, the substrate is treated with a plating process including electroless plating so that a metal film is formed on the surface of the substrate.例文帳に追加

次に、上記基材に無電解めっきを含むめっき処理を施すことにより、基材表面に金属皮膜を形成する。 - 特許庁

The polishing pad 1 for chemical and mechanical polishing of a semiconductor substrate surface has recessed groove 4 formed by the emboss process.例文帳に追加

半導体基板表面を化学機械研磨するための研磨パッド１は、エンボス加工により形成された凹条の溝４を有する。 - 特許庁

The method includes a process of depositing at least one noble metal on at least one surface of the fuel assembly component.例文帳に追加

少なくとも１つの貴金属を燃料アセンブリ構成要素の少なくとも１つの表面上に堆積させることを含む。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a termination structure composed of silicon carbide having low surface roughness, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

表面粗さの低い炭化珪素からなる終端構造を有する半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve etching rate in uniformity within the surface of a substrate in the etching process of removing an oxide film from the substrate.例文帳に追加

基板の酸化膜除去をドライエッチングで行う場合において、基板面内におけるエッチングレートの均一性を向上させる。 - 特許庁

Since 3C-SiC can be prevented from being formed in the epitaxial film deposition process, surface roughening of the epitaxial film can be prevented.例文帳に追加

これにより、エピタキシャル膜形成工程で３Ｃ−ＳｉＣが形成されるのを防止でき、エピタキシャル膜の面荒れを防止できる。 - 特許庁