「surface steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

This method for manufacturing a metal container 1 printed with a foamable ink comprises the steps to print a release-proof ground ink or a varnish 2 on the surface of the metal container 1, print a pattern with an ink or a varnish 4 containing a foamable microcapsule 3 and print a top coat layer 5 on the in or the varnish 4 to expand the foamable microcapsule 3.例文帳に追加

金属容器１の表面に、剥離防止のための下地インキ又はニス２を印刷し、次に、発泡性マイクロカプセル３を含有するインキ又はニス４で模様を印刷し、次に、このインキ又はニス４の上に、トップコート層５を形成した後、発泡性マイクロカプセル３を発泡させることを特徴とする発泡性インキを印刷した金属容器の製造方法である。 - 特許庁

The method for evaluating an octahedral void of a silicon wafer detected as a light scattering body using a light scattering type surface inspection apparatus sequentially and repeatedly performs steps of a) detecting the light scattering body on the silicon wafer, b) forming an oxide film on the silicon wafer, and c) removing the oxide film on the silicon wafer by an acid etching treatment.例文帳に追加

光散乱式表面検査装置を用いて、光散乱体として検出するシリコンウエハの八面体ボイドの評価方法において、ａ）前記シリコンウエハ表面の光散乱体を検出する工程、ｂ）前記シリコンウエハ表面に酸化膜を形成する工程、ｃ）前記シリコンウエハ表面の酸化膜を、酸系エッチング処理により除去する工程の各工程を順次繰り返し行う。 - 特許庁

The other objective method for producing a flexible board is characterized by comprising the following consecutive steps: a plastic film is laminated with a conductive metallic thin film using the adhesive composition; a specified resist pattern is formed on the surface of the metallic thin film; non-line-drawn parts are etched; and the laminate is irradiated with active energy rays to cure the adhesive composition layer.例文帳に追加

第二の構成は、該接着剤組成物を用いて、導電性金属薄膜とプラスチックフイルムをラミネートする工程、金属薄膜面に所定のレジストパターンを形成する工程、非画線部をエッチングする工程及び活性エネルギー線を照射して接着剤組成物層を硬化させる工程をこの順に有することを特徴とするフレキシブル基板の製造方法。 - 特許庁

The surface modifying method comprises the steps of: applying a coating liquid which comprises a polymer having a functional group capable of producing a silanol group by hydrolysis and alkoxysilane, to the material; and applying another coating liquid which comprises a hydrophilizing agent having the functional group capable of producing the silanol group by hydrolysis or a silanol group, to the coating liquid-applied material.例文帳に追加

表面改質方法は、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基を有するポリマーと、アルコキシシランを含有する塗布液を材料に塗布する工程と、塗布液が塗布された材料に、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基又はシラノール基を有する親水化剤を含有する塗布液を塗布する工程を有する。 - 特許庁

A method for laser-aid working comprises the steps of converging and irradiating laser beams 2 to the material 1 to be worked and made of a transparent material, scanning the irradiating positions of the beams 2 in the material 1 by including at least one position disposed on the surface of the material 1, and removing the part irradiated with the beam 2 of the material 1 by etching to form the holes.例文帳に追加

透明材料からなる被加工材料１に対し、レーザビーム２を集光して照射し、このレーザビーム２の照射位置を被加工材料１内において、少なくとも１箇所は被加工材料１の表面上である位置を含めて走査させ、この被加工材料１のレーザビーム２が照射された部分を、エッチング処理により取り除き、孔を形成する。 - 特許庁

The method for etching a silicon semiconductor wafer, after lapping with use of a chemical includes steps of filling an etching bath with an alkali chemical including caustic soda (NaOH) and caustic potash (KOH), immersing the silicon semiconductor wafer into the alkali chemical, alkali etching the surface of the silicon semiconductor wafer to make the thickness 30 μm or less, and treating the wafer with an acid chemical, prior to the alkali etching step.例文帳に追加

ラッピング後のシリコン半導体ウェーハを薬液によりエッチングする方法において、エッチング槽内に苛性ソーダ（ＮａＯＨ）及び苛性カリ（ＫＯＨ）からなるアルカリ薬液を満たし、シリコン半導体ウェーハをそのアルカリ薬液に浸漬し、シリコン半導体ウェーハの表面を３０μｍ以下アルカリエッチングし、しかも、そのアルカリエッチングの処理前に酸薬液で酸処理する。 - 特許庁

