「surface steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of semiconductor device comprises steps of: forming a porous insulating film 54 on a semiconductor substrate 10; and forming a dense layer 56 having higher density than that of the porous insulating film on the front surface of the porous insulating film 54, by conducting the process to give higher density to the front surface of the porous insulating film.例文帳に追加

半導体基板１０上に多孔質絶縁膜５４を形成する工程と、多孔質絶縁膜の表層部を緻密化する緻密化処理を行うことにより、多孔質絶縁膜５４の表層部に、多孔質絶縁膜より密度の高い緻密層５６を形成する工程とを有している。 - 特許庁

The method of manufacturing a printed circuit board includes steps of: forming the surface roughness of an insulating layer; applying a compound that reduces the surface energy of the insulating layer to the insulating layer; and forming a circuit pattern in the insulating layer to which the compound is applied by the inkjet method.例文帳に追加

本発明に係る印刷回路基板の製造方法は、絶縁層の表面粗さを形成する工程と、絶縁層に絶縁層の表面エネルギーを低減させる化合物を塗布する工程と、化合物が塗布された絶縁層にインクジェット方式で回路パターンを形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In steps S5-S16, the 3D surface data to be used are selected based on an observation position designated by user operation and the viewpoints of the said plural subjects and while using the selected 3D surface data, the 3D image corresponding to the viewpoint of that observation position is generated and displayed.例文帳に追加

そして、ステップＳ５〜ステップＳ１６では、ユーザ操作によって指定された観察位置と、上記複数の被写体画像の視点とに基づいて使用すべき３次元表面データを選択し、選択された３次元表面データを用いて当該観察位置の視点に対応する３次元画像を生成、表示する。 - 特許庁

The method comprises the steps of forming a strained Ge-containing layer on the front surface of an Si-containing substrate, implanting ions into the interface of the Ge-containing layer/the Si-containing substrate or under the interface, and forming the substantially-relaxed SiGe alloy layer, in which the flat surface defect density is decreased.例文帳に追加

本発明の方法は、Ｓｉ含有基板の表面上に歪みＧｅ含有層を形成するステップと、Ｇｅ含有層／Ｓｉ含有基板の界面にまたは界面の下にイオンを注入するステップと、加熱を行って、平面欠陥密度が低下した、実質的に緩和したＳｉＧｅ合金層を形成するステップと、を含む。 - 特許庁

The method for producing the thin film comprises the steps of: introducing hydrogen into a silicon substrate; heating the silicon substrate so that the surface temperature of the silicon substrate becomes 350°C to 500°C; spraying a solution containing the raw material of the thin film onto the surface of the silicon substrate of 350°C to 500°C.例文帳に追加

シリコン基板に水素を導入する工程と、シリコン基板の表面温度が３５０℃以上５００℃以下となるようにシリコン基板を加熱する工程と、３５０℃以上５００℃以下のシリコン基板の表面に薄膜の原料を含む溶液を噴霧する工程とを含む薄膜の製造方法である。 - 特許庁

The method for bonding the electronic component for bonding the component by pressing with ultrasonic vibration comprises the steps of detecting a change of impedance of a vibrator 20 prior to bonding to detect a contact with a reference surface 3a, and detecting the worm amount of a bonding tool with a contact surface of the component from the detected result.例文帳に追加

加圧と超音波振動により電子部品をボンディングする電子部品のボンディング方法において、ボンディングに先立って振動子２０のインピーダンスの変化を検出することによって基準面３ａとの当接を検出し、この当接検出結果からボンディングツールの電子部品との当接面の摩耗量を検出する。 - 特許庁

A horizontal face is formed in a container 13 toward outside from the boundary of the rim of a work 15 so as to keep the surface of the work 15 and the surface of the container 13 with no step between them or intentionally keeping steps between them while the work 15 being set in the container 13.例文帳に追加

ワーク１５が容器１３内に載置された状態で、ワーク１５の表面と容器１３の表面とが段差なく、又は意図的に段差を設けて、ワーク１５表面の端縁境界を拡大することが可能なように、容器１３にはワーク１５の端縁境界から外側に向かって水平面が形成されている。 - 特許庁

