「surface steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing the printing press plate using the ink jet recording process comprises the steps of preparing a printing plate material having an image forming layer containing an image forming agent on its surface, adhering a solvent for dissolving the image forming layer by the ink jet recording process to the image forming layer to form a press plate image, and thereafter removing the image forming layer dissolved in the solvent.例文帳に追加

画像形成剤を含んでなる画像形成層をその表面に有する印刷用版材を用意し、前記画像形成層に、前記画像形成層を溶解する溶剤をインクジェット記録方法により付着させて刷版画像を形成し、その後に、前記溶剤により溶解された前記画像形成層を除去することを含んでなる製造方法によって達成する事ができる。 - 特許庁

A process for forming a gettering site comprises the steps of: forming a semiconductor film containing a rare gas element; forming a semiconductor film having an amorphous structure containing a high-concentration rare gas element, amorphous silicon film as a major example, on the surface of a second semiconductor film by treating the film for generating plasma of a rare gas element, carbon, or oxygen; and gettering the semiconductor film.例文帳に追加

ゲッタリングサイトを形成する工程として、希ガス元素を含む半導体膜を形成した後、希ガス元素、炭素、または酸素のプラズマを発生させる処理を行うことで第２の半導体膜表面に高濃度の希ガス元素を含ませた非晶質構造を有する半導体膜、代表的にはアモルファスシリコン膜を形成した後、ゲッタリング処理を行うものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter array having simplified manufacturing steps, particularly a method for manufacturing the color filter array substrate provided with an overcoat layer having a flat surface, and to provide a thin film patterning apparatus capable of performing the patterning step without using a photolithography step and capable of simplifying the manufacturing step and a method for manufacturing the color filter array substrate utilizing the same.例文帳に追加

本発明は、製造工程を単純化したカラーフィルタアレイ基板の製造方法、特に、平坦面を有したオーバーコート層を備えたカラーフィルタアレイ基板の製造方法、フォトリソグラフィ工程を使用せずにパターニング工程を行えると共に、製造工程の単純化を可能にした薄膜パターニング装置及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The method for manufacturing the ceramic green sheet includes the steps of forming the ceramic green sheet 113 by coating a ceramic slurry 106 on a surface of a base film 100, measuring a ceramic powder content per unit area of the formed ceramic green sheet 113, and regulating a coating quantity of the ceramic slurry 106 to the base film 100 based on the measured ceramic powder content per unit area.例文帳に追加

セラミックスラリー１０６を基材フィルム１００表面に塗布することでセラミックグリーンシート１１３が形成されたうえで、形成されたセラミックグリーンシート１１３の単位面積当たりのセラミック粉含有量を測定し、測定した単位面積当たりのセラミック粉含有量に基づいて基材フィルム１００に対するセラミックスラリー１０６の塗布量を調整する。 - 特許庁

The method for manufacturing a photosensitive planographic printing material includes steps of forming an image forming layer and a protective layer, in this order, on the support having a hydrophilic surface continuously conveyed, wherein the protective layer is dried and formed by a far IR ray drying method at a temperature lower by 15 to 50°C than the drying temperature of the image forming layer.例文帳に追加

連続搬送している親水性表面を有する支持体上に、画像形成層と保護層とをこの順に設ける感光性平版印刷版材料の製造方法において、前記保護層は前記画像形成層の乾燥温度より１５〜５０℃低い温度で遠赤外線乾燥法により乾燥し形成されていることを特徴とする感光性平版印刷版材料の製造方法。 - 特許庁

The fine color image with the rich hue is formed on the surface layer of the mother alloy 10 by repeating the above steps.例文帳に追加