The method includes steps of: activating a vertical alignment region A1; forming long-chain alkyl chains in the vertical alignment region A1 to obtain a vertical alignment layer 41; forming short-chain alkyl chains in a horizontal alignment region A2 to obtain a horizontal alignment layer 42; and rubbing the surface in a given orientation direction where the long-chain alkyl chains and the short-chain alkyl chains are formed.例文帳に追加

垂直配向領域Ａ１を活性化する工程と、垂直配向領域Ａ１に長鎖アルキル鎖を形成して垂直配向膜４１とする工程と、水平配向領域Ａ２に短鎖アルキル鎖を形成して水平配向膜４２とする工程と、長鎖アルキル鎖及び短鎖アルキル鎖が形成された面を一定方位方向にラビング処理する工程とを有する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes steps of forming a photoresist pattern from a resist film with exposure and development, swelling a resist insoluble layer formed on the front surface of the photoresist pattern with the vapor of resist solvent sprayed from a nozzle 12 within the thermal flow apparatus 10, and shrinking the photoresist pattern attained by swelling the resist insoluble layer by heating the same pattern with a hot plate 11 for thermal flow.例文帳に追加

レジストパターン形成方法は、露光及び現像により、レジスト膜からフォトレジストパターンを形成する工程と、サーマルフロー装置１０内で、フォトレジストパターンの表面に形成されたレジスト難溶化層を、ノズル１２から噴霧するレジスト溶剤の蒸気で膨潤させる工程と、レジスト難溶化層を膨潤させたフォトレジストパターンを、ホットプレート１１で加熱し、サーマルフローさせてシュリンクする工程とを有する。 - 特許庁

The manufacture of this ceramic manifold for a solid electrolyte type fuel cell comprises such steps as manufacturing a dispersion liquid by adding a dispersion medium to a powder of castable fire-resistant material, pouring the dispersion liquid in a die having a specific shape for molding, heat treating the material upon taking out of the die, subjecting it to a surface treatment using ceramic sol, and a step to dry.例文帳に追加

また、本発明は、キャスタブル耐火物の粉体に分散媒を添加し分散液を製造するステップと、該分散液を所定形状の型に流し込んで成形するステップと、該型から取り出して熱処理するステップと、セラミックスのゾルを用いて表面処理を施すステップと、乾燥ステップとを含む固定電解質型燃料電池用セラミックスマニホールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for immobilizing the biomolecule on the solid substrate includes steps of coating the solid substrate with silane anhydride to introduce an anhydride functional group onto the surface of the solid substrate; obtaining a carboxyl group from the anhydride functional group by hydrolysis; reacting the carboxyl group with carbodiimide and succinimide to activate the carboxyl group; and contacting the biomolecule with the solid substrate having the activated carboxyl group on its surface to immobilize the biomolecule on the solid substrate.例文帳に追加

固体支持体をシラン無水物でコーティングして前記固体支持体表面に無水物官能基を導入する段階と、前記無水物官能基を加水分解させて、カルボキシル基にする段階と、前記カルボキシル基をカルボジイミド及びコハク酸イミドと反応させて、前記カルボキシル基を活性化する段階と、前記活性化されたカルボキシル基を有する固体支持体と生体分子とを接触させて前記生体分子を前記固体支持体上に固定させる段階と、を含む生体分子を固体支持体上に固定させる方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of an electron emitting element having a cathode substrate and an anode substrate disposed in a vacuum via a spacer and an electron emitting source formed on the cathode substrate includes the steps of applying active treatment to a surface of the electron emitting source and burning the electron emitting source in a temperature range of 400 to 500°C after the activation treatment.例文帳に追加

真空中でスペーサーを介して配置されたカソード基板とアノード基板、前記カソード基板に形成された電子放出源とを備える電子放出素子において、前記電子放出源の表面を活性化処理する工程と、前記活性化処理の後に前記電子放出源を４００〜５００℃の温度範囲で焼成する工程を含むことを特徴とする電子放出素子の製造方法。 - 特許庁

