「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a back-surface irradiation type photodetector by which a manufacturing step can be simplified and a manufacturing cost be reduced.例文帳に追加

製造工程を簡略化して製造コストを低減することが可能な裏面照射型光検出装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a third step, a tool 18 applies a load in an orthogonal direction with respect to an end surface with no V-shape groove 12b.例文帳に追加

第３の工程として、Ｖ字溝１２ｂが形成されていない側の端面に工具１８によって端面と交差する方向に荷重を加える。 - 特許庁

In a third step, a first layer 21 made of SiGe layer is subjected to epitaxially growing on a surface of the dug silicon substrate 11.例文帳に追加

次いで、第３工程では、掘り下げられたシリコン基板１１の表面に、ＳｉＧｅ層からなる第１の層２１をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

In the side of the upper magnetic pole layer 13 facing the gas part 60, a slope is formed to connect the recording gap layer 12 surface with the step part 58.例文帳に追加

上部磁極層１３の空隙部６０に面する側は、記録ギャップ層１２表面と段差部５８とを結ぶ傾斜面を有している。 - 特許庁

Thereby a step-difference is no longer generated in the mask insulating film 20b, and the surface of the interlayer insulating film is flattened.例文帳に追加

このようにすることにより、マスク絶縁膜２０ｂに段差が生じなくなり、層間絶縁膜２８表面の平坦化を図ることができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the conductive compound resin comprises the step of coating a low melting point metal having a lower melting point than that of the resin on a surface of a resin powder having a particle size of 1 mm or less.例文帳に追加

粒子径１mm以下の樹脂粉体の表面を該樹脂の融点よりも低い融点を有する低融点金属で被覆する。 - 特許庁

In this way, abrasion between each metal powder during the contacting step or the like is reduced, and the coating of the metal powder surface is hard to be damaged.例文帳に追加

この本発明によれば、接触工程中の金属粉末間の摩擦等が少なく、金属粉末表面の被覆が損傷され難い。 - 特許庁

To provide a cable periphery cutting device wherein a self-traveling device is run with no problem even there exists a step part on the surface of a rubber, plastic cable.例文帳に追加

ゴム，プラスチックケーブルの表面に段部があっても支障なく自走装置を走行させることができるケーブル外周削り装置を得る。 - 特許庁

To manufacture a master stamper of an optical disk which is small in surface roughness and is reduced in noise by omitting a process step of developing a photoresist after exposure.例文帳に追加

フォトレジストを露光後に現像する工程を省略して表面粗さが少なく、ノイズが軽減された光ディスクのマスタスタンパを製造する。 - 特許庁

A ceramics paste is gravure-printed on the surface of a long carrier film 10, and then it is dried to form a step-eliminating ceramics pattern 3.例文帳に追加

長尺状のキャリアフィルム１０の表面に、まず、セラミックペーストをグラビア印刷し、乾燥して、段差解消セラミック用パターン３を形成する。 - 特許庁

An elliptic engaging step part 24 abutting on the open end face 18 of the blocked pipe body 17 is formed at the outer peripheral surface of the fitting cylinder part 23.例文帳に追加

嵌合筒部２３の外周に被閉塞管体１７の開口端面１８に当接する楕円形状の係合段部２４を形成する。 - 特許庁

A step section 10b for making different the height of the pressure sensor chip 1 and that of the IC chip 2 is formed on an inner bottom surface 10a of the body 10.例文帳に追加

ボディ１０の内底面１０ａに圧力センサチップ１とＩＣチップ２との高さを異ならせる段部１０ｂが形成されている。 - 特許庁

To provide a cellulose ester film excellent in surface properties and free from contamination in the production step, with excellent productivity, and to provide an optical film, and a process for production thereof.例文帳に追加

表面性に優れ、工程汚染がなく、生産性に優れたセルロースエステルフィルム、光学フィルム及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

An inner peripheral surface of a small diameter step part of the annular adapter 33 is integrally joined in a butting state against the boot installing part 18 of the shaft 17 by welding.例文帳に追加

環状アダプタ33の小径段部の内周面は溶接によりシャフト17のブーツ取付部18に衝合状態で接合一体化されている。 - 特許庁

Then differences between the coordinate values of the nodes after the substitution and coordinate values obtained from the curved-surface functional expression, i.e., a shape error is calculated (step S13).例文帳に追加

そして、置換後の節点の座標値と上記曲面関数から求めた座標値との差すなわち形状誤差を算出する（ステップＳ１３）。 - 特許庁

A wafer 200 which has an insulation layer 13 on part of the front surface and has an exposed silicon layer 11 is carried into a treatment chamber (step 101).例文帳に追加

表面の一部に絶縁層１３を有すると共にシリコン層１１が露出したウェハ２００を処理室内に搬入する（ステップ１０１）。 - 特許庁

The second step 116 is arranged between the second and third magnetic materials 112 and 113 and has an exposed top surface 116a.例文帳に追加