被装飾体（母合金１０）の表面に金属（金板１〜金板４）を配設し、その金属の表面に設定された所定の微小領域にレーザーを照射して、被装飾体の表層を合金化した後、金属を他の金属に取り替えて、再び他の微小領域にレーザーを照射する、といった工程を繰り返すことで、母合金１０の表層に色相豊かで綺麗なカラー画像を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing Si nanoparticles includes steps of: synthesizing silicon nanoparticles from an Si salt as a start material in a solvent containing calixarene; then producing an Si hydride by hydrogenating surfaces of the silicon nanoparticles in the solvent; and allowing the Si hydride to react with a surface modification compound in the solvent.例文帳に追加

カリックスアレーンを含む溶媒中でＳｉ塩を出発原料としてシリコンナノ粒子を合成させる工程、次いで、当該溶媒中で前記シリコンナノ粒子の表面を水素化させてＳｉの水素化物を形成させる工程、さらに当該溶媒中で前記Ｓｉの水素化物と表面修飾化合物とを反応させる工程を含むＳｉナノ粒子の製造方法。 - 特許庁

The sheet heater is manufactured through the steps of: forming the patterned heater element 2 on the insulating film 1; forming the other heat-resistant insulating film 7 on the heater element 2 to laminate the heater element 2; and forming the heat uniforming film 8 made of the film of good thermal conduction uniformly over the surface of at least one of the insulating films 1 and 7.例文帳に追加

このシートヒータは、絶縁膜１の上にパターニングされたヒータエレメント２を形成する工程と、このヒータエレメント２の上に別の耐熱性を有する絶縁膜７を形成してヒータエレメント２をラミネートする工程と、少なくとも一方の絶縁膜１、７の表面上に熱伝導良好な膜からなる均熱膜８を一様に形成する工程とにより製造される。 - 特許庁

This method for purifying the nitrogen oxide-containing air comprises the steps of: passing the nitrogen oxide-containing air through a wet vegetable material containing cellulose to react the nitrogen dioxide in the nitrogen oxide-containing air with the wet vegetable material containing cellulose and; removing the nitric acid and nitrous acid produced/accumulated on the surface of the vegetable material containing cellulose by fluidizing air and water.例文帳に追加

窒素酸化物含有空気を湿潤状態のセルロース含有植物材料に通気させて窒素酸化物含有空気中の二酸化窒素を反応させ、前記セルロース含有植物材料の表面に生成、蓄積した硝酸および亜硝酸を空気と水の流動により除去することを特徴とする窒素酸化物含有空気の浄化方法。 - 特許庁

The method for forming the thin film is directed at forming the thin film of the oxide on the surface of a member from the oxide scattered in the chamber, and comprises the steps of; storing the member in the chamber; and making an absorption section installed in the chamber so as to absorb oxygen absorb surplus oxygen in the chamber.例文帳に追加

本発明に係る薄膜形成方法は、チャンバー内に飛散した酸化物によって、部材の表面に前記酸化物の薄膜を形成する薄膜形成方法において、前記部材を前記チャンバーに格納する格納ステップと、前記チャンバー内に酸素を吸着する吸着部を設置することで、前記チャンバー内の余剰酸素を吸着する吸着ステップとを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of forming a lower electrode film consisting of a noble metal film, forming a noble metal oxide film by oxidizing the surface of the lower electrode film in a tensile stress state of the noble metal film, forming the ferrodielectric film on the noble metal oxide film, and forming an upper electrode film on the ferrodielectric film.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、貴金属膜からなる下部電極膜を形成する工程と、前記貴金属膜が引張応力の状態で、前記下部電極膜の表面を酸化し、貴金属酸化膜を形成する工程と、前記貴金属酸化膜上に、強誘電体膜を形成する工程と、前記強誘電体膜上に上部電極膜を形成する工程とを含む。 - 特許庁

The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.例文帳に追加

透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁

The method for manufacturing a metal 3 such as silicon by electrolytically reducing the metallic oxide powder 2 such as silicon oxide powder comprises the steps of: suspending the metallic oxide powder 2 in the molten salt 5 of calcium chloride, any other chloride, fluoride or a mixture consisting of two or more of the compounds; and reducing the metallic oxide powder 2 on the surface of a cathode 1.例文帳に追加

