「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for successively writing the positioning patterns onto a disk surface by using the servo patterns written to its own disk is so constituted that a plurality of servo patterns strings on the same disk surface are read (a step 1) and that the positioning patterns are alternately written by using the read servo pattern strings (a step 2).例文帳に追加

自己のディスクに書き込まれたサーボパターンを用いて位置決めパターンをディスク面に順次書き込んでいく方法において、同一ディスク面上の複数のサーボパターン列を読み込み（ステップ１）、読み込んだサーボパターン列を用いて交互に位置決めパターンを書き込む（ステップ２）ように構成する。 - 特許庁

The method for growing a nitride semiconductor crystal includes a step (S10) of preparing a substrate made of a nitride semiconductor having a surface including a region to be used and a step (S20) of growing a nitride semiconductor crystal on the substrate surface by a hydride vapor phase growth method.例文帳に追加

窒化物半導体結晶の成長方法は、使用される領域を含む表面を有し、窒化物半導体からなる基板を準備する工程（Ｓ１０）と、ハイドライド気相成長法により、基板の表面上に窒化物半導体結晶を成長させる工程（Ｓ２０）とを備えている。 - 特許庁

The method for producing langasite based single crystal substrate comprises a step for polishing one major surface of langasite based single crystal substrate, and a step for wet etching the polished major surface of the substrate and the backside thereof using a solution containing at least one kind of phosphoric acid, acetic acid and nitric acid.例文帳に追加

ランガサイト系単結晶基板の一方の主面を研磨する工程と、研磨した基板の主面およびその裏面を、リン酸、酢酸、硝酸の少なくとも一種と塩酸とを含む溶液で湿式エッチングする工程と、を備えるランガサイト系単結晶基板の製造方法。 - 特許庁

The method of packing the solar battery cell includes a step of preparing a solar battery cell bundle by stacking a plurality of solar battery cells having an electrode formed on at least one surface and a step of covering the outermost surface of the outermost solar battery cell of the bundle with paper.例文帳に追加

少なくとも１表面に電極が形成された太陽電池セルを複数枚重ねることで太陽電池セル束を作製する工程と、太陽電池セル束の最も外側の太陽電池セルの最外表面を紙で被覆する工程とを含む太陽電池セルの梱包方法に関する。 - 特許庁

The treatment method includes an etching step of etching a ZnO single crystal substrate having a Zn polar surface as a main surface using a solution containing an EDTA chelate compound as an etchant, and a cleaning step of, after the etching, cleaning the substrate using an electrolyte solution having a ligand as a cleaning solution.例文帳に追加

Ｚｎ極性面を主面としたＺｎＯ単結晶の基板を、ＥＤＴＡキレート化合物を含む溶液をエッチャントとして用いてエッチングするエッチング工程と、エッチングの後、配位子を有する電解質溶液を洗浄液として用いて基板を洗浄する洗浄工程と、を有する。 - 特許庁

The process for producing the surface treated silica particles includes a step of providing plasma treatment to the surface of silica particles and a step of mixing 30-40 pts.mass compound including an epoxy resin and a curing agent with 100 pts.mass plasma-treated silica particles.例文帳に追加

シリカ粒子の表面にプラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理が施されたシリカ粒子１００質量部に対して、エポキシ樹脂及び硬化剤を含む配合物３０〜４０質量部を混合する工程とを備えることを特徴とする表面処理シリカ粒子の製造方法を用いる。 - 特許庁

In the method of calculating the active surface area of the cell catalyst for a fuel cell electrode in which a catalyst layer including an electrode catalyst and an electrolyte is laminated on an electrolyte membrane to form a membrane-electrode assembly, an electric potential is changed step by step to calculate the electrode active surface area.例文帳に追加

電解質膜に電極触媒と電解質を含む触媒層を積層して膜−電極接合体とした燃料電池用電極の電池触媒の活性表面積算出方法において、電位をステップ状に変化させて電極活性表面積の算出を行う。 - 特許庁

The corrosion-resistant coating method of the turbine casing comprises a coating step S2 of coating a solution with metal being dispersed therein on an inner surface of the turbine casing, and a baking step S3 of forming a ceramic thin film on the inner surface of the turbine casing by drying the coated metal for heat stabilization.例文帳に追加