The method further comprises the steps of forming a plurality of linear grooves Z continued in a longitudinal direction on one side surface of the material 1 for constituting an inner wall of the tube 10, and then bending the tube in a cylindrical state.例文帳に追加

長尺シート形態の管素材１をシート幅方向の両端部１ａが突合わさるように湾曲させ、その突合わせ部分を加熱して継ぎ目を熱溶着させるようにした管１０の連続製造方法において、管１０の内壁を構成する管素材１の片面に長さ方向に連続する線状の溝Ｚを複数本形成してから筒状に湾曲させるようにした管１０の連続製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a thermoplastic resin foam comprises the steps of applying a temperature, time and pressure necessary to maximize number of foam nuclei in a thermoplastic resin foamable sheet containing a thermal decomposition type foaming agent to foam the sheet in its thickness direction while regulating foaming in an inner surface direction, then opening the pressure to an ordinary pressure, and then heating the sheet to foam it in the thickness direction.例文帳に追加

熱分解型発泡剤を含有している熱可塑性樹脂発泡性シートを、面内方向の発泡を規制しつつ厚み方向に発泡させるにあたり、熱可塑性樹脂発泡性シートにおける気泡核数を最大とするのに必要な温度、時間及び圧力を加えた後圧力を常圧まで開放し、次にシートを加熱することにより厚み方向に発泡させる、熱可塑性樹脂発泡体の製造方法。 - 特許庁

The junction structure 140 is manufactured by the steps of: forming a thin film on a junction surface of a first substrate 120 by an ambient pressure associated beforehand with a preset warp shape so that the first substrate 120 has the preset warp shape; and joining the first substrate 120 where the thin film is formed and a second substrate 110 by compression by means of adhesive materials 113 and 122.例文帳に追加

第１基板１２０が予め設定された設定反り形状となるように、設定反り形状と予め対応付けられた雰囲気圧力にて、薄膜を第１基板１２０の接合面に形成する薄膜形成工程と、薄膜が形成された第１基板１２０と、第２基板１１０と、を接着材１１３，１２２を介し、挟圧して接合する接合工程と、により接合体１４０を製造するようにした。 - 特許庁

This method comprises the steps of a first step for forming a hydrosol containing a semiconductive nano-crystal and/or a precursor thereof, and a second step for bringing the hydrosol into contact with an organic phase containing an oil-soluble surface-modifying molecule having bondability to the semiconductive nano-crystal and/or a precursor thereof to extract the semiconductive nano-crystal and/or a precursor thereof into the organic phase.例文帳に追加

半導体ナノ結晶及び／又はその前駆体を含有するヒドロゾルを生成させる第１工程、及び該半導体ナノ結晶及び／又はその前駆体への結合性を有する脂溶性表面修飾分子を含有する有機相と該ヒドロゾルとを接触させて該半導体ナノ結晶及び／又はその前駆体を有機相へ抽出する第２工程を含む半導体ナノ粒子の製造方法。 - 特許庁

The LED light emitter is manufactured in steps of preparing a board on which an LED chip is fixed to a metallic pattern, fixing the board to a mold to form a space for charging a resin into the board, removing the mold to form a reflective layer on the formed surface of a sealing resin, and forming a light releasing face by dicing while forming the LED light emitter simultaneously.例文帳に追加

ＬＥＤチップが金属パターン上に固定された基板を準備する工程と、前記基板を金型に固定して空間を形成し、該空間に樹脂を充填する工程と、前記金型を取り除いた後に、形成された封止樹脂表面に反射層を形成する工程と、ダイシングにより光放出面を形成しながら同時にＬＥＤ発光装置を同時に形成する工程でＬＥＤ発光装置を製造する。 - 特許庁

This method of forming a multi-layered membrane comprises the steps in order of affording water repellency to the surface of glass 1 by applying a water repellent agent, forming a first membrane 2 on the water repellent treated glass using a solution comprising a non-volatile component having hydrophilic part and hydrophobic part, and forming a second membrane 3 on the first membrane using a solution comprising a polar solvent.例文帳に追加

ガラス１表面を疎水化剤により疎水化処理する疎水化工程、表面が疎水化処理された上記ガラス上に、親水性部分および疎水性部分を有する不揮発分を含む溶液を用いて第１の膜２を形成する第１膜形成工程、並びに第１の膜上に極性溶剤を含む溶液を用いて第２の膜３を形成する第２膜形成工程を順に施す。 - 特許庁