ケイ素酸化物粉末等の金属酸化物粉末２の電解還元によるシリコン等の金属３の製造方法であって、該金属酸化物粉末２を塩化カルシウムや他の塩化物、フッ化物またはこれらの２種以上からなる混合物である溶融塩５中に懸濁させ陰極１表面で還元することを特徴とする製造方法である。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor device, a resist film is formed on a substrate whose surface has steps and has a sticking or penetrated organic removing liquid using the chemically amplified photoresist composition to which a basic compound has been added by 1-100 mmol per 100 g base resin and a resist pattern is formed by exposing a prescribed region of the resist film.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、表面に段差を有するとともに有機剥離液が付着若しくは染み込んだ基板上に、ベース樹脂１００ｇ当たり塩基性化合物を１〜１００ｍｍｏｌ添加した化学増幅型フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を成膜し、前記レジスト膜の所定の領域を露光することによってレジストパターンを形成する。 - 特許庁

This method for cleaning polluted soil or polluted water is characterized by comprising the steps of bringing a medium, to which a biofilm can be deposited, into contact with microorganisms capable of decomposing a polluting component to form a biofilm containing microorganisms capable of decomposing the polluting component onto the surface of the medium, and bringing the medium with a biofilm formed thereon into contact with polluted soil or polluted water.例文帳に追加

本発明の汚染土壌又は汚染水浄化方法は、バイオフィルムを付着し得る媒体と、汚染成分を分解し得る微生物とを接触させ、上記媒体表面に汚染成分を分解し得る微生物を含むバイオフィルムを形成させる工程、及びバイオフィルムが形成された媒体を、汚染土壌又は汚染水と接触させる工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing the printed metal plate for manufacturing the can comprises the steps of continuously adhering thermoplastic resin films on both side surfaces of a strip-like metal plate, then cutting the film- adhered metal plate in a sheet-like state of a predetermined size, and then offset printing the film of a side to become an outer surface of the can of each sheet-like metal plate.例文帳に追加

印刷済み製缶用金属板材の製造方法において、帯状の金属板に対して、その両面に熱可塑性樹脂フィルムを連続して貼着した後で、フィルム貼着済みの帯状金属板を所定の大きさのシート状に切断してから、各シート状金属板のそれぞれに対して、缶の外面となる側で熱可塑性樹脂フィルムの上にオフセット印刷を施す。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a first semiconductor region, made of an amorphous semiconductor on a surface of an insulator, scanning a continuous oscillation laser beam from one end of the first region to the other end, once melting the first region, crystallizing the first region, and thereafter etching the first region, to form an active layer of a TFT to form a second semiconductor region.例文帳に追加

絶縁表面上に、非晶質半導体で成る第１半導体領域を形成し、第１半導体領域の一端から他端に向けて連続発振レーザービームを走査して、第１半導体領域を一旦溶融させて結晶化し、その後、ＴＦＴの活性層を形成するために第１半導体領域をエッチングして第２半導体領域を形成するものである。 - 特許庁

The method for filling a hole of a conductive material includes steps of: filling a space in a conductive material with conductive powder; depositing a film on the part filled with the conductive powder by discharge surface treatment by using a green compact electrode made of the same material as the conductive powder; and removing the conductive powder not melted by discharge.例文帳に追加

導電性材料の空間部に導電性粉末を充填する工程と、この導電性粉末が充填された部分を、該導電性粉末と同じ素材の圧粉電極による放電表面処理にて被膜を形成し覆う工程と、放電により溶融しなかった上記導電性粉末を除去する工程と、からなる導電性材料の穴埋め方法を行う。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device comprises the steps of: forming an amorphous silicon film on a substrate; forming a polycrystalline silicon film by crystallization of the amorphous silicon film; injecting ions into the polycrystalline silicon film by using a plasma doping method; and polishing the surface of the polycrystalline silicon film into which the ions are injected.例文帳に追加