タービンケーシングの耐食コーティング処理方法は、タービンケーシングの内表面に金属を分散させた溶液を塗布する塗布工程Ｓ２と、この塗布した金属を乾燥し加熱安定化させてタービンケーシングの内表面にセラミックスの薄膜を形成する焼付け工程Ｓ３と、を有する。 - 特許庁

This method comprises an Au thin film formation step for forming an Au thin film of 20 nm or less in thickness on a bonding surface of one silicon member and a heating step for making a bonding surface of the other silicon member and the Au thin film come in contact with each other and heating at a prescribed temperature.例文帳に追加

一方のシリコン部材の接合面に膜厚２０ｎｍ以下のＡｕ薄膜を形成するＡｕ薄膜形成工程と、他方のシリコン部材の接合面と該Ａｕ薄膜とを当接させて所定温度で加熱する加熱工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The side surface of the insulating resin 16 has such a shape as the portion abutting with the insulating resin 16 and a lower surface of the electronic component 11 expand as the electronic component 11 gets down when aligned in the mounting step or when joined in the joining step.例文帳に追加

絶縁性樹脂１６の側面の形状は、実装ステップで位置合わせする際または接合ステップで接合する際に電子部品１１を下降させるにしたがって、絶縁性樹脂１６と電子部品１１の下面との当接する部分が広がる形状をしている。 - 特許庁

The method for producing the titanium material plated with the noble metal includes a first step of forming the plated film of the noble metal on the surface of a titanium material, and a second step of drying the surface having the noble metal plated thereon by microwave heating or laser heating.例文帳に追加

貴金属めっきを施したチタン材の製造方法であって、チタン材の表面に貴金属めっきを形成する第一の工程と、貴金属めっきを形成した該表面をマイクロ波加熱又はレーザー加熱により乾燥させる第二の工程と、を有する前記製造方法からなる。 - 特許庁

The method for removing a photoresist includes a decomposition step where solvent molecule-containing wet ozone being an ozoized gas containing solvent molecules is brought into contact with a photoresist present on the surface of a substrate 1 and a washing step where the surface of the substrate 1 is washed with a photoresist removing liquid which dissolves the photoresist.例文帳に追加

基板１表面に存在するフォトレジストに、溶媒分子を含有するオゾン化ガスである溶媒分子含有湿潤オゾンを接触させる分解工程と、上記フォトレジストを溶解させるフォトレジスト除去液を用いて基板１表面を洗浄する洗浄工程とを含む。 - 特許庁

More specifically, a step part 112, which protrudes and sinks in the direction of the blade surface, is formed by giving press working to the blades 11 and 21, the step part 112 is utilized as a blade side engaging part, and a cap side engaging part 71, which is prepared in the peripheral wall surface of the cap C, can be engaged with this.例文帳に追加

より具体的には、刃１１、２１にプレス加工を施して刃表面の方向に突没する段部１１２を設け、その段部１１２を刃側係合部として利用し、キャップＣの周壁面に設けたキャップ側係合部７１をこれに係合させ得るようにしている。 - 特許庁

The thin film manufacturing method includes: a step of placing a substrate 20 in a material solution of the thin film formed on the substrate 20; and a step of forming the thin film on a first main surface 20a by irradiating the first main surface 20a of the substrate 20 with light.例文帳に追加

薄膜製造方法であって、基板２０上に形成させる薄膜の原料溶液中に、基板２０を配置する配置工程と、基板２０の第１主面２０ａに光を照射することにより、第１主面２０ａ上に薄膜を形成する形成工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the pressure container sequentially includes: a step of winding a fiber where the thermosetting resin is impregnated on a surface of a cylindrical substrate with a hollow part; and a resin curing step S20 of curing the thermosetting resin and forming the FRP layer on the surface of the substrate.例文帳に追加

圧力容器の製造方法は、中空部を有する筒状の基材表面に熱硬化性樹脂を含浸させた繊維を巻回させる工程と、該熱硬化性樹脂を硬化させて、該基材表面にＦＲＰ層を形成する樹脂硬化工程Ｓ２０と、を順に有する。 - 特許庁

