「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

This method includes: a molding step of molding the cement composition with a groove portion with the joint-like pattern in a predetermined range of a surface; a painting step of painting at least an area except the groove portion in the predetermined range; and a filling step of filling the groove portion with a joint material.例文帳に追加

表面の所定範囲に目地状模様の溝部を有したセメント組成体を成形する成形工程と、前記所定範囲の少なくとも前記溝部以外の領域を塗装する塗装工程と、前記溝部に目地材を充填する充填工程と、を有する。 - 特許庁

The atmospheric deposition method of the anti-fouling film includes: a step of providing a substrate; a gasification step of gasifying an anti-fouling coating solution to form a plurality of film coating vapor molecules; and a step of depositing the film coating vapor molecules on a surface of the substrate to form the anti-fouling film.例文帳に追加

この防汚フィルムの常圧蒸着法は、基材を提供するステップと、複数の防汚蒸気分子を形成するように、防汚塗料溶液を気化させる気化ステップと、防汚フィルムを形成するように、これらの防汚蒸気分子を基材の一表面に堆積させるステップと、を備える。 - 特許庁

The manufacturing method comprises (A) a step of forming a patterned organic film on a substrate, (B) a step of forming the conductive layer on a surface of the patterned organic film by electroless plating and (C) a step of removing a part of the conductive layer by contacting the same with an etching gel composition.例文帳に追加

上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）ゲル状エッチング組成物と接触させることにより前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 - 特許庁

This thinning is performed by repeating a unit thinning step which includes an oxidation step S31 of oxidizing the surface of the SOI layer by the predetermined thickness not larger than that of one lattice and a removal step S32 of selectively removing a silicon oxide formed by oxidation.例文帳に追加

このような薄化は、ＳＯＩ層の表面を１格子分又はそれ未満の所定厚さだけ酸化させる酸化工程Ｓ３１と、酸化により形成された酸化シリコンを選択的に除去する除去工程Ｓ３２とを含む単位薄化工程を繰り返すことにより行なう。 - 特許庁

The forming method of the nano structure using the polysilicon layer has a step of flatting the surface of the polysilicon layer, a step of subjecting the flattened polysilicon layer to an activating treatment and a step of subjecting the polysilicon layer to an anodic oxidation using a solution.例文帳に追加

本発明の多結晶シリコン層を用いたナノ構造体の形成方法は、多結晶シリコン層の表面を平坦化する工程と、平坦化された多結晶シリコン層の活性化処理する工程と、多結晶シリコン層に、溶液を用いた陽極酸化をする工程とを有する。 - 特許庁

The method for using the oil-and-fat composition for fried Jiaozi includes a step for making the oil-and-fat composition for fried Jiaozi adhere to the fried surface of uncooked Jiaozi, a step for freezing the uncooked Jiaozi, and a step for baking the frozen uncooked Jiaozi by adding no oil.例文帳に追加

また、かかる焼餃子用油脂組成物の使用方法は、前記焼餃子用油脂組成物を生餃子の焼き面に付着する工程、該生餃子を冷凍する工程、及び該冷凍した生餃子について油を追加せずに焼く工程からなることを特徴とする。 - 特許庁

The method of producing the fluoride single crystal includes the step of cutting the fluoride crystal from an ingot, the step of optically polishing the external surface of the cut fluoride crystal, and the step of heat-treating the optically polished fluoride crystal contained in a sealable container.例文帳に追加

フッ化物結晶をインゴットから切り出す工程と、切り出されたフッ化物結晶の外表面を光学研磨する工程と、光学研磨されたフッ化物結晶を密閉可能な容器に収納して熱処理する工程と、を有するフッ化物結晶の製造方法。 - 特許庁

The method for producing the magnetic recording medium includes a step for forming at least a magnetic recording layer and a protective film on a nonmagnetic substrate, a step for applying a lubricant to the surface of the protective film after plasma treatment and a step for subjecting the lubricant to irradiation with UV and/or heat treatment.例文帳に追加

非磁性基板上に少なくとも磁気記録層及び保護膜を積層形成する工程と、該保護膜の表面をプラズマ処理してから潤滑剤を塗布する工程と、潤滑剤に紫外線照射処理或いは熱処理或いはそれ等両方の処理を加える工程とが含まれる。 - 特許庁