本実施形態によれば、半導体装置の製造方法は、基板上に非晶質シリコン膜を形成する工程と、前記非晶質シリコン膜を結晶化して多結晶シリコン膜を形成する工程と、プラズマドーピング法を用いて、前記多結晶シリコン膜にイオンを注入する工程と、前記イオンを注入した前記多結晶シリコン膜の表面を研磨する工程と、を備える。 - 特許庁

In the method for producing barium titanate powder with steps for mixing and calcining barium carbonate powder and titanium oxide powder, acicular powdery barium carbonate particles (particles having a shape which satisfies a major to minor axis size ratio of ≥2) are used as the barium carbonate powder and preferably acicular powdery barium carbonate particles having ≥5.0 m2/g specific surface area are used.例文帳に追加

炭酸バリウム粉末と酸化チタン粉末とを混合し、仮焼する、各工程を備える、チタン酸バリウム粉末の製造方法において、炭酸バリウム粉末として、針状の粉末粒子（長軸／短軸比が２以上である条件を満足する形状を有する粉末粒子）からなるものを用い、より好ましくは、比表面積が５．０ｍ^2 ／ｇ以上のものを用いる。 - 特許庁

The method comprises the steps of: pulverizing two types of rubber having different hardnesses into first and second rubber powders of specific size; mixing the pulverized rubber powders with a liquid rubber; spraying the rubber powder onto the surface of the rigid plate to a specific thickness by a spray method; vulcanizing the rigid plate treated with a coating material; and shearing the rigid plate.例文帳に追加

異なる硬度を有する二種のゴムを一定の大きさの第１、第２のゴム粉末に粉砕する段階；粉砕したゴム粉末を液状ゴムと共に混合する段階；リジッドプレートの表面に一定の厚さでゴム粉末をスプレー方式により噴射する段階；コーティング処理されたリジッドプレートを加硫する段階；リジッドプレートを剪断する段階からなることを特徴とする。 - 特許庁

The method for eliminating the catalyst residue (2) existing on a surface of a solid structure (3) made from a first material and obtained by catalytic growth comprises the following steps of: catalytically growing a solid structure (4) made from a second material from the catalyst residue (2); and selectively eliminating the solid structure (4) made from the second material.例文帳に追加

触媒成長によって得られた、第１材料で作られたソリッド構造体（３）の表面上に存在する触媒残渣（２）を取り除くこの方法は、以下の段階：第２材料で作られたソリッド構造体（４）を前記触媒残渣（２）から触媒成長させる段階と、前記第２材料で作られたソリッド構造体（４）を選択的に取り除く段階と、を含む。 - 特許庁

The method includes steps of forming an in-situ mask on a photosensitive element, exposing the element to chemical rays via the in-situ mask in an environment, having an inert gas and an oxygen concentration ranging from 190,000 to 100 ppm, and processing the exposed element to prepare a relief printing form, having a pattern of an embossed surface segment.例文帳に追加

この方法は、感光性エレメントの上にｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成するステップと、不活性ガスおよび１９０，０００から１００ｐｐｍの間の酸素濃度を有する環境内においてｉｎ−ｓｉｔｕマスクを介して化学線に対してエレメントを露光させるステップと、浮出し面区域のパターンを有する凸版印刷フォームを形成するために露光されたエレメントを処理するステップとを含む。 - 特許庁

In a process for manufacturing the metal powder-sintered part 1 having a three-dimensional shape, removal steps wherein surface layers and unnecessary parts are removed from the surfaces of the sintered layers M within predetermined removal target areas A after sintering the sintered layers M, are performed several times during a powder-sintering step wherein multiple sintered layers M are laminated and integrated.例文帳に追加