第２の段部１１６は、第２の磁性体１１２と第３の磁性体１１３との間に配置され、露出した頂面１１６ａを有する。 - 特許庁

The first step 115 is arranged between the first and second magnetic materials 111 and 112 and has an exposed top surface 115a.例文帳に追加

第１の段部１１５は、第１の磁性体１１１と第２の磁性体１１２との間に配置され、露出した頂面１１５ａを有する。 - 特許庁

A spot faced step part 16 is provided at an outer opening circumference edge of the sensor mounting hole 15, and the sensor body part 23 is installed at a seat surface 16a thereof.例文帳に追加

センサ取付孔１５の外側開口周縁に座繰り状段差部１６を設け、その座面１６ａに前記センサボディ部２３を設置する。 - 特許庁

In a first step, a conical/spiral contact 2 is formed by being soldered and plated on the surface of a connection terminal 12 in the mounted circuit 10.例文帳に追加

第１工程においては、実装回路１０の接続端子１２の表面上に円錐らせん状の接触子２を半田めっき形成する。 - 特許庁

The magnification of the filtering surface is preferably performed by mounting a ring-shaped inner diameter adjusting instrument in the steps (1) and (2) and detaching the same in the step (3).例文帳に追加

ろ過面の拡大は、リング状の内径調整具２を工程（１）及び（２）で装着し、工程（３）で外すことで行うのが好ましい。 - 特許庁

Further the drum main body 11 may be about cylindrical shape having the outer peripheral surface 11a of uniform flatness having no step part at the end side.例文帳に追加

また、胴本体１１が、端部側に、段部を備えない面一状の外周面１１ａを有した略円筒形状とされてもよい。 - 特許庁

While using the film left in the recessed part as an etching mask, the exposed surface of the semiconductor substrate is etched to form a step to be used as an alignment mark.例文帳に追加

凹部内に残る膜をエッチングマスクとして使用し、露出する半導体基板表面をエッチングし、アライメントマークとなる段差を形成する。 - 特許庁

To remarkably shorten the processing time of the step of adsorbing a dye by a porous semiconductor layer formed on a substrate surface to be processed.例文帳に追加

基板の被処理面に形成されている多孔質の半導体層に色素を吸着させる工程の処理時間を大幅に短縮すること。 - 特許庁

A pump insert hole 13 for inserting the driving part 12a of a washer pump 12 is penetrated through the step difference surface 11b of the tank 11.例文帳に追加

タンク１１の段差面１１ｂには、ウォッシャポンプ１２の駆動部１２ａを挿入するためのポンプ挿入孔１３が貫通形成されている。 - 特許庁

Both these agitating blades 19 are projected in a step height shape on an outer peripheral surface of the housing 22, and the mutual agitating blades 19 are arranged by being vertically offset.例文帳に追加

この両攪拌翼１９は、ハウジング２２の外周面に段差状に突設され、互いの攪拌翼１９が上下にオフセットに配置されている。 - 特許庁

In the layer forming step, an antioxidant layer 15a containing an antioxidant is formed on the surface of the massive object 15 composed of copper or copper alloy.例文帳に追加

層形成工程では、銅または銅合金からなる塊状体１５の表面に酸化防止剤を含む酸化防止層１５ａを形成する。 - 特許庁

Next, plasma oxidation is carried out (step S18) and many protrusions of about 5 nm in height are selectively formed only in the substrate region of the air bearing surface.例文帳に追加

次に、プラズマ酸化を行い（ステップＳ１８）、エアベアリング面の基体領域にのみ、高さが５ｎｍ程度の多数の凸部を選択的に形成する。 - 特許庁

Some protrusions 5 have a small diameter section 5c penetrating the sound insulation member 7 and a step-like receiving surface 5a on the base end side of the small diameter section.例文帳に追加

幾つかの突出部５は防音部材７を貫通する小径部５ｃと、小径部の基端側の段差状の受け面５ａとを有する。 - 特許庁

A first resin layer 22 covering the wiring is so formed that an upper surface becomes rough corresponding to the step between the insulating film 16 and the spacer 18.例文帳に追加

絶縁膜１６及びスペーサ１８の段差に対応して上面が凹凸になるように、配線を覆う第１の樹脂層２２を形成する。 - 特許庁

The surface treatment method for a magnesium alloy material comprises a step of subjecting a magnesium alloy material to barrel polishing together with abrasives and a medium material as a fluorine compound.例文帳に追加

マグネシウム合金材を、研磨剤とフッ素化合物である媒材と共にバレル研磨を行うマグネシウム合金材の表面処理方法。 - 特許庁

The surface of the polysilicon film is melted and oxidized at the second irradiation step, the oxidized film is ablated, and the thickness of the polysilicon film is reduced.例文帳に追加