A method for producing the processed food comprises a step for directly roasting meat with charcoal fire and a step for carrying out vacuum packaging by a synthetic resin film having a gas barrier property under temperature state in which heat of the meat is removed after finishing the above step and proliferation of various germs on meat surface is suppressed.例文帳に追加

食肉を炭火で直焼き調理する工程と、前記工程終了後あら熱を取るとともに食肉表面温度が雑菌の繁殖が抑制される温度状態下でガスバリア性合成樹脂フィルムにより真空包装を行う工程とを備えている構成とした。 - 特許庁

Like as a case in which a rock rolling from the outside of the traveling element 3 collides with the step 61, when the external force is applied to the step 61 from the outside of the traveling element 3, the step 61 is closed to the outside surface 7a against energizing force by the helical tension spring 64.例文帳に追加

そして、走行体３の外側方から転がってきた岩石がステップ６１に衝突した場合のように、走行体３の外側方からステップ６１に外力が与えられたときには、ステップ６１が引張コイルばね６４による付勢力に抗して、外側面７ａに対して閉じるようにした。 - 特許庁

The method for producing a gold-plated structure comprises: a removing step where an oxide film is removed from the surface of a titanium base material (10); and a dipping step where, after the removing step, the titanium base material (10) is dipped into a gold plating bath (30) admixed with an additive suppressing formation of a passive film.例文帳に追加

金めっき構造体の製造方法は、チタン基材（１０）の表面から酸化膜を除去する除去工程と、除去工程後に、不動態膜の形成を抑制する添加剤が添加された金めっき浴（３０）にチタン基材（１０）を浸漬する浸漬工程と、を含む。 - 特許庁

The method is provided with a step for setting a heating device 6 so that a heating part becomes orthogonal to the ground, a step for inserting one side of the end surface of the optical fiber 1 into the heating device orthogonally to the ground from the upper side of the heating device and a step for heating the optical fiber for a specified time.例文帳に追加

本発明は、加熱部分が地面に対して垂直になるように加熱装置６を設けステップと、加熱装置の上方から地面に対して垂直に光ファイバ１の端面の一方を加熱装置内に挿入するステップと、光ファイバを所定時間加熱するステップを有する。 - 特許庁

The casting 1A is provided with a tube fitting step part 3A on a main body part 2A, a step down part 7A of a smaller diameter difference than a depth of a seal member groove 6 continuing the step art 3A at the tip side, and is formed in a shape maintaining a thin machining allowance for surface finishing on entire body.例文帳に追加

該鋳造品１Ａは、その本体部２Ａにチューブ取付け段部３Ａを設けると共に、その段部の先端側に、シール部材溝６の深さよりも小さい径差の段落部７Ａを連設し、且つ全体的に表面仕上げのための薄い取り代を付した形状に形成する。 - 特許庁

This cleaning method of the oriented film resin adhering to the printing plate, comprises the step of arranging a porous sheet on the surface of the printing plate, the step of impregnating the porous sheet with a solvent for the oriented film resin and leave the sheet at rest and the step of releasing the solvent-impregnated sheet from the printing plate.例文帳に追加

印刷版に付着した配向膜樹脂のクリーニング方法であって、該印刷版表面に多孔質シートを配設する工程と、該シートに配向膜樹脂の溶媒を含浸、静置する工程と、該溶媒含浸シートを印刷版から剥離する工程とを有する配向膜印刷版クリーニング方法。 - 特許庁

At the front surface 11a of the external case 11, a stepped opening part having one step of step part 112 and a flange part 113 of a prescribed depth folded inward nearly at a right angle are formed, and a plurality of notch parts 114 are formed separately at a folded part from the step part 112 to the flange part 113.例文帳に追加

外装ケース１１の前面１１ａに、１段の段部１１２と内側へ略直角に折り曲げられた所定奥行の鍔部１１３とを有する段付開口部が形成され、段部１１２から鍔部１１３への折り曲げ部分に複数の切り欠き部１１４が離間して設けられている。 - 特許庁

The printing method, by which printing can be carried out on the plastic film integrally molded with the electronic equipment cabinet by inmold molding, comprises a first step of applying ink on the plastic film surface and a second step of applying clear ink thereon so as to cover the ink applied at the first step.例文帳に追加