複数の焼結層Ｍを積層一体化する粉末焼結工程の中に、焼結層Ｍの焼結加工後に所定の除去加工領域Ａで焼結層Ｍの表面部の表層及び不要部分を除去するための除去仕上加工をおこなう除去加工工程を複数回挿入することにより三次元形状の金属粉末焼結部品１を製造する方法である。 - 特許庁

The light-emitting device manufacturing method comprises the steps of: irradiating laser beam to a separation region for separating a light-emitting device formed on a substrate (10), physically separating the substrate (10) in the separation region, and removing a surface layer of at least one side of the substrate that is exposed by the step of separating the substrate (10).例文帳に追加

本発明は、基板（１０）上に形成された発光素子を分離するための分離領域にレーザ光を照射する工程と、基板（１０）を分離領域で物理的に分離する工程と、基板（１０）を分離する工程により露出された基板の少なくとも１つの側面の表面層を除去する工程と、を有することを特徴とする発光素子の製造方法である。 - 特許庁

Furthermore, the method comprises the steps of providing a computer-readable medium 100 bearing instructions, the instructions arranged, when executed by one or more processors, to cause the one or more processors to control a polishing system to polish the substrate surface at the first removal rate on the first platen and then polished at the second removal rate less than the first removal rate on the second platen.例文帳に追加

さらにコンピュータ可読媒体１００が備えられ命令を保持し、命令は１つ以上のプロセッサにより命令が実行されるときに、研磨システムが基板表面を第１プラテン上で第１除去速度で研磨し、その後、第２プラテン上で第１除去速度よりも遅い第２除去速度で研磨するように、１つ以上のプロセッサに研磨システムを制御させる。 - 特許庁

The method for manufacturing the light-emitting device includes steps of: preparing a semiconductor laminated structure; forming electrodes on the upper surface of the semiconductor laminated structure except a plurality of areas; providing fluorescent members in the plurality of areas with the electrodes being sidewalls; and cutting the semiconductor laminated structure to form a plurality of light-emitting devices.例文帳に追加

本発明の発光装置の製造方法は、半導体積層構造体を準備する工程と、半導体積層構造体の上面に複数の領域を除いて電極を形成する工程と、複数の領域に電極が側壁となるように蛍光部材を設ける工程と、半導体積層構造体を切断して複数の発光装置とする工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This method for washing the substrate comprises the steps of: washing the substrate supersonically by using functional water obtained by dissolving at least one of hydrogen and nitrogen in water as a washing liquid; and releasing a contaminant from the substrate by impressing a DC voltage in the substrate-immersed washing liquid during the time to wash the substrate supersonically to generate an electric charge on the surface of the substrate.例文帳に追加

本基板洗浄方法では、基板を超音波洗浄するに際し、洗浄液として、水に水素と窒素との少なくともいずれか一つを溶解させてなる機能水を使用し、基板の超音波洗浄中に、基板を浸漬した洗浄液中に直流電圧を印加して基板の表面に電荷を生ぜしめ、基板から汚染物質を放出させる。 - 特許庁

The method includes the steps of: allowing a conductive wire 20 to pass through plating liquid 31 including a carbon nano tube, while being sent; drying the wire 20 having a carbon fiber layer comprising the carbon nano tube formed on the circumferential surface; extracting the dried wire 20 by using a die 34 for elongating the wire; and cutting the wire 20 extracted through the die 34.例文帳に追加

導電性を有する線材２０を送線しながら、カーボンナノチューブを含むめっき液３１中を通過させるステップと、周面上にカーボンナノチューブからなる炭素繊維層が形成された線材２０を乾燥させるステップと、伸線用のダイス３４を用いて乾燥後の線材２０を引き抜くステップと、ダイス３４を介して引き抜かれた線材２０を切断するステップとを備えて構成される。 - 特許庁