The method for producing a vinylpyrrolidone-based polymer powder comprises the steps of: drying a vinylpyrrolidone-based polymer solution with a heating surface adhesion-type dryer to obtain a dried vinylpyrrolidone-based polymer; coarsely crushing the dried vinylpyrrolidone-based polymer under a temperature of 40 to 100°C and transporting the crushed polymer to a grinder under the same temperature; and grinding the crushed dried vinylpyrrolidone-based polymer.例文帳に追加

ビニルピロリドン系重合体溶液を加熱面密着型乾燥機で乾燥させてビニルピロリドン系重合体乾燥物を得る工程と、該ビニルピロリドン系重合体乾燥物を４０〜１００℃の温度条件下で粗砕し、同様の温度条件下で粉砕機に移送する工程と、該粗砕されたビニルピロリドン系重合体乾燥物を粉砕する工程とを含む、ビニルピロリドン系重合体粉体の製造方法。 - 特許庁

Upon forming a plurality of elements on a semiconductor substrate 1 with a circular substrate surface by implementing a plurality of steps including at least an epitaxial growth step and a device step thereafter, a laser mark 2 is formed at a reference position of mask alignment in the device step before the epitaxial growth step, and the mask alignment is performed taking the laser mark 2 as a reference in the device step after the epitaxial growth step.例文帳に追加

基板面が円形の半導体基板１に、少なくともエピタキシャル成長工程とその後のデバイス工程を含む複数の工程を行って複数の素子を形成する際に、エピタキシャル成長工程以前に、デバイス工程でのマスク位置合わせの基準位置にレーザマーク２を施しておき、該エピタキシャル成長工程後のデバイス工程でそのレーザマーク２を基準としてマスク位置合わせをする。 - 特許庁

The manufacturing method for the aerosol product for normally standing spray comprises steps of filling the skin treatment agent containing an antibacterial agent and a blood circulation accelerator in the barrel of an aerosol container formed with a coating film of an epoxy polyimide based resin on the internal surface, tightening and sealing a valve including a polyethylene tube onto the mouth of the barrel to provide an aerosol container, and then filling carbon dioxide into the container through the valve.例文帳に追加

エポキシポリイミド系樹脂のコーティング膜が内面に形成されたエアゾール容器用缶胴内に抗菌剤及び血行促進剤を含む皮膚処理剤を充填し、次いで該缶胴の口部に、ポリエチレン製のチューブを備えたバルブを締結密封してエアゾール容器となし、然る後、該バルブを通じて該容器内に二酸化炭素を充填する、皮膚処理剤入り正立噴射用エアゾール製品の製造方法。 - 特許庁

The method of correcting the transmissivity of a photomask includes steps of: doping a front surface of the transparent substrate 205 with impurity ions; forming a photoresist pattern on a semiconductor substrate and measuring critical dimensions of the photoresist pattern; and doping the entire region or a partial region of the corresponding photomask 200 with impurity ions so as to improve the dispersion of the critical dimensions or to make the average of the critical dimensions closer to the target critical dimension.例文帳に追加

また、透明基板２０５の前面に不純物イオンをドーピングするステップと、半導体基板上にフォトレジストパターンを形成して臨界寸法を測定した後、その分散を改善させるか、または臨界寸法の平均値を目標臨界寸法に合わせるために、対応するフォトマスク２００の全体または一部領域に不純物イオンをドーピングするステップと、を含むフォトマスクの透過率補正方法である。 - 特許庁

The method includes the steps of: forming at least one chip mounting section and at least one penetrating groove in a metal plate; forming an insulating layer with a specific thickness on the outer surface of the entire metal plate; forming an electrode electrically connected to a light emitting chip which is mounted on the chip mounting section; and cutting the metal plate along a cutting plane line so as to divide the package.例文帳に追加

本発明は金属板に少なくとも一つのチップ搭載部と少なくとも一つの貫通溝を形成する段階と、上記金属板の全体の外部面に一定の厚さの絶縁層を形成する段階と、上記チップ搭載部に搭載された発光チップと電気的に連結される電極部を形成する段階と、上記金属板を切断線に沿って切断してパッケージを分離する段階と、を含む。 - 特許庁