When a liquid or pasty curing-resin is hardened by arranging so as to fill a cross-sectional substantially triangular space formed between an end surface 2b of the winding starting end part 3 and the outer peripheral surface 1a of the core 1, a resin-made step relieving member 5 is formed, and the step 10 is relieved.例文帳に追加

液状又はペースト状の硬化性樹脂を、巻き付け始端部３の端面２ｂと巻芯１の外周面１ａとの間に形成された断面略三角形状の空間を満たすように配して硬化させると、樹脂製の段差緩和部材５が形成され、段差１０が緩和された。 - 特許庁

The method of manufacturing the silicon wafer includes a step of forming an oxide film (20) having a thickness not smaller than 10 nm on the entire surface of a silicon wafer (10) having both mirror-polished surfaces including its edges, and a step of reducing fine damage present on the surface of the wafer by removing the oxide film (20).例文帳に追加

本発明のシリコンウェーハの製造方法は、両面を鏡面研磨したシリコンウェーハ（１０）の端面を含む表面全体に、膜厚が１０ｎｍ以上の酸化膜（２０）を形成する工程と、該酸化膜（２０）を除去して表面に存在する微細ダメージを低減する工程とを含む。 - 特許庁

A CPU arithmetically operates a nose radius based on data of the image processing (Step 100), and arithmetically operates theoretical surface roughness by substituting the arithmetically operated nose radius and a feed quantity of a cutting tool in a calculation expression (a feed quantity/(8×a nose of an edge)) of the theoretical surface roughness (Step 102).例文帳に追加

画像処理（ステップ１００）のデータに基づいてＣＰＵはノーズ半径を演算し、且つ演算されたノーズ半径及びバイトの送り量を理論面粗度の計算式（送り量／（８×刃先のノーズ））に代入することにより、理論面粗度を演算する（ステップ１０２）。 - 特許庁

In a two group unit 3 which is a fixed lens group, in the holding part 322 of an optical element 32 at the rear (image) side, a step 324 is formed at a part of a circumferential direction on an abutting surface 323 with a rear frame 51, and a notch 326 continued to the step 324 is formed on an outer peripheral surface.例文帳に追加

固定レンズ群である２群ユニット３において、後（像）側の光学素子３２の保持部３２２には、後フレーム５１との当接面３２３における周方向の一部において、段差３２４を形成するとともに、外周面には、その段差３２４に連なる切欠き３２６を形成する。 - 特許庁

A base material is subjected to (1) a step of forming a stripe patterned surface by applying a colored coating in stripes to the base material and (2) a step of applying a face coating material to the stripe patterned surface, wherein the face coating material is such that at least one kind or more transparent coloring particles are dispersed in a dispersion medium.例文帳に追加

基材に対し、（１）着色塗料を筋状に塗付して、筋状模様面を形成する工程、（２）当該筋状模様面に対し、少なくとも１種以上の透明着色粒状物が分散媒中に分散した上塗材を塗付する工程、を行う。 - 特許庁

The method for manufacturing the blade member includes a step of forming a layer by extrusion solidifying a raw material of the blade member to a uniform film thickness on a surface transfer sheet of a charge control surface, and a step of cutting the layer in a shape of the blade member.例文帳に追加

本発明によるブレード部材の製造方法は、電荷制御面の面転写用シート上に、ブレード部材の原料を均一膜厚に押出し固化させて層を形成する工程、および、該層をブレード部材の形状に切断する工程を有することを特徴とするものである。 - 特許庁

The manufacturing method and the inspection method of organic EL element comprise a step for applying a voltage between the upper surface side and the lower surface side of the protection layer 26, and a step for deciding presence or absence of a defect of the protection layer 26 on the basis whether a current flows through the protection layer 26.例文帳に追加

本製造方法および検査方法は、前記保護層２６を挟んで上面側と下面側から電圧を印加する工程と、前記保護層２６に電流が流れたか否かによって該保護層２６の欠陥の有無を判定する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Subsequently, the magnet magnetized at the step S01 is inserted (step S04) into a magnet insertion hole injected with resin and positioned at a position in the magnet insertion hole shifted to the outer circumferential side such that the outer circumferential surface of the magnet abuts against the inner surface of the magnet insertion hole on the outer circumferential side.例文帳に追加