The method comprises steps of forming an insulation film 22 on the surface of an epitaxial substrate 20 using an SiC substrate as an original substrate, coating the SiC substrate surface on the backside with a high heat-resistive material 23 such as spion glass, sintering it at about 500°C, polishing it by CMP, etc. to planarize, and removing the insulation film 22.例文帳に追加

ＳｉＣ基板を元基板とするエピタキシャル基板２０の表面に絶縁膜２２を形成し、次に、裏面のＳｉＣ基板面にスピオングラス等の高耐熱材料２３を塗布し、約５００℃で焼結した後、ＣＭＰ等で研磨して平坦化し、絶縁膜２２を除去する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method for charging a paste comprises the steps of fixing a film 3 formed with recess pattern grooves 4 on its surface onto a stage 2, then filling the paste 5 in the grooves 4 of the film 3 and thereafter sliding a squeegee 6 on the surface of the film 3 in a state in which the squeegee 6 is inclined to the grooves 4.例文帳に追加

そしてこの目的を達成するために本発明は表面に凹状のパターン溝４を形成したフィルム３をステージ２上に固定し、次に前記フィルム３のパターン溝４内にペースト５を充填し、その後前記フィルム３表面上に前記パターン溝４に対して傾斜した状態でスキージ６を摺動させるものである。 - 特許庁

The method for cutting the green sheet comprises the steps of bringing saw shape teeth 46a formed on a cutting blade 46 into contact with a surface of the green sheet 22 substantially perpendicularly, moving the blade 46 substantially perpendicularly to the surface of the sheet 22 in a direction for passing the front and rear surfaces of the sheet 22 at the teeth 46a, and cutting the sheet 22.例文帳に追加

切断ブレード４６に形成された鋸形状歯４６ａを、グリーンシート２２の表面に対して略垂直に当て、鋸形状歯４６ａがグリーンシート２２の表裏面を貫通する方向に、切断ブレード４６を、グリーンシート２２の表面に対して略垂直に移動させ、グリーンシート２２を切断する。 - 特許庁

The treatment method for the surface of the hot-dip zinc plating comprises steps of immersing the surface in a sulfuric acid solution and rinsing, immersing it in a potassium permanganate solution and rinsing, then subjecting it to chromate treatment and rinsing, and drying after applying a water-borne acrylic paint by dipping.例文帳に追加

溶融亜鉛メッキ面の処理方法として、硫酸水溶液浸漬処理を施し、水洗する工程、その後、過マンガン酸カリウム水溶液に浸漬処理を施し、水洗する工程、その後、クロム酸処理を施し、水洗する工程、及び水系アクリル樹脂塗料浸漬塗装した後、乾燥する工程からなる、溶融亜鉛メッキの処理方法。 - 特許庁

This method for producing a composite resin material composed of at least a resin and an inorganic particle comprises the steps of coating the surface of an inorganic particle with a silane coupling agent and heat-treating the coated inorganic particle with microwaves in advance, and mixing and dispersing the surface-treated inorganic particle with a resin.例文帳に追加

少なくとも樹脂と無機粒子とから構成される複合樹脂材料の製造方法であって、予め無機粒子表面をシランカップリング剤でコートし、且つマイクロ波による加熱処理を施した後、該表面処理された無機粒子を樹脂と混合、分散することを特徴とする複合樹脂材料の製造方法。 - 特許庁

The forming method of the conductive pattern 4 includes the steps of: forming the porous receiving layer 2 containing the pseudo boehmite on the substrate 1; forming the porous surface layer 3 containing the inorganic particles on the porous receiving layer 2; and providing liquid containing a conductive material onto the porous surface layer 3.例文帳に追加

導電パターン４の形成方法は、基板１上に擬ベーマイトを含有する多孔質受容層２を形成する工程と、多孔質受容層２上に無機粒子を含有する多孔質表面層３を形成する工程と、多孔質表面層３上に導電性材料を含有する液体を設ける工程とを有する。 - 特許庁

A method for manufacturing the wooden floor material includes the steps of: forming a moistureproof layer so as to form the moistureproof layer 3 having the plurality of vent holes 3a in the surface of the wooden base material 1; and thermally pressure welding the decorative material 2 to the surface of the wooden base material 1 having the moistureproof layer 3 with the aqueous adhesive.例文帳に追加