プラスチックフィルム表面にインクを塗布する第１のステップと、第１のステップで塗布されたインクを覆うようにクリアインクを塗布する第２のステップとを有するように、インモールド成形によって電子機器筐体と一体に成形されたプラスチックフィルムの印刷方法を構成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the pipe with the flange member includes a first through-feed grinding step in which an outer peripheral surface of a pipe stock 1 is subjected to through-feed grinding, and after the first through-feed grinding step, a flange member press-fitting step in which the flange member 2 is press-fitted and fixed to the end of the pipe stock 1.例文帳に追加

フランジ部材付きパイプの製造方法は、素管１の外周面をスルーフィード研削する第１スルーフィード研削工程と、第１スルーフィード研削工程の後で、素管１の端部にフランジ部材２を圧入固着するフランジ部材圧入工程と、を含む。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor device includes a step of sequentially forming the polycrystalline silicon film 5, the tungsten silicide film 6 and an insulating film 7 on the gate insulating film 4 of the main surface of a semiconductor substrate 1, a step of patterning them, and a step of forming the gate electrode 8 having the laminated structure of the polycrystalline silicon film 5 and the tungsten silicide film 6.例文帳に追加

半導体基板１の主面のゲート絶縁膜４上に、多結晶シリコン膜５、タングステンシリサイド膜６および絶縁膜７を順に形成し、それらをパターニングして多結晶シリコン膜５およびタングステンシリサイド膜６の積層構造を有するゲート電極８を形成する。 - 特許庁

A method of reducing crystal defect of simox wafer includes: a first step of implanting ions from a surface of a wafer into a silicon layer 13 of a range of set depth from the BOX layer 12; and a second step of heating the wafer obtained in the first step to restore the crystallinity of a portion where the ions are implanted.例文帳に追加

ウェーハの表面からＢＯＸ層１２よりも設定深さの範囲のシリコン層１３までイオンを注入する第１の工程と、第１の工程で得られたウェーハを加熱してイオンが注入された部位の結晶性を回復させる第２の工程とを含む。 - 特許庁

The process of a second embodiment comprises a step that the silicon substrate having the mesa encircled in the trench is formed, a step that a dielectric layer is formed in the trench abutted on the mesa, and a step that the silicon germanium layer is grown on the upper surface of the mesa by a selectively epitaxial growth method to form a silicon germanium base.例文帳に追加

第２実施例のプロセスは、トレンチに囲まれたメサを有するシリコン基板を形成するステップ、メサに隣接したトレンチに誘電層を形成するステップ、及び選択的エピタキシャル成長によりメサ上面にシリコン・ゲルマニウム層を成長させてシリコン・ゲルマニウム・ベースを形成するステップを含む。 - 特許庁

The etching method includes: a step of forming a solid layer, such as a metal fluoride layer 3, at least as one portion of an etching mask on the surface of substrates 1, 2; a step of performing polymer solution processing to the solid layer; and a step of etching the substrates with the solid layer as a mask.例文帳に追加

基体（１，２）の表面に、エッチングマスクの少なくとも一部として、金属フッ化物層３等の固体層を形成する工程と、前記固体層をポリマー溶液処理する工程と、前記固体層をマスクとして、前記基体をエッチングする工程とを有することを特徴とするエッチング方法。 - 特許庁

The etching method includes: a step of forming a solid layer, such as a metal fluoride layer 3, at least as one portion of an etching mask on the surface of substrates 1, 2; a step of performing chemical processing to the solid layer; and a step of etching the substrates with the solid layer as a mask.例文帳に追加

基体（１，２）の表面に、エッチングマスクの少なくとも一部として、金属フッ化物層３等の固体層を形成する工程と、前記固体層を化学薬品処理する工程と、前記固体層をマスクとして、前記基体をエッチングする工程とを有することを特徴とするエッチング方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the wafer 10A with the adhesive according to the present invention includes a first step of applying an adhesive composition on the surface of the semiconductor wafer 1 by the printing process, and a second step of volatilizing a solvent contained in the adhesive composition having been applied in the first step.例文帳に追加

また、本発明に係る接着剤付きウエハ１０Ａの製造方法は、半導体ウエハ１の表面に接着剤組成物を印刷法によって付設する第１工程と、この第１工程で付設した接着剤組成物に含まれる溶剤を揮発させる第２工程とを備える。 - 特許庁