A method for manufacturing a resin syringe barrel comprising a body tube part 11 having a projected tube part 13 detachably connected to a locked object and a tubular lure lock part 14 coaxially surrounding the projected tube part 13 and forming threads 15 in the inner peripheral surface thereof comprises the steps of individually forming at least the lure lock part 14 and the body tube part 11 and forming these formed products integrally with each other.例文帳に追加

ロック対象が着脱自在に連結される突出筒部１３を有する本体筒部１１と、突出筒部１３を同軸的に取り囲みかつ内周面にネジ山１５が形成された筒状のルアロック部１４とから構成される樹脂製シリンジバレルを製造するにあたり、少なくともルアロック部１４と本体筒部１１とを個別に成形し、これら成形品相互を接合一体化する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises the steps of: chemically reconverting an aluminum anodic body 1 in phosphate anion containing solution, of which anodic oxide coating film 2 is formed from aqueous solution of ammonium adipate; then forming a manganese dioxide layer 3 on the surface of the anodic body 1; then forming a conductive polymer layer 4 on the manganese dioxide layer 3; and further forming a cathode conductive layer 5 on the conductive polymer layer 4.例文帳に追加

アジピン酸アンモニウム水溶液から陽極酸化皮膜２を形成したアルミの陽極体１を燐酸アニオンを含む水溶液中で再化成を行い、この後、陽極体１の表面に熱分解により二酸化マンガン層３を形成し、この後、二酸化マンガン層３上に導電性高分子層４を形成し、さらにこの導電性高分子層４上に陰極導電体層５を形成した製造方法である。 - 特許庁

This method comprises the steps to form the coating film by applying a coating solution composed of a binder containing a hydrophilic polymeric compound having a main chain with a plurality of side chains and a polymerization degree of not less than 300 and the fine particle to the surface of a support and form a porous layer by giving rise to a crosslinkage between the side chains through irradiating the hydrophilic polymeric compound in the coating film with ionizing radiation.例文帳に追加

支持体上に、主鎖に複数の側鎖を有する重合度が３００以上の親水性高分子化合物を含むバインダー及び微粒子を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成し、前記塗布膜中の前記親水性高分子化合物に電離放射線を照射して側鎖間に架橋結合を生じさせ、多孔質層を形成することを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。 - 特許庁

The method of forming fine pattern comprises the steps of covering a substrate including the photoresist pattern with the cover forming agent for obtaining the fine pattern, removing unwanted cover forming agent adhered to the end edge portion and/or rear surface of the substrate, thermally contracting the cover forming agent with the heat treatment and narrowing the interval between photoresist patterns by utilizing the thermal contracting operation, and removing the cover forming agent.例文帳に追加

ホトレジストパターンを有する基板上にパターン微細化用被覆形成剤を被覆する工程、基板の端縁部および／または裏面部に付着した不要な被覆形成剤を除去する工程、熱処理により該被覆形成剤を熱収縮させ、その熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間の間隔を狭小せしめる工程、および上記被覆形成剤を除去する工程を含む、微細パターンの形成方法。 - 特許庁

The method for the silicon carbide sintered body including silicon carbide includes steps of: forming a blending powder including silicon carbide; molding the blending powder in a predetermined form and sintering thereof; and forming a silicon carbide film on the surface of the sintered silicon carbide sintered body by the sputtering method.例文帳に追加

炭化ケイ素を含む炭化ケイ素焼結体を製造する炭化ケイ素焼結体の製造方法であって、炭化ケイ素を含む混合粉体を形成する工程と、混合粉体を所定の形状に成形し焼成する工程と、炭化ケイ素と同一純度を有する炭化ケイ素をターゲットとして用いて、焼成された炭化ケイ素焼結体の表面に炭化ケイ素膜をスパッタリング法により形成する工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises steps of forming a pseudo film on a semiconductor substrate, forming a gate electrode spanning the pseudo film, removing the pseudo film, forming a gate insulating film having metal atoms in a gap once formed by the pseudo film, and forming a source/drain region on the surface of the semiconductor substrate with the gate electrode disposed therebetween.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板上に疑似膜を形成する工程と、疑似膜を跨ぐゲート電極を形成する工程と、疑似膜を除去する工程と、疑似膜の形成していた空隙に金属原子を有するゲート絶縁膜を形成する工程と、ゲート電極を挟む半導体基板表面にソース／ドレイン領域を形成する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the solid electrolytic capacitor includes steps of: forming a dielectric film on the roughened surface of a positive electrode; fabricating a capacitor element by winding the positive electrode and a negative electrode via a separator; dipping the capacitor element in a substance where conductive polymeric particles are dispersed and then vibrating the substance; and drying up the substance attaching to the capacitor element.例文帳に追加