木質床材の製造方法は、木質基材１の表面に複数の通気孔３ａを設けた防湿層３を形成する防湿層形成工程と、防湿層３を形成した木質基材１の表面に化粧材２を水性の接着剤にて熱圧接着する工程とを有する。 - 特許庁

There are provided steps of providing a dielectric layer 23 and a wiring layer on a surface of a support 20 to form an intermediate body, removing the support from the intermediate body to obtain a wiring board, and carrying out a roughening treatment over a surface 20a of the support 20 before the intermediate body forming step.例文帳に追加

支持体２０の表面に誘電体層２３と配線層とを積層し、中間体を形成する工程と、該中間体から支持体を除去し、配線基板を得る工程と、から成り、前記中間体形成工程の前に、前記支持２０の表面２０ａに粗化処理を施しておくことを特徴とする。 - 特許庁

An ink ejection method includes steps of filling the ink chamber with ink, generating pressure waves in the ink by irradiating the ink in the ink chamber with laser beam so as to cause the ink surface to oscillate by the pressure waves, and ejecting ink droplets from the ink surface by the oscillation.例文帳に追加

また、インクチャンバ内部にインクが満たされる段階と、インクチャンバ内部のインクにレーザービームを照射してインク内に圧力波を発生させ、その圧力波によりインク表面を振動させる段階と、振動によりインク表面からインク液滴が吐出される段階と、を具備するインク吐出方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the optical module includes the steps of first etching to form at least one or more grooves on the first surface of a wafer, and second etching to form at least one or more stopper holes so that the wafer is etched so as to penetrate from the second surface of the wafer.例文帳に追加

光学モジュールの製造方法は、ウェーハの第１面に少なくとも１つ以上の溝を形成する第１エッチング段階と、前記ウェーハの第２面から前記ウェーハが貫通するようにエッチングして少なくとも１つ以上のストッパホールを形成する第２エッチング段階とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The steps of degreasing the surface of the pressure plate by the superheated steam and of producing an oxide film are carried out at 250-800°C in an atmosphere of superheated steam for a time of 15-60 minutes, and the step of applying is preferably performed at the surface temperature of the pressure plate being the range of 120-170°C.例文帳に追加

前記過熱蒸気によりプレッシャプレート表面の脱脂を行うと共に酸化皮膜を生成する工程は、過熱蒸気雰囲気下に温度２５０〜８００℃、時間１５〜６０分の範囲で行うこと、及び前記塗布する工程は、プレッシャプレートの表面温度が１２０〜１７０℃の範囲で行うことが好ましい。 - 特許庁

A method for manufacturing the metallic thin film transfer film comprises the steps of: partly forming the mold release layer on the plastic film; forming the metallic thin film on the overall surface of the plastic film in which the mold release layer is formed; and exposing the metallic thin film surface to an atmosphere of a plasma gas made of a hydrocarbon.例文帳に追加

また、プラスチックフィルムの上に部分的に離型層を形成し、該プラスチックフィルムの離型層が形成された面に金属薄膜を全面に形成し、該金属薄膜面を炭化水素からなるガスをプラズマ化した雰囲気に曝すことを特徴とする金属薄膜転写フィルムの製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing a thermosetting resin molding comprises the steps of subjecting a surface of a recess of a mold to glaze- coating molding, supplying the molding obtained in the previous step to a protrusion mold 8 by reversing the molding upside down and subjecting a surface of a protrusion of the molding to glaze coating.例文帳に追加

この熱硬化性樹脂成形品の製造方法は、成形品の凹型の表面にグレーズコーティング成形を行う工程と、前記工程で得られた成形品をその上下を反転して凸金型８に供給する工程と、前記成形品の凸型の表面にグレーズコーティング成形を行う工程とを具備する。 - 特許庁

The outer peripheral part of the lens base material is worked into a prescribed shape by cutting (outer fairing process; step 32), thereafter, cut edge faces are polished up to the same extent as lens surface (polishing process; step 33) and the primer layer or the hard coat layer is formed on the surface of the lens base material (layer formation process; steps 34, 35).例文帳に追加