A forming method of the inkjet print head includes steps of: attaching a plurality of piezoelectric elements 20 to diaphragms 36; supplying a dielectric filling layer on the diaphragms and the plurality of piezoelectric elements to seal the piezoelectric elements; curing the dielectric filling layer to form an aperture layer 50; and removing the aperture layer from an upper surface of the plurality of piezoelectric elements by plasma etching.例文帳に追加

インクジェット印字ヘッドの形成方法は、ダイアフラム３６に複数の圧電素子２０を付着させるステップと、ダイアフラムと複数の圧電素子との上に誘電性充填層を供給し、圧電素子を封止するステップと、誘電性充填層を硬化させ、隙間層５０を形成するステップと、次に、複数の圧電素子の上面から隙間層をプラズマエッチングによって除去するステップとを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the stent delivery system includes the steps of: previously shrinking a prepared stent into a second diameter having an inner diameter the same as or smaller than the outside diameter of a folded balloon, inserting the folded balloon into the same, and applying a pressure toward the diameter direction inside from the outer surface of the stent to shrink the stent into a third diameter after the completion of crimping.例文帳に追加

準備したステントを、折り畳まれたバルーンの外径と同じかこれよりも小さい内径を有する第二の径に予め収縮しておき、これに対して折り畳まれたバルーンを挿入し、更にステントの外面から径方向内側に向けて圧力を印加してステントをクリンプが完了した径である第三の径に収縮するステントデリバリーシステムの製造方法を提供した。 - 特許庁

Treatment having many steps is used for controlling the environment in a chemical deposition chamber, and the control is performed by removing the remainders of fluorine from the chamber by using hydrogen plasma after washing for the chemical deposition chamber and in the meanwhile of the succeeding deposition treatment, next depositing a solid compound on an interior surface of the chamber and encapsulates particulates remaining in the chamber.例文帳に追加

化学堆積チャンバ内の環境を調整するために多数のステップを有する処理が用いられ、調整は、化学堆積チャンバの洗浄後いに及び後続の堆積処理の間に、水素プラズマを用いてフッ素の残留物をチャンバから除去し、次いでチャンバ内に固体化合物を堆積してチャンバ内に残留する粒子を包封することで行われる。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device having a MISFET comprises the steps of: covering a surface of a semiconductor substrate with an oxygen-absorbing film after forming a gate stack of a MISFET and a peripheral structure; performing annealing in that state to activate an impurity in a source-drain region; and subsequently removing the oxygen-absorbing film.例文帳に追加

本願の一つの発明は、ＭＩＳＦＥＴを有する半導体集積回路装置の製造方法において、ＭＩＳＦＥＴのゲートスタック及びその周辺構造を形成した後、半導体基板表面を酸素吸収膜で覆い、その状態でソースドレインの不純物を活性化するためのアニールを実行し、その後、当該酸素吸収膜を除去するものである。 - 特許庁

To provide a hollow-fiber membrane having sufficient selective permeability for a substance and membrane strength, excellent in adhesion property to the substrate surface of mainly polysulfones or polyether sulfones and durability, and suitable for a gas separation membrane, a medical materials required to be compatible to a living body, and provide a manufacturing method of the hollow-fiber membrane by simple and practical steps.例文帳に追加

物質の選択透過性及び膜強度が十分で、しかもポリスルホン又はポリエーテルスルホンを主成分とする基材表面への密着性及びその耐久性に優れ、気体分離膜や生体適合性が要求される医療材料等に好適な中空糸膜を提供すること、並びに簡便かつ実用的な工程による中空糸膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The substrate processing method comprises steps of forming a prescribed pattern by etching a film to be etched formed on a substrate; denaturing a substance remained after ending etching processing so as to be soluble in a prescribed liquid; subsequently silylating a surface of the film to be etched on which a pattern is formed; and thereafter dissolving and removing the substance denatured by supplying the prescribed liquid.例文帳に追加

基板上に形成された被エッチング膜をエッチング処理して所定パターンを形成する工程と、エッチング処理を終了した後に残存する物質を所定の液に対して可溶化するように変性させる工程と、次いで、パターンが形成された被エッチング膜の表面をシリル化処理する工程と、その後、所定の液を供給して変性された物質を溶解除去する工程とを有する。 - 特許庁