粗面化された陽極部表面に誘電体皮膜を形成する工程と、前記陽極部と陰極部をセパレータを介して巻回してコンデンサ素子を作製する工程と、前記コンデンサ素子を導電性高分子粒子が分散した分散体に浸漬し、該分散体を振動させる工程と、コンデンサ素子に付着した分散体を乾燥する工程と、を含んでいる固体電解コンデンサの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method comprises the steps of: preparing a mixture containing a ceramic precursor, a solvent and the phosphor and having a viscosity of 10-1,000 cp; coating the mixture on at least one surface of the glass substrate 12; firing the mixture to form a ceramic layer 14; and dicing the glass substrate 12 and the ceramic layer 14 after the firing.例文帳に追加

当該製造方法は、セラミック前駆体、溶媒および前記蛍光体を含む混合物であって、粘度が１０〜１０００ｃｐの前記混合物を調製する工程と、前記混合物をガラス基板１２の少なくとも一方の面に塗布する工程と、前記混合物を焼成しセラミック層１４を形成する工程と、焼成後のガラス基板１２およびセラミック層１４をダイシングする工程と、を備える。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes steps of injecting impurities into a portion of the surface of at least a substrate (silicon substrate 100) or an insulating film (SiO_2 film 102) on the substrate, subjecting the silicon substrate 100 containing impurities to plasma treatment 108 using noble gas without applying a bias voltage to the silicon substrate 100, and forming a resist on the silicon substrate 100 containing impurities.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、少なくとも基板（シリコン基板１００）または基板上の絶縁膜（ＳｉＯ_２膜１０２）の表面の一部に不純物を注入する工程と、シリコン基板１００にバイアス電圧を印加せずに、不純物を含むシリコン基板１００に対して、希ガスを用いたプラズマ処理１０８を行う工程と、不純物を含むシリコン基板１００上にレジストを形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The liner removing method includes the steps of: forming a groove in a substrate; stacking a conformal liner in the groove; packing the groove with the bulk packed material; and selectively removing an excessive part of the conformal liner by alternately forming a protective layer on the exposed surface of the bulk packed material and etching the conformal liner.例文帳に追加

本発明の実施例によるライナ除去方法は、基板内に溝を形成する工程、前記溝内部にコンフォーマルなライナを堆積する工程、前記溝をバルク充填材料で充填する工程；及び、前記バルク充填材料の露出表面上への保護層の形成及び前記コンフォーマルなライナのエッチングを交互に実行することによって前記コンフォーマルなライナの余剰部分を選択的に除去する工程を有する。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes steps of: forming an embedding layer on a base with a projecting pattern formed thereon to embed the projecting pattern; applying anisotropic etching to the embedding layer on the projecting pattern to form recessed parts on the embedding layer on the projecting pattern; and polishing a surface of an insulating layer by chemical mechanical polishing.例文帳に追加

凸状パターンが形成された下地の上に埋め込み層を形成して前記凸状パターンを埋め込む工程と、前記凸状パターンの上の前記埋め込み層に異方性エッチングを施して、前記凸状パターンの上の前記埋め込み層に凹部を形成する工程と、前記絶縁膜の表面を化学機械研磨により研磨する工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。 - 特許庁

The method of processing the substrate where the substrate is processed by dividing the same in a depth direction includes the steps of injecting protons from a main surface of the substrate S11; and irradiating to the substrate a light, having a wavelength substantially equal to the absorption wavelength of the defect level formed in the substrate by the proton injection so as to divide the substrate S12.例文帳に追加