次に、樹脂が注入された磁石装着孔内にステップＳ０１にて磁化された磁石を挿入し、磁石の外周面が磁石装着孔の外周側内面に当接するようにして磁石を磁石装着孔内の外周側にずれた位置に位置決めする（ステップＳ０４）。 - 特許庁

This overturn prevention device for the escalator comprises a step position measuring device detecting the point of a time when the overall surface of the treads of a step appears forward of a floor plate 22 at the entrance 15 of the escalator and a safety promoting alarm device emitting sound each time the overall surface of the treads appears.例文帳に追加

エスカレータ用転倒防止装置は、エスカレータの乗込口１５の床板２２の前方にステップの踏み板６の全面が現れる時点を検出するステップ位置計測装置と、踏み板の全面が現れる時点毎に音を発する安全促進報知装置と、を備える。 - 特許庁

The method for producing a fluororesin molded body having a hydrophilic polymer on a surface thereof includes a step (A) of bonding a polymerization initiator compound to a surface of a fluororesin molded body, and a step (B) of polymerizing a hydrophilic monomer with the polymerization initiator compound as a starting point.例文帳に追加

フッ素樹脂成形体の表面に重合開始剤化合物を結合させる工程（Ａ）、および前記重合開始剤化合物を起点として親水性モノマーを重合する工程（Ｂ）を含む、表面に親水性ポリマーを有するフッ素樹脂成形体の製造方法とする。 - 特許庁

This manufacturing method for the green tire comprising the composite structure of the PU elastomer-made tread and rubber-made tire body comprises a step for treating the surface of the rubber-made tire body and a step for forming the modified PU elastomer-made tread on the surface-treated tire body.例文帳に追加

本発明のＰＵ弾性体製トレッドとゴム製タイヤ本体の複合構造から成るグリーンタイヤ及びその製造方法は、ゴム製タイヤ本体の表面を処理するステップと、該表面処理されたタイヤ本体に変性ＰＵ弾性体製トレッドを形成するステップと、を有する。 - 特許庁

A method of polishing a slider includes a step S4 for raising the temperature of a polishing face of a surface plate to be used in polishing of a slider to an operation temperature of the slider, and a step S5 for polishing a medium facing surface of the slider while pressing it against the polishing face whose temperature is raised to the operation temperature.例文帳に追加

スライダの研磨方法は、スライダの研磨に用いられる定盤の研磨面の温度を、スライダの作動時温度まで上昇させるステップＳ４と、スライダの媒体対向面を、作動時温度まで高められた研磨面に押し付けながら研磨するステップＳ５と、を有している。 - 特許庁

In this state, a movement of the center hub 24 of the optical disk 22 is limited by the contact surface 11a and the step 11b of the turntable 11, and a center hub 24 is adsorbed on the step 11b and the contact surface 11a by first and second permanent magnets 15, 16 for chucking.例文帳に追加

この状態では、光ディスク２２のセンターハブ２４の移動がターンテーブル１１の当接面１１ａ及び段差部１１ｂにより制限され、かつセンターハブ２４が第１及び第２チャッキング用マグネット１５，１６により段差部１１ｂ及び当接面１１ａに吸着される。 - 特許庁

The surface-treated Zn-based plated steel plate is manufactured via (1) a step of generating plasma steam in the atmosphere where the steam concentration is ≥2.0 g/m^3 and which is under the atmospheric pressure, and (2) a step of bringing the plasma steam into contact with the surface of the Zn-based plated steel plate.例文帳に追加

（１）水蒸気濃度が２．０ｇ／ｍ^３以上であって大気圧にある雰囲気において、プラズマ水蒸気を発生させる工程、および（２）前記プラズマ水蒸気をＺｎ系めっき鋼板表面に接触させる工程を経て、表面処理Ｚｎ系めっき鋼板を製造する。 - 特許庁

A surface treating agent, which is used to fill in the step generated on the surface of the model, comprises a base resin which is cured by a physical action and beads having a diameter equivalent to or smaller than the step and enough wettability with the base resin as main components.例文帳に追加