レンズ基材の外周部を切削により所定形状に切り出した（外整工程、ステップ３２）後、切削されたコバ面をレンズ表面と同程度まで研磨し（研磨工程、ステップ３３）、レンズ基材の表面にプライマー層またはハードコート層を形成する（層形成工程、ステップ３４および３５）。 - 特許庁

To provide a concrete uneven step casting method and a concrete uneven step casting device capable of finishing the upper surface and the lower surface of an uneven step with a high degree of accuracy by a simple execution method without being required for skill when the uneven step or a groove having uneven steps on both sides and a stair as a continuous body of the uneven step are formed by placing concrete.例文帳に追加

段差或いは両側に段差を有する溝、さらには段差の連続体である階段をコンクリート打ちで造成する際に、熟練を必要としない簡単な施工法で、段差の上面と下面と側面とを高精度に仕上げることができるコンクリート段差打ち工法及びコンクリート段差打ち具を提供する。 - 特許庁

The method for producing the dielectric laminate comprises the steps of: forming a polysilazane-containing solution layer on the surface of the dielectric; scattering the catalyst particle in the polysilazane-containing solution layer to form a catalyst particle layer; solidifying the resulting polysilazane-containing solution layer to bond/fix the catalyst particle layer to the surface of the dielectric.例文帳に追加

誘電体表面にポリシラザン類含有溶液層を形成し、該溶液層が固化する前に溶液層に触媒粒子を散布して触媒粒子層を形成した後、該溶液層を固化して、誘電体表面に触媒粒子層を結合・固定化することを特徴とする誘電積層体の製造方法。 - 特許庁

To provide a frequency adjusting method of a quartz resonator, using carbon dioxide gas snow and an electrode surface smoothing method which are capable of solving the problem of an expensive vacuum deposition device being required, many steps being required to maintain the device and the cost of the steps being raised in a frequency-adjusting method of a quartz resonator using the vacuum deposition device.例文帳に追加

本発明の目的は真空蒸着装置を用いた水晶振動子の周波数調整の方法ではコストの高い真空蒸着装置を必要とし、またそのメインテナンスに工数を要し工数のコストも高くなるといった問題を解決する炭酸ガススノーを用いた水晶振動子の周波数調整方法及び電極表面平滑方法を提供することである。 - 特許庁

The button is obtained through the following steps: a step of pretreating the surface of a base material of the button for at least electroless plating: a step of forming a mirror coating by spraying a plating liquid; and a step of providing a top coat layer on the mirror coating.例文帳に追加

ボタンの基材の表面に、少なくとも無電解めっきの前処理をする工程と、銀鏡用めっき液を吹き付けて銀鏡皮膜を形成する工程と、銀鏡皮膜上にトップコート層を設ける工程を経て得ることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a wiring structure of electric wire which can constrain cost increase, without decreasing the adhesion of a weather strip to a surface adhering to the weather strip, even when the wiring path of an electric wire steps over the weather strip.例文帳に追加

電線の配索経路がウェザーストリップを跨ぐ配索経路である場合にも、ウェザーストリップとこのウェザーストリップに密着する密着面との密着性を低下させることなく、コストアップを抑えることができる電線の配索構造を提供する。 - 特許庁

The pipe joint body 10 has an insertion hole 11 for a pipe 70 and a pipe retainer 30 is engaged on its outer peripheral surface in two steps or at a temporary fixation position for allowing insertion and disconnection of the pipe 70 and at a lock position for locking the pipe 70 against disconnection.例文帳に追加

管継手本体１０はパイプ７０に対する挿入孔１１を備えるとともに、その外周面にはパイプリテーナ３０が２段階、すなわち、パイプ７０の挿抜を許容する仮止め位置と、パイプ７０を抜止めするロック位置で係止される。 - 特許庁

The method comprises the steps of forming a bump 3 on a surface on which a semiconductor chip 5 is to be joined thereto, subjecting the bump 3 to a levelling process, mounting the semiconductor chip 5 on a bump 3' subjected to the levelling process, and joining the bump 3' to the semiconductor chip 5.例文帳に追加