In a blade surface region data preparation step 45, the entire-region data on the waterwheel runner blade surfaces as a whole are prepared, on the basis of the measurement region data prepared in the measurement region data preparation step and the unmeasured region data prepared in the unmeasured region data preparation step.例文帳に追加

羽根面全域データ作成工程４５は、前記計測領域データ作成工程によって作成された前記計測領域データと、前記未計測領域データ作成工程によって作成された前記未計測領域データとに基づいて、水車ランナ羽根面全体の全域データを作成する。 - 特許庁

In the stone structure constructed by piling up the stones, it is constituted by having at least one or more through-holes passing through every stone except the highest step stone until a plane coming into contact with the ground in the lowest step stone from a predetermined place of the upper surface in the second step stone from the top.例文帳に追加

石材を積み重ねてできる石材構造物において、上から二段目石材における上面所定箇所より最下段石材における接地面まで最上段石材を除いた全ての石材を貫通する少なくとも一以上の貫通孔を備えた構成となっている。 - 特許庁

The SiCMOS structure is formed by the steps which include a step where a relaxing SiGe layer is formed on a substrate surface, a step where a separation region and a well implanting region are formed in the relaxing SiGe layer, and a step where a strain Si layer is formed on the relaxing SiGe layer.例文帳に追加

基板表面上に緩和ＳｉＧｅ層を形成するステップと、前記緩和ＳｉＧｅ層内に分離領域およびウェル打込み領域を形成するステップと、前記緩和ＳｉＧｅ層上に歪みＳｉ層を形成するステップとを含むステップで、歪みＳｉＣＭＯＳ構造が形成される。 - 特許庁

The method includes the step of preparing the vessel having a prescribed shape, the step of preparing CNT dispersion in which a CNT material having the CNT as a main ingredient is dispersed in a dispersion medium at a concentration of 50 mg/L or lower, and the step of forming the CNT layer on the surface of the vessel.例文帳に追加

その方法は、所定形状の容器を用意すること；ＣＮＴを主成分とするＣＮＴ材料が分散媒に５０ｍｇ／Ｌ以下の濃度で分散されたＣＮＴ分散液を用意すること；および、該容器の表面にＣＮＴ層を形成すること；を含む。 - 特許庁

After contacting a bump 2a of the component 2 with a paste film p formed with fixed thickness to transfer the paste P to the bump 2a (a step ST5), a surface state of the bump 2a is detected (a step ST6), quality of a sticking state of the paste P to the bump 2a is decided (a step ST7).例文帳に追加

一定厚さに形成されたペースト膜ｐに部品２のバンプ２ａを接触させてバンプ２ａにペーストＰを転写させた後（ステップＳＴ５）、バンプ２ａの表面状態の検出を行い（ステップＳＴ６）、バンプ２ａへのペーストＰの付着状態の良否判定を行う（ステップＳＴ７）。 - 特許庁

The semiconductor substrate 20 has a groove 40 formed in its surface, has a mesa step 24 formed thereon crossing the groove 40, and has an impurity introduction area 22 formed thereon and passing through the mesa step 24 extending a boundary between the mesa step 24 and the groove 40.例文帳に追加

半導体基板２０は、表面に溝４０が形成されており、その溝４０を横断するメサ段差２４が形成されており、そのメサ段差２４を通過してメサ段差２４と溝４０の境界を越えて伸びている不純物導入領域２２が形成されている。 - 特許庁

In the method having a step of forming a wiring layer 6 containing at least copper and a step of forming a polyimide layer 7 on the surface of the wiring layer 6, the step of forming the polyimide layer 7 polymerizes the polyimide layer 7 in inert gas.例文帳に追加

少なくとも銅を含有する配線層６を形成する工程と、配線層６上にポリイミド層７を形成する工程を有する半導体装置の製造方法であり、ポリイミド層７を形成する工程は、ポリイミド層７を不活性ガス中で重合することを特徴としている。 - 特許庁

The manufacturing method of the surface acoustic wave device includes: a sticking matter inspection step (step S12) for inspecting the presence/absence of the sticking matter on an IDT 44; and a step S14 of short-circuiting electrodes 44a, 44b of the IDT 44 whose sticking matter is recognized.例文帳に追加