第２照射工程によってポリシリコン膜の表面が、溶融し、酸化し、酸化膜のアブレーションが起こり、ポリシリコン膜の膜厚が減少する。 - 特許庁

Further, the method for inhibiting the growth of weeds includes a step of laying the weed inhibiting material on the surface of soil and/or in the soil.例文帳に追加

さらに、前記雑草抑制材を土壌表面および／または土壌中に敷設することを含む、雑草の生育を抑制する方法。 - 特許庁

The handling process of metal oxide nanoparticles comprises the step of mixing metal oxide nanoparticles, solvent, and a surface treating agent.例文帳に追加

金属酸化物ナノ粒子と、溶媒と、表面処理剤とを混合する工程を含む金属酸化物ナノ粒子の処理プロセスについて記述する。 - 特許庁

The protruding portion 23a, 23b is formed as a meniscus generated on the liquid surface of a catalyst ink applied in the forming step of the catalyst layer 20.例文帳に追加

凸部２３ａ，２３ｂは、触媒層２０の形成工程において、塗布された触媒インクの液面に生じたメニスカスとして形成される。 - 特許庁

The step for forming an N type epitaxial layer is carried out on the surface of an N type buried layer 51 for a portion where a scribe line is formed.例文帳に追加

Ｎ型エピタキシャル層形成工程は、スクライブラインが形成される部分については、Ｎ型埋め込み層５１の表面に対して行なわれる。 - 特許庁

The stamping process includes a step of pressing a shape obtained, by inverting a desired optical element and a patterned stamping block with respect to the surface of a light-emitting diode.例文帳に追加

スタンピングは、所望の光学エレメントを逆にした形状及びパターンスタンピングブロックを発光ダイオードの面に対してプレスする工程を含む。 - 特許庁

The surface of a through plug 107 is made to retreat from an interface between the silicon substrate 101 and the insulating thick film 103 to form a step 113.例文帳に追加

シリコン基板１０１と絶縁性厚膜１０３との界面よりも貫通プラグ１０７の表面を後退させて、段差１１３を設ける。 - 特許庁

A recess 12A is provided in a second surface 12 of the substrate 10, and a step difference 12B extruded more than the recess 12A is formed in a region of the substrate other than the recess 12A.例文帳に追加

基板１０の第２面１２に凹部１２Ａを設け、凹部１２Ａ以外の領域を凹部１２Ａよりも突出した段差部１２Ｂとする。 - 特許庁

A method of mounting the wafer on a printed wiring substrate includes a step of providing a through hole 2 penetrating upper and lower surfaces of the wafer 1, and forming an insulating layer 14 on an inner surface of the through hole 2.例文帳に追加

ウエハ１に、上下の面に貫通するスルーホール２を設けると共に該スルーホール２の内面に絶縁層１４を形成する。 - 特許庁

Consequently, the magnetic-powder containing resin projecting to the upper surface side of the upper flange portion is received in a space on the step portion of the upper flange portion to suppress height variation of the surface-mounting coil component.例文帳に追加

このため、上鍔部の上面側にはみ出した磁性粉含有樹脂が上鍔部の段部上の空間に受容され、面実装コイル部品の高さ寸法バラツキの発生を抑制することができる。 - 特許庁

Furthermore, the ECU also performs friction force reduction control to reduce a μ value of a road surface when a friction coefficient μ of the road surface on which the vehicle travels is high (yes determination in a step S 20).例文帳に追加

さらに、ＥＣＵは、車両が走行している路面が高μ路である（ステップＳ２０が肯定判定）場合には路面のμ値を低下させるべく摩擦力低下制御も実行する（ステップＳ２１）。 - 特許庁

To provide an external facing backing panel and a tiling method using this facing backing panel, for reducing a cutting loss, by preventing a surface step height, even when installed on and applied to an existing wall surface.例文帳に追加

既存壁面に取付施工する場合でも面段差が防止されるとともに、切断ロスが減少する外装用下地パネルと、この外装用下地パネルを用いたタイル張り工法を提供する。 - 特許庁

A surface emitting laser 200 has a layered structure where a lower mirror 212, an active layer 214 and an upper mirror 216 are stacked on a substrate 210, and comprises a first structure 280 with a surface step structure.例文帳に追加

面発光レーザ２００は基板２１０上に下部ミラー２１２、活性層２１４、上部ミラー２１６が積層された積層構造を有し、表面段差構造を有する第１の構造体２８０を備える。 - 特許庁

In the tomographic image regarding biological information photographed by a CT apparatus, etc., an outline is traced along the outer periphery of a body surface to extract a body surface interest area 72 (step S41).例文帳に追加

ＣＴ装置などによって撮影された生体情報に関する断層画像において体表の外周に沿って輪郭を追跡し、体表関心領域７２を抽出する（ステップＳ４１）。 - 特許庁