The method for fabricating the capacitor comprises steps for forming an interlayer insulation film pattern on a semiconductor substrate having an opening for exposing the upper surface of the semiconductor substrate, for forming a silicide pattern on the exposed semiconductor substrate, for forming a lower electrode covering the inner wall of the opening where the silicide pattern is formed, and for forming a dielectric film and an upper electrode film sequentially thereon.例文帳に追加

このキャパシタの製造方法は、半導体基板上に半導体基板を露出させる開口部を有する層間絶縁膜パターンを形成し、露出された半導体基板にシリサイドパターンを形成し、シリサイドパターンが形成された開口部の内壁を覆う下部電極を形成した後に、その結果物上に誘電膜及び上部電極膜を順次に形成する段階を含む。 - 特許庁

In the multilayer DNA microarray 1, a plurality of DNA microarray units 2 in which a lead section 5 having conductivity and a detection section 4 in which nucleic acid is immobilized are formed in series on a substrate 3 having insulating properties are laminated in steps so that the surface of a detection section 4 is exposed without overlapping the substrate 3 of other DNA microarray units 2 on each detection section 4.例文帳に追加

本発明の多層ＤＮＡマイクロアレイ１は、絶縁性を有する基板３上に導電性を有するリード部５と核酸が固定化された検出部４とが直列に形成された複数のＤＮＡマイクロアレイユニット２が、各検出部４の上に他のＤＮＡマイクロアレイユニット２の基板３が重複せず検出部４の表面が露出するよう階段状に積層される。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device 1 includes the steps of: forming a metal pad 40 on a layer insulating film 36 above a semiconductor substrate 10; forming a metal oxide film 41 including an aluminum or aluminum alloy on the surface of the metal pad 40 by performing heat treatment inside an oxygen containing atmosphere; and forming a chip by dividing the semiconductor substrate 10.例文帳に追加

半導体装置１の製造方法において、半導体基板１０の上方の層間絶縁膜３６上に金属パッド４０を形成する工程と、酸素含有雰囲気内において熱処理を行い、金属パッド４０の表面にアルミニウム又はアルミニウム合金を有する金属酸化膜４１を形成する工程と、半導体基板１０を分割してチップを形成する工程とを有する。 - 特許庁

The method of producing a circuit board, having built-in component comprises the steps of preparing a substrate including an electronic component having a terminal portion 12 on the top surface, irradiating a part of the substrate, immediately above the terminal portion 12 with a laser beam in a depressurized atmosphere to remove the part of the substrate and expose the terminal portion 12, and forming a conductive member on the terminal portion 12.例文帳に追加

上面に端子部１２を有する電子部品を内蔵した基板を準備する工程と、端子部１２の直上に位置する基板の一部に対し減圧雰囲気中にてレーザー光を照射し、該基板の一部を取り除いて端子部１２を露出する工程と、端子部１２上に導電部材を形成する工程と、を備えたことを特徴とする部品内蔵基板の製造方法。 - 特許庁

The method for producing a silicon single crystal by doping carbon in a chamber with a Czochralski method comprises the steps of disposing a silicon raw material S in a crucible 3, wherein a carbon dopant is disposed in a position apart from a crucible inner surface 3a by 5 cm or more, that is, in an area range K3, and after the disposition in this state, melting the silicon raw material S.例文帳に追加

チョクラルスキー法によりチャンバ内において炭素をドープしてシリコン単結晶を製造する方法であって、ルツボ３内にシリコン原料Ｓを配置する工程において、炭素ドープ剤を、ルツボ内面３ａに対して５ｃｍ以上離れた位置、つまり、領域範囲Ｋ３内に配置し、この状態で配置工程後にシリコン原料Ｓを溶融する溶融工程をおこなう。 - 特許庁