モデル表面に生じている段差を埋めるために用いるものであって、物理的作用により硬化する性質を有するベース樹脂と、前記段差と同等または小さな直径でかつ前記ベース樹脂に対して濡れ性が大きなビーズと、を主成分として表面処理剤を構成する。 - 特許庁

The method further includes a step of forming an etching mask in the trench to mask partially the basal surface of the trench, and successively a step of removing the semiconductor material of the substrate exposing in the basal surface which has been partially masked and demarcating a second side wall which deepens the trench and has been narrowed.例文帳に追加

この方法はさらに、トレンチ内にエッチング・マスクを形成してトレンチの基底面を部分的にマスクするステップと、これに続いて、部分的にマスクされた基底面の露出した基板の半導体材料を除去して、トレンチを深くする狭められた第２の側壁を画定するステップとを含む。 - 特許庁

The method for producing the metal-covered fabric includes a step for jetting a slurry containing a polishing material having 4-150 μm median diameter provided in JIS Z 8901 on the surface of the fiber constituting the fabric at 0.06-0.4 MPa air pressure, and a step for forming a metal layer on the surface of the resultant fiber.例文帳に追加

布帛を構成する繊維表面に、ＪＩＳ Ｚ ８９０１で定められる中位径４〜１５０μｍの研磨材を含有するスラリーをエアー圧０．０６〜０．４ＭＰａで噴射する工程、および、該繊維表面に金属層を形成する工程を含む金属被覆布帛の製造方法である。 - 特許庁

The cylinder block thermal spraying method for performing thermal spraying on the bore surface 1 of the cylinder block 3 comprises a step for providing a space between bore ends of the cylinder block 1, and a step for spraying thermal spraying flame 33 on the bore surface 1 in a space- provided state.例文帳に追加

シリンダブロック３のボア面１に溶射を施すシリンダブロックの溶射方法において、前記シリンダブロック１のボア端部同士に間隔を設けるステップと、この間隔を設けた状態でボア面１に対して溶射フレーム３３を噴射するステップとを含んでなる溶射方法である。 - 特許庁

A projection part formation step for forming a projection part on a rear side face of the substrate, and an electron element forming step for forming the electron element on the surface of the substrate while the substrate is supported by the projection part are included in a process for forming the semiconductor device, in which the electron element is formed on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面上に電子素子が設けられた半導体装置を製造する工程中に、基板の裏面側に凸部を形成する凸部形成ステップと、凸部により基板を支持した状態で、基板の表面上に電子素子を形成する電子素子形成ステップとを設けた。 - 特許庁

The method of roughening the surface of the metal-plated optical member 12 includes a step for grinding the metal-plated optical member 12 and a step for lapping the ground face of the metal-plated optical member 12 using loose abrasive grains 32 applied to a surface plate 30.例文帳に追加

金属メッキされた光学部材１２に研削加工を施す工程と、定盤３０に塗布された遊離砥粒３２によって前記金属メッキされた光学部材１２の研削面にラップ加工を施す工程と、を含む金属メッキ光学部材１２の粗面加工方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic sliding member which is capable of additionally improving the water-tightness between a sliding surface of the ceramic sliding member manufactured through a carbon film depositing process step in succession to a firing process step and a sliding surface slidingly contacting another member to be slid.例文帳に追加

焼成工程に続いて炭素皮膜付着工程を経て製造されるセラミックス製摺動部材の摺動面と他の被摺動部材と摺接する摺動面との間の水密性をより向上させることができるセラミックス製摺動部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The process for fabricating a nitride-based semiconductor laser element comprises a step for etching the backside (nitrogen surface) of an n-type GaN substrate 1 having wurtzite structure by RIE, and a step for forming an n-side electrode 8 on the backside (nitrogen surface) of the etched n-type GaN substrate 1.例文帳に追加

この窒化物系半導体レーザ素子の製造方法は、ウルツ鉱構造を有するｎ型ＧａＮ基板１の裏面（窒素面）をＲＩＥ法によりエッチングする工程と、その後、エッチングされたｎ型ＧａＮ基板１の裏面（窒素面）上に、ｎ側電極８を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The method is provided with, as a subsequent step, a step (b) of bonding the disc 11 and the cover 12 by brazing in a state where a brazing material is interposed between the first bonding surface in the blade 13 and the second bonding surface in any one of the disc 11 and the cover 12.例文帳に追加