基板加工方法は、基板を深さ方向において分断することによって加工する基板加工方法であって、基板の一主面側からプロトン注入を行うプロトン注入工程Ｓ１１と、プロトン注入によって基板中に形成された欠陥準位の吸収波長と略等しい波長をもつ光を基板に照射することにより基板を分断する照射工程Ｓ１２と、を具備する。 - 特許庁

The plating pretreatment method 10 for an object to be treated made of an aluminum alloy member includes an etching step 12 of etching the object by using alkaline etching solution, a desmutting step 13 of cleaning a surface of the etched object by using a desmutting solution containing phosphoric acid and hydrogen peroxide, and zinc-substitution steps 14, 16 of immersing the desmutted objected in zinc substitution solution.例文帳に追加

アルミニウム合金部材からなる被処理物のめっき前処理方法１０は、前記被処理物を、アルカリエッチング液を用いてエッチングするエッチング処理工程１２と、前記エッチング処理された被処理物の表面を、リン酸と過酸化水素を含むデスマット処理液を用いて清浄するデスマット処理工程１３と、前記デスマット処理された被処理物を、亜鉛置換液に浸漬する亜鉛置換処理工程１４、１６とを含む。 - 特許庁

The method for producing a polyimide-based film includes the steps of: forming a reactive functional group on a surface layer of a polyimide film mainly composed of a polyimide having pyromellitic acid residues as a residue of an aromatic tetracarboxylic acid and diamine residues containing a benzoxazole skeleton as a residue of an aromatic diamine; and adding a compound having a polar functional group to the reactive functional group by a graft polymerization treatment.例文帳に追加

芳香族テトラカルボン酸類の残基としてピロメリット酸残基と、芳香族ジアミン類の残基としてベンゾオキサゾール骨格を含むジアミン残基とを有するポリイミドを主成分とするポリイミドフィルムの表層に、反応性官能基を形成する工程と、前記反応性官能基に、極性官能基を有する化合物をグラフト重合処理により付加する工程とを含む、ポリイミド系フィルムの製造方法とする。 - 特許庁

The method of forming the low dielectric constant insulating film includes the steps of: irradiating a film-formed substrate placed in an atmosphere of material gas with a neutral particle beam; dissociating and polymerizing the material gas adsorbed to the surface of the film-formed substrate; and forming the low dielectric constant insulating film, wherein the irradiation of the film-formed substrate with the neutral particle beam is performed intermittently with a period no longer than 1 ms.例文帳に追加

原料ガス雰囲気に置かれた被成膜基板に中性粒子ビームを照射し、前記被成膜基板表面に吸着した原料ガスを解離して重合させ、低誘電率膜を成膜する工程を具備する低誘電率膜の形成方法において、前記被成膜基板への中性粒子ビームの照射を、１ｍ秒未満の周期で間歇的に行うことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing high-temperature superconducting pickup coil comprises the steps of: arranging conductive tapes or conductive wire rods on the surface of a cylindrical ceramic base material; migration electrodepositing or electrodepositing high-temperature superconductor and/or high-temperature superconductor precursor; forming the pickup coil by heat processing the cylindrical ceramic base material and sintering the fine particles.例文帳に追加

円筒形セラミック基材の表面に導電性テープまたは導電性線材をコイル状に配置する工程、前記導電性テープまたは導電性線材上に、高温超伝導体および／または高温超伝導体前駆物質を泳動電着または電析させる工程、及び前記円筒形セラミック基材を熱処理して、前記微粒子を焼結させ、ピックアップコイルを形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

In one aspect, there is provided a method of making a water-soluble nanoparticle including steps of; contacting an amine with a nanoparticle to modify the nanoparticle surface; suspending the nanoparticle in an aqueous-in-nonaqueous emulsion; introducing a silica precursor to the emulsion; and polymerizing the silica precursor to form a silica shell that at least partially encapsulates the nanoparticle.例文帳に追加

