「surface steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

To form a common electrode, a gate wire/electrode and a common electrode wire with high precision in a liquid crystal display panel with a system which has the common electrode for each pixel solidly formed on a principal surface of an insulating substrate, and has a comb-shaped pixel electrode arranged on the common electrode via an insulating film, with a small number of photolithography steps.例文帳に追加

絶縁基板の主面に、画素毎にべた形成した共通電極を有し、その上に絶縁膜を介して櫛歯状の画素電極を設ける形式の液晶表示パネルにおける当該共通電極、ゲート配線/電極、共通電極配線を少ないホトリソ工程数で高精度に形成する。 - 特許庁

This composite material is produced through the steps consisting of applying the first coating liquid including the resin on a substrate, drying the same, subsequently applying the second coating liquid including at least the crosslinking agent and solvent on the surface of the coated film, making the crosslinking agent permeate therethrough, drying the coated film permeated with the crosslinking agent and, thereafter, crosslinking the resin.例文帳に追加

基材上に樹脂を含む第１塗液を塗布、乾燥し、次いでその塗膜表面に少なくとも架橋剤と溶媒を含む第２塗液を塗布して該架橋剤を浸透させ、乾燥させた後に、該樹脂を架橋させることを特徴とする架橋樹脂膜を有する複合材料の製造方法及びその製品。 - 特許庁

In the process for producing a film having a high surface hardness, including the steps of forming a layer containing a filler through a step of melting and kneading the filler and a resin and an extrusion step, the resin is used for the melting and kneading step after grinding.例文帳に追加

充填材と樹脂とを熔融混練する工程と、押出し成型の工程とを含む工程で充填材含有層を形成する工程を含む高表面硬度フイルムの製造方法において、該樹脂を粉砕してから前記熔融混練の工程にて使用することを特徴とする高表面硬度フイルムの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method for a optical device comprises the steps of: imparting liquid repellency or lyophilic property to the surface of banks 11 dividing a prescribed region; forming a lens 13 by using liquid lens material 12 in the banks 11; and arranging the functional material 14, 15, 16 on the lens 13 formed in the banks 11.例文帳に追加

所定の領域を区画するバンク１１の表面を撥液性または親液性に加工する工程と、バンク１１内に液状のレンズ材料１２を用いてレンズ１３を形成する工程と、バンク１１内に形成されたレンズ１３の上に機能材料１４，１５，１６を配置する工程とを有する。 - 特許庁

First, a cleaned crystal substrate 101 is heated at a specified temperature in a super high vacuum to invert the surface structure of the crystal substrate 101 to low-temperature phase of 7×7 structure from high-temperature phase of 1×1 structure, namely, to change separate state into bundled state of several steps (step 111).例文帳に追加

先ず、洗浄した結晶基板１０１に超高真空の中で所定の加熱処理を施し、結晶基板１０１の表面構造を高温相の１×１構造から低温相の７×７構造に転移させ、一本一本ばらばらの状態から数本のステップが束になった状態（ステップ１１１）へと変化させる。 - 特許庁

The method for obtaining a conductive coating film comprises steps of: applying the colloidal solution of metal, using an ink jet device, on a surface of a substrate where a receptive layer for jetted ink is formed; and drying the resultant film at a temperature of 100°C or below.例文帳に追加

金属コロイド溶液をインクジェット方式により基材に塗布して、導電性コーティング膜を得る方法において、上記塗布が行われる基材表面にインクジェットインク用受容層が形成されており、塗布後の乾燥が１００℃以下で行われることを特徴とする導電性コーティング膜の形成方法。 - 特許庁

A feature point as a candidate for a tracking point of the object is extracted from an image (step S4) and an evaluation function representing continuity between the height position of the feature point in the image and a peripheral surface is used (steps S5 and S6) to set points where values of the evaluation points are larger than a specified value as tracking points (step S7).例文帳に追加

画像中において対象物の追跡点の候補となる特徴点を抽出し（ステップＳ４）、特徴点の画像中における高さ位置と、周辺の面との連続性を表す評価関数を用い（ステップＳ５、Ｓ６）、この評価関数の値が所定値以上の点を追跡点として設定する（ステップＳ７）。 - 特許庁