本発明による弾性表面波デバイスの製造方法は、ＩＤＴ４４上の付着物の有無を調べる付着物検査工程（ステップＳ１２）と、付着物が認められたＩＤＴ４４の電極４４ａと電極４４ｂとを短絡する工程（ステップＳ１４）とを有する。 - 特許庁

In the plated film forming method carried by forming the plated film on the substrate on which the recessed part such as the wiring trench is formed in a plating step, a plating inhibiter sticking step for covering the uppermost surface of the substrate with the plating inhibiter is carried out prior to the plating step.例文帳に追加

配線溝等の凹部が形成された基板にめっき工程によりめっき膜を形成するめっき膜形成方法であって、前記めっき工程に先んじて、前記基板の最表面をめっき抑制剤で覆うめっき抑制剤付着工程を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the toner includes a step in which porous silicon dioxide having a specific surface area of 500-700 m^2/g measured by the BET method is internally added to a mixture of a binder resin and a colorant and these are kneaded and a step of pulverizing and classifying a composition prepared by the kneading step.例文帳に追加

結着樹脂と着色剤との混合物にＢＥＴ法における比表面積が５００〜７００ｍ^２ ／ｇの多孔質二酸化珪素を内添して混練する工程、該混練工程により得られた組成物を粉砕および分級する工程、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing the tubular body comprises a coating film forming step for forming a coating film by applying a polyamide acid solution to a core body, a drying step for drying the coating film to form a film, a contacting step for bringing a film surface into contact with the fluororesin, a heating step for heating the film with which the fluororesin has come into contact and a peeling step for peeling the fluororesin from the heated film.例文帳に追加

ポリアミド酸溶液を芯体に塗布して塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥して被膜を形成する乾燥工程と、前記被膜の表面にフッ素樹脂を接触させる接触工程と、前記フッ素樹脂が接触した前記被膜を加熱する加熱工程と、加熱された前記被膜から前記フッ素樹脂を剥離する剥離工程と、を有する、管状体の製造方法。 - 特許庁

The method for producing the impact resisting adhesive layer serially comprises a deaerating step deaerating an acrylic radiation-curable liquid adhesive composition, a coating step coating on a substrate surface the acrylic radiation-curable liquid adhesive composition deaerated in the step, and a curing step curing the radiation curable liquid composition coated in the step.例文帳に追加

本発明の耐衝撃粘着層の製造方法は、アクリル系の放射線硬化型液状粘着組成物を脱気する脱気工程と、上記工程により脱気された上記放射線硬化型液状粘着組成物を基層表面に塗布する塗布工程と、放射線を照射することにより、上記工程により塗布された上記放射線硬化型液状粘着組成物を硬化させる硬化工程と、を順次備える。 - 特許庁

This method for molding expandable polypropylene includes a step of screen-printing on a resin sheet used for vacuum thermoforming; a step of obtaining a blister product by thermoforming the sheet; a step of manufacturing a polyfoam product by foam-molding the expandable polypropylene; a step of spray-coating ink on the surface of the polyfoam product; and a step of integrally molding the polyfoam product with the blister product.例文帳に追加

本発明の発泡ポリプロピレンの成形方法は、真空熱成形に用いられる樹脂シート上にスクリーン印刷を行うステップと、当該シートを真空成形させてブリスター製品を得るステップと、発泡ポリプロピレンを発泡成形させてポリフォーム製品を製造するステップと、ポリフォーム製品の表面にインクをスプレーコートするステップと、ポリフォーム製品をブリスター製品と一体成形させるステップとを含む。 - 特許庁

The method includes: a step of manufacturing a surface hydrophilic member in which hydrophilic graft polymer chains exist over the entire surface of at least one face of a support; a step of providing an electroless plating catalyst or its precursor locally to the surface hydrophilic member and making the member adsorb the catalyst; and a step of applying electroless plating on the surface hydrophilic member which has locally adsorbed the electroless plating catalyst or its precursor.例文帳に追加

支持体の少なくとも一方の面の全面に亘って親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面親水性部材を作製する工程と、前記表面親水性部材に、無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に付与して吸着させる工程と、前記無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に吸着させた表面親水性部材に、無電解メッキを行う工程と、を有することを特徴とする導電性パターン形成方法。 - 特許庁