本発明は次の工程として、ブレード１３における第１接合面と、ディスク１１及びカバー１２のいずれか一方における第２接合面との間にろう材を介在させた状態で、ディスク１１とカバー１２とをろう付けにより接合する工程（ｂ）を備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing a substrate with a coating film includes: an application step of applying a coating liquid on a substrate having an irregular surface, on the surface where irregularity is present; and a drying step of drying the coating liquid applied on the substrate by cooling the substrate as well as reducing the ambient pressure.例文帳に追加

表面に凹凸を有する基板の該凹凸が存在する側の面に塗布液を塗布する塗布工程と、前記基板上に塗布された前記塗布液を、前記基板を冷却するとともに雰囲気を減圧して乾燥させる乾燥工程と、を有する塗布膜付き基板の製造方法である。 - 特許庁

The cutting method includes a preliminary cutting step of providing a preliminary groove 7 which is positioned so as to intersect the cutting direction at finish cutting with respect to a machining surface 81 of the workpiece 8, and a finish cutting step of finish cutting of the machining surface 81 with cutting depth deeper than that of the preliminary groove 7.例文帳に追加

ワーク８の加工面８１に対し、仕上げ切削を行う際の切削方向と交差するように位置する予備溝７を設ける予備切削工程と、加工面８１に予備溝７の深さを超える切削代の仕上げ切削を行う仕上げ切削工程とを有する。 - 特許庁

Radio wave absorbers arranged on side wall surfaces 12, 13 have parts which become larger in coefficient of TE wave reflection continuously or step by step from the side of a floor surface 17 to the side of the ceiling surface 11 over the entire regions of the side wall surfaces 12, 13 in a lateral direction.例文帳に追加

側壁面１２,１３に配置された電波吸収体は、ＴＥ波反射係数の大きさが側壁面１２,１３の横方向の全領域で床面１７側から天井面１１側に向かって連続的に大きくなる部分がある又は段階的に大きくなる。 - 特許庁

Characteristically, this method comprises: a step of protruding transverse band works, which are installed at regular intervals on the wall surface of the revetment structure, in a river direction; or a step of inclining a wall surface, which is positioned between the adjacent transverse band works, in a plan view, or displacing it stepwise.例文帳に追加

護岸構造物の壁面に一定間隔で設置されている横帯工を河川方向に突出させ、或いは、隣接する横帯工の間に位置する壁面を平面視で傾斜させ又はステップ状にずらすことを含むことを特徴とする方法が提供される。 - 特許庁

The surface inspection method to detect fine particles deposited on the surface of the substrate has a step of generating depositions around the fine particles, and a step of detecting the fine particles around which the depositions are generated by the dispersion of light.例文帳に追加

基板の表面に付着した微小粒子を検出する表面検査方法において、前記微小粒子の周囲に析出物を生成するステップと、前記析出物が周囲に生成した前記微小粒子を光の散乱によって検出するステップと、を有することを特徴とする。 - 特許庁

A method of manufacturing the light emitting diode includes a step of removing the area provided for forming the antennas 2 by etching the surface electrodes 3 and surface semiconductor layer 4 of the chip 1, and a step of forming the antennas 2 by packing a dielectric substance in the etched-off portions.例文帳に追加

発光ダイオードの製造方法は、発光チップ１の表面電極３と表面半導体層４をエッチングして、誘電体アンテナ２を設ける領域を除去する工程と、エッチングして除去された部分に誘電体を充填して誘電体アンテナ２を設ける工程とからなる。 - 特許庁

A delay analysis method includes: a step of extracting, from a storage device, a delay value of a reconfiguration path used for controlling change in the circuit surface of a dynamic reconfigurable device; and a step of calculating the delay value of a data path in the circuit surface in consideration of the delay value of the reconfiguration path.例文帳に追加

遅延解析方法は、動的再構成デバイスの回路面の変更を制御するための再構成パスにおける遅延値を記憶装置から抽出するステップと、再構成パスの遅延値を考慮して回路面におけるデータパスの遅延値を算出するステップとを具備する。 - 特許庁