一部の実施形態において、アミンをナノ粒子と接触させてナノ粒子表面を修飾する工程、該ナノ粒子を非水中水性エマルジョンの水相中に懸濁させる工程、シリカ前駆体を該エマルジョンに導入する工程、およびシリカ前駆体を重合させてナノ粒子を少なくとも部分的に封入するシリカシェルを形成する工程を有する水溶性ナノ粒子を作製する方法が提供される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a three-dimensional article having a cross-linked fluororesin-coated layer which has the steps of coating a three-dimensional article such as a rice cooking pot with a fluororesin, irradiating the coated fluororesin with ionization radiation, and cross-linking the fluororesin, by which the whole surface of the fluororesin coating is uniformly irradiated with the ionization radiation only from one direction, thus forming a uniformly cross-linked fluororesin coating.例文帳に追加

炊飯器釜等の立体形状物にフッ素樹脂を被覆し、該フッ素樹脂に電離放射線を照射して架橋させる工程を有する架橋フッ素樹脂被覆を有する立体形状物の製造方法であって、電離放射線の一方向からの照射のみで、フッ素樹脂被覆の全面にわたる均一な照射を可能にし、均一に架橋されたフッ素樹脂被覆を形成できる方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing an optical fiber probe includes steps of: providing an optical fiber having a coaxial core part and a protective layer; exposing the core part by stripping the protective layer of the optical fiber end; forming a probing end part by etching after immersing the exposed core part in an acid solution; and the stage of forming a metallic layer on the surface of the probing end.例文帳に追加

本発明に係る光ファイバー探針の製造方法は、同軸の芯部及び保護層を有する光ファイバーを提供する段階と、前記光ファイバーの一端の前記保護層を除去して、前記芯部を露出させる段階と、前記露出の芯部を酸性溶液に浸漬させてエッチングして、探測端部を形成する段階と、前記探測端部の表面に金属層を形成する段階と、を含む。 - 特許庁

The method includes steps of: laminating a first substrate having flexibility and a second substrate to be laminated on a surface of the first substrate where a coating material containing microcapsules and a binder is applied, by supplying the first substrate from a position vertically above a laminating position between the first substrate and the second substrate; and heating a portion prior to lamination of the first substrate.例文帳に追加

可撓性を有する第１の基板と、前記第１の基板であってマイクロカプセルとバインダーとを含む塗料が塗布された面に貼り合わせられる第２の基板とを、前記第１の基板と前記第２の基板との貼り合わせ位置よりも鉛直上方側にある位置から前記第１の基板を供給することによって貼り合わせる工程と、前記第１の基板の貼り合わせる前の部分を加熱する工程と、を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the nitride-based compound semiconductor light-emitting element comprises steps of: laminating the nitride-based compound semiconductor layer including the light emitting layer 4 on at least a portion of a substrate to form the laminated semiconductor 36; forming the holding electrode 700 on a portion on the main surface 60 at the opposite side to the substrate of the laminated semiconductor 36; and removing the substrate.例文帳に追加

基板上の少なくとも一部に、発光層４を含む窒化物系化合物半導体層を積層して積層半導体３６を形成する工程と、積層半導体３６において上記基板と反対の位置にある主面６０側の一部に保持電極７００を形成する工程と、上記基板を除去する工程とを有する窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the packaging material comprises steps of: continuously feeding webbed printed paper by a continuously feeding means; of discharging the resin on the paper by a discharge gun having a plurality of nozzles arranged in a widthwise direction of the paper while adjusting an amount and a position of the dropping resin; and solidifying the discharged resin on the surface of the paper.例文帳に追加

前記包装資材を製造する方法は、連続給送手段によりウエブ状の印刷済の用紙を連続給送するステップと、複数のノズルが前記用紙の幅方向に配列されている吐出ガンにより各ノズルからの樹脂の落下量と落下位置を調整しながら前記用紙上に吐出する吐出ステップと、前記吐出された用紙表面の樹脂を固化させるステップとから構成されている。 - 特許庁

The method comprises the steps of depositing the film of an insulative material on the surface of a semiconductor substrate, measuring the thickness of the film or the thickness and composition of the film, setting nitrifying or oxidizing conditions, and nitrifying or oxidizing the film on the basis of the set nitrifying or oxidizing conditions.例文帳に追加

半導体基板の表面上に、絶縁性材料から成る膜を堆積する工程と、前記膜の膜厚、あるいは膜厚および組成を測定する工程と、測定された結果に基づいて、窒化条件または酸化条件を設定する工程と、設定された前記窒化条件または前記酸化条件に基づいて、前記膜に窒化処理または酸化処理を行う工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