In the step for forming the surface layer which constitutes the outermost surface of the electrophotographic photoreceptor, the surface layer is formed by the immersion coating method by using the coating liquid for the surface layer containing the lubricant and a fluorine-based solvent, having a cyclic structure as the solvent.例文帳に追加

電子写真用感光体の最外表面を構成する表面層を形成する表面層形成工程において、前記表面層が潤滑剤及び溶剤として環状構造を有するフッ素系溶剤を含有した表面層用塗布液を用いて浸漬コーティング法により形成する。 - 特許庁

The press-fitting step bonds the diametrally external surface of the raw material 1A under compression to the diametrally internal surface of the housing 21, and presses both axial ends of the diametrally internal surface of the raw material 1A against the core rod 32 to form shaft supporting surface 12 with an intermediate recess 13 in between.例文帳に追加

圧入工程において、素材１Ａの外径面をハウジング２１の内径面に圧着させる一方、素材１Ａの軸方向両端部の内径面をコアロッド３２に圧接させて軸支面１２に形成するとともに、これら軸支面１２間に中逃げ部１３を形成する。 - 特許庁

Consequently, the surface of the aluminum substrate for the hard disk device is converted into the surface that is suitable for electroless Ni plating, so that a smooth plating film surface is obtained by suppressing the formation of waves, nodules and pits in the plating surface when the electroless nickel plating is carried out in the plating step.例文帳に追加

これにより、ハードディスク装置用アルミニウム基板の表面を無電解Niめっきに適した表面とし、めっき工程で無電解ニッケルめっきを行った場合に、めっき表面のうねり、ノジュール及びピットの発生を抑制して平滑なめっき皮膜表面を得る。 - 特許庁

The lower end 4e of a wall surface 4c located on the vehicle front side is positioned on the lower side than the lower end 4f of a wall surface 4d located in the vehicle back side, and the wall surface 4c located on the vehicle front side and the wall surface 4d located in the vehicle back side form a step.例文帳に追加

車両前方側に位置する壁面４ｃの下端４ｅを、車両後方側に位置する壁面４ｄの下端４ｆより下方側に位置させて、車両前方側に位置する壁面４ｃと車両後方側に位置する壁面４ｄとで段差を作る。 - 特許庁

Further, the semiconductor device manufacturing method comprises a step of simultaneously oxidizing the surface of the n-type semiconductor region and the surface of the semiconductor layer to form an oxide film having a film thickness relatively thicker on the surface of the n-type semiconductor region than on the surface of the semiconductor layer.例文帳に追加

また、半導体装置の製造方法は、ｎ形半導体領域の表面及び半導体層の表面を同時に酸化し、相対的に半導体層の表面上よりもｎ形半導体領域の表面上で膜厚が厚くなる酸化膜を形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a glass substrate for magnetic recording medium, which includes a step of end surface polishing capable of removing a processing scratch on the end surface in a short time and smoothing the end surface to achieve a high quality product, without transfer of the glass substrate between end surface polishing devices or brush replacement.例文帳に追加

磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換をすることなく、端面の加工傷を短時間で除去し、かつ端面を高品質に平滑化することが可能な端面研磨工程を提供する。 - 特許庁

The process for producing a double sided wiring board where the circuits formed on the front surface and the back surface of the board are connected electrically through a conductive part formed on the side face part of through holes comprises a step for forming the conductive part simultaneously with the circuits on the front surface and the back surface.例文帳に追加

スルーホールの側面部分に形成された導電部を介して基板の表面と裏面に形成された回路を電気的に接続する両面配線基板の製造方法であって、導電部、及び表面と裏面に形成された回路をめっき処理により同時に形成するステップを有する。 - 特許庁

To provide a surface height detection method capable of responding to a sudden step of surface height, a workpiece surface characteristic incapable of being predicted, and measurement of workpiece surface height over a wide range in relation to a universal machine visual inspection system executing accurate dimensional measurement; and its device.例文帳に追加

精密寸法計測を実行する汎用機械視覚検査システムにおいて、突然の表面高さの段差、予測不可能なワーク表面特性、広範囲にわたるワーク表面高さ測定にも対応できる表面高さ検出方法および装置を提供すること。 - 特許庁