半導体チップ５を接合する面に、バンプ３を形成する工程と、バンプ３をレベリングする工程と、レベリングされたバンプ３’上に、半導体チップ５を搭載する工程と、バンプ３’及び半導体チップ５を接合する工程を備える。 - 特許庁

The method further comprises the steps of calculating the height of the object from the relationship between the slit light reflected image of each image and the slit light reflected reference image formed on the reference surface to be measured, and processing the three-dimensional image to recognize the height side of the object.例文帳に追加

各画像におけるスリット光反射像とスリット光が測定基準面上につくるスリット光反射基準像との関係から物体の高さが算出され、物体の高さ寸法を認識する３次元画像処理が行なわれる。 - 特許庁

The method for manufacturing the screen printing plate 12 comprises the steps of setting the screen fabric 1 to a fabric tensioning machine 2 having an infrared heater 7 by using the machine 2, placing the heater 7 on an upper surface of the fabric 1, and tensioning the fabric in four directions while heating the fabric 1.例文帳に追加

赤外線加熱具７を備えた紗張り機２を用い、該紗張り機２にスクリーン紗１をセットし、該スクリーン紗１の上面に赤外線加熱具７を載せて赤外線によりスクリーン紗１を加熱しながら四方向に引っ張る。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device mounter includes the steps of applying a solder resist to the surface of the wiring board which carries a semiconductor chip in the wiring board, removing the solder resist at a connecting part with the semiconductor chip, and leaving as an upheaval part of the shape which continues along with at least the outer edge of the semiconductor chip.例文帳に追加

記配線基板で半導体チップを搭載する面にソルダーレジストを塗布し、そのソルダーレジストを半導体チップとの接続部では除去し、少なくとも半導体チップの外縁に沿って連続した形状の隆起部として残す。 - 特許庁

In the method for producing an optical multilayer film having spacer layers 30 and mirror layers 20 alternately deposited on the surface of a substrate 10, layers having predetermined thickness or larger of the spacer layers 30 are deposited in a plurality of times of film depositing steps.例文帳に追加

基板１０の表面にスペーサ層３０とミラー層２０とを交互に積層してなる光学多層膜の作成方法において、スペーサ層３０のうち所定値以上の厚さを有する層を複数回の成膜工程を経て形成するようにした。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes the steps of adding a rare gas to the semiconductor film formed on the surface of an insulator by using an ion doping method, and irradiating the semiconductor film in which the rare gas is added with a laser beam of a pulse oscillation in a rare gas atmosphere.例文帳に追加

絶縁表面上に形成された半導体膜に、イオンドーピング法を用いて希ガスを添加し、希ガスの雰囲気下において、希ガスが添加された半導体膜にパルス発振のレーザ光を照射することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the transparent embossed film by shaping includes the steps of: spraying fine particles onto a transparent base film having dried paste sprayed on one surface; burying a part of the fine particles; and sublimating the fine particles.例文帳に追加

片面にペーストを塗布し乾燥した透明基材フィルムに、微粒子を散布する工程と、前記微粒子の一部を埋没させる工程と、前記微粒子を昇華させる工程とを含む、賦型による透明凹凸加工フィルムの製造方法。 - 特許庁

The method for forming a label on an object comprises steps of coating a surface of the object with optically variable ink and of bonding a patterned structure to the object with a light transmitting adhesive over the optically variable ink.例文帳に追加

物体の表面を光学的可変インクでコーティングするステップと、パターン化された構造を光学的可変インクの上から光透過接着剤を使用して物体に結合するステップとを含む、物体の上にラベルを形成する方法が提供される。 - 特許庁

The method for forming the zinc oxide film on the surface of the substrate comprises the steps of: evaporating a raw material containing dimethylzinc or diethylzinc dissolved in an organic solvent; supplying the gas to a CVD apparatus; and simultaneously supplying a gas containing an oxidizing gas to the CVD apparatus.例文帳に追加

ジメチル亜鉛またはジエチル亜鉛を有機溶媒に溶解させた原料を、気化させてＣＶＤ装置に供給するとともに、酸化剤ガスを含むガスをＣＶＤ装置に供給して、基板の表面に酸化亜鉛膜を形成させる。 - 特許庁