The etching method comprises the steps of: forming a resist 10 on the surface of a masking material 9 layered on an electroconductive foil 11 of a material to be etched; forming a pattern on the resist 10; etching the masking material 9 by using the resist 10 as a mask; removing the resist 10; and etching the electroconductive foil 11 of the material to be etched, through the masking material 9.例文帳に追加

本実施の形態のエッチング方法は、被エッチング材である導電箔１１に積層されたマスク材９の表面にレジスト１０を形成する工程と、レジスト１０をパターニングする工程と、レジスト１０をマスクとして用いてマスク材９をエッチングする工程と、レジスト１０を除去する工程と、マスク材９を介して被エッチング材である導電箔１１をエッチングする工程とを含む。 - 特許庁

The method for treating the aluminum alloy comprises the steps of: immersing a rotor of the above device in the molten aluminum alloy and holding it; spouting an inert gas and the flux from a nozzle into the molten metal; and rotating the rotor at 200 to 450 rpm to float inclusions in the molten metal with fine bubbles and the flux up to the surface of the molten metal and thereby to remove gases and slag.例文帳に追加

アルミニウム合金溶湯中に上記装置のローターを浸漬した状態に維持し、ノズルから不活性ガスおよび上記のフラックスを溶湯中に噴出させて供給し、ローターを２００〜４５０ｒｐｍで回転させて、溶湯中の介在物などを微細気泡およびフラックスとともに湯面まで浮上させることにより脱ガスおよび脱滓を行うアルミニウム合金の処理方法。 - 特許庁

A liquid crystal alignment layer is produced by a long throw sputtering method including steps of mounting a substrate on a substrate carrier in a chamber, bombarding and sputtering a target above the substrate with a high-density plasma to produce a sputtered substance, and applying a bias voltage in the chamber to deposit the sputtered substance along a nearly normal direction onto the substrate surface to form an alignment layer.例文帳に追加

ロングスロースパッタリング法で液晶配向膜を製作する方法は、基板をチャンバー内の基板キャリアに乗せ、高密度プラズマで基板の上方にあるターゲットをスパッタリング衝撃してスパッタ物質を生成発生し、チャンバー内でバイアス電圧を印加提供してスパッタ物質を垂直に近い方向に沿って基板表面に堆積させて液晶配向膜を形成するなどのステップを含む。 - 特許庁

A method of manufacturing the magnetic recording medium includes steps of: forming a magnetic recording layer on a substrate; forming a protection overcoat layer on the magnetic recording layer; exposing the surface of the protection overcoat layer in an ambient atmosphere including perfluorocycloalkane and oxygen; and polymerizing the perfluorocycloalkane using a plasma enhanced chemical vapor deposition to deposit a layer including perfluoropolyether on the protection overcoat layer.例文帳に追加

基板上に磁気記録層を形成すること、該磁気記録層上に保護オーバーコート層を形成すること、該保護オーバーコート層の表面をパーフルオロシクロアルカン及び酸素を含む雰囲気に暴露すること、及び該パーフルオロシクロアルカンをプラズマ強化化学気相成長法を用いて重合して、該保護オーバーコート層上にパーフルオロポリエーテル含有層を堆積すること、を含む磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the mobile phone protective cover is implemented by performing the work to form surface resin layers of a rugged form by screen printing using meshes of 150 to 380 pieces/inch respectively longitudinally and transversely in thread density on one or both sides of a transparent resin sheet, and the work to form masking by screen printing within the same steps.例文帳に追加

本発明の携帯電話保護カバー用シートの製造方法は、透明樹脂シートの片面または両面に、糸密度が縦横それぞれ１５０〜３８０本／インチのメッシュを用いたスクリーン印刷により凹凸状の表面樹脂層を形成する作業と、スクリーン印刷によりマスキングを形成する作業とを、同じ印刷工程内で行うことによってなされる。 - 特許庁