The method of manufacturing the negative electrode for the lithium ion secondary battery includes the steps of: applying a mixture containing a negative electrode active material precursor and a thermosetting resin precursor to a surface of a collector; and heat-treating an obtained film.例文帳に追加

本発明のリチウムイオン二次電池用負極の製造方法は、負極活物質前駆体と熱硬化性樹脂前駆体とを含む混合物を集電体の表面に塗布する工程と、得られた塗膜を熱処理する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a measures for reducing polish-caused defects for obtaining a semiconductor wafer having high surface quality adaptable to high integration of a device, in a method of manufacturing a semiconductor wafer including a polishing step having a plurality of steps.例文帳に追加

複数段の研磨工程を備える半導体ウェーハの製造方法において、デバイスの高集積化に適応し得る高い表面品質を有する半導体ウェーハを得るために研磨起因欠陥を低減するための手段を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a single-crystal 3C-SiC substrate with which it is possible to greatly reduce surface defects generated during epitaxial growth process and thereby simplify subsequent steps while ensuring quality as a semiconductor device.例文帳に追加

エピタキシャル成長過程において発生する表面欠陥を大幅に減少させることができ、後工程を簡略化しながら半導体デバイスとしての品質を確保できる単結晶３Ｃ−ＳｉＣ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treating method for forming ideal irregularities for antiglaringness on a substrate without passing through complicated steps, a method for forming an antiglare layer, to prepare an antiglare layer film having the formed antiglare layer, and an antiglare low reflective film.例文帳に追加

煩雑な工程を経ることなく、基材上に防眩性に対して理想的な凹凸を形成する表面処理方法、防眩層の形成方法、形成された防眩層を有する防眩層フィルム及び防眩性低反射フィルムを提供する。 - 特許庁

One of a plurality of securing holes made on the outside surface of the first split feet 40 are selected appropriately, and a locking screw is screw-fastened to the second split feet 45 through the securing hole, so that the length of the feet 30 can be adjusted to a plurality of steps.例文帳に追加

そして、第１の分割足４０の外側面に設ける複数の取付穴の１つを適宜選択してその取付穴に止めねじを第２の分割足４５にねじ付けるようにし、足３０の長さを複数段に調整可能とする。 - 特許庁

The stereo lithography capable of reducing the warp comprises the steps of forming an adhesive layer on an upper surface of a plate for manufacturing a stereo lithographic product, and then manufacturing the product on the adhesive layer, and the resin mold is made by stereo lithography.例文帳に追加

光造形法において、光造形物を作製するプレート上面に接着層を形成した後、該接着層上に光造形物を作製することを特徴とする反りを低減可能な光造形法および該作製法からなる樹脂型。 - 特許庁

To provide a wet type friction material having reliably improved friction property by precisely forming grooves as oil grooves in the surface of a base material for the friction material similarly to the case of forming oil grooves with pressing work while reducing pressing steps.例文帳に追加

湿式摩擦材において、プレス工程を削減しつつプレスで油溝を形成した場合と同様に摩擦材基材の表面に油溝となる溝を、より精度良く形成することによって、確実に優れた摩擦特性を得ることができること。 - 特許庁

Then, the method successively carries out the steps, without being exposed to air, of nitrifying the surface of the crystalline semiconductor film to form a first silicon nitride film and of forming a second silicon nitride film over the first silicon nitride film.例文帳に追加

次に結晶性半導体膜の表面を窒化して第１の窒化珪素膜を形成する工程と、前記第１の窒化珪素膜上に第２の窒化珪素膜を形成する工程と、を大気に曝すことなく連続的に行うことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminate comprises the steps of: treating the base material with plasma under atmospheric pressure; forming the layer comprising the minute cellulose having the carboxyl group on the treated surface of the base material by a coating method; and layering the thermoplastic resin layer on the minute cellulose layer.例文帳に追加

基材を大気圧下でプラズマ処理する工程と、その処理面にカルボキシル基を有する微細セルロース層をコーティングする工程と、その微細セルロース層上に熱可塑性樹脂層を積層する工程とを具備する積層体の製造方法。 - 特許庁