The method for manufacturing the material for the anisotropic exchange spring magnet comprises the steps of: forming a ribbon having an amorphous structure by rapidly quenching a magnet alloy; coating the surface of the ribbon with a film having a different composition from that of the ribbon; and heat-treating the ribbon coated with the film.例文帳に追加

磁石合金を超急冷法によりアモルファスの組織を有する薄帯とする工程と、前記薄帯の表面にこの薄帯とは組成が異なる皮膜を被覆する工程と、この皮膜を被覆した薄帯に熱処理を行う工程からなることを特徴とする異方性交換スプリング磁石材料の製造方法。 - 特許庁

To provide an image pickup device for detecting the surface condition of a circuit pattern-formed wafer with high resolution and a defect detection apparatus using the same, without being affected by steep pattern steps, reflectance distributions and optically transparent substance which are formed after resist patterns are formed and removed.例文帳に追加

本発明の目的は、レジストパターン形成後やレジスト除去後の回路パターン付ウェハに存在する急峻なパターン段差、反射率分布、光学的透明体に影響を受けることなく、表面状態を高解像度で検出する撮像装置並びにこれを用いた欠陥検査装置を提供することである。 - 特許庁

The method comprises steps of preparing ground powder of rare earth alloy and pulverizing the ground powder in the presence of a solid lubricant having sublimation property at ordinary pressure to prepare the powder material substantially constituted of fine powder of the rare earth alloy whose surface is coated with the lubricant.例文帳に追加

希土類合金の粗粉砕粉末を準備する工程と、常温で昇華性を有する固体の潤滑剤が存在する状態で、粗粉砕粉末を微粉砕することによって、潤滑剤によって表面が覆われた希土類合金の微粉末から実質的に構成される粉末材料を調製する工程とを包含する。 - 特許庁

The wheel 12 is drivingly rotated by a motor 18 and therefore operators getting on steps 13b arranged on the scaffold structure can perform predetermined operations on the interior wall surface of the structure 1 and enhance operation efficiency.例文帳に追加

前記車輪１２は、モータ１８によって回転駆動されるように構成されており、したがって、足場構造体に配置されたステップ１３ｂに搭乗した状態で各作業員が構築物１の内壁面に対して所定の作業を実施することが可能であり、その作業能率を向上させることができる。 - 特許庁

The method comprises the steps of forming through-holes (14) in the substrate (10), placing a solder (42) on one surface of the substrate, and pressing the solder with a press (40) towards the substrate and heat-melting and embedding the solder in the through holes (14) of the substrate.例文帳に追加

基板（１０）に貫通孔（１４）を形成する工程と、該基板の一方の面にはんだ（４２）を配置する工程と、該はんだをプレス（４０）により前記基板の側に押圧すると共に、該はんだを加熱溶融させて、前記基板の貫通孔（１４）に埋め込む工程と、からなることを特徴とすることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the joining structure for the metallic body and the plastic body includes the steps of: preparing the metallic body; coating an adhesive on a surface of the metallic body; solidifying the adhesive; using the metallic body as an insert material to inject; and compound-molding fused plastic onto the solidified adhesive film.例文帳に追加

金属部材とプラスチック部材との接合構造の製造方法において、前記金属部材を用意するステップと、前記金属部材の表面に接着剤を塗布し、固化させるステップと、金属部材をインサート材とし、固化された接着剤層上に溶融プラスチックを射出して複合成型するステップと、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the hollow molding comprises the steps of: laying the prepregs on the inner surface of the cavity of a hollow mold; then superposing a bagging film on the laid prepreg, directly airtightly sealing the peripheral edge of the bagging film at the mold, evacuating a space between the bagging film and the hollow mold, heating in an autoclave by pressurizing and thereby curing the prepreg.例文帳に追加

中空型のキャビティ内面にプリプレグを敷設し、次いで敷設したプリプレグ上にバギングフィルムを重ねて当該バギングフィルム周縁を型に直接気密にシールしてバギングフィルムと中空型との間を排気すると共に、オートクレーブ内で加圧下加熱することによりプリプレグを硬化させる中空成形品の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the circuit substrate includes the steps of forming a plated resist layer 3 of predetermined thickness on the bump forming surface of a copper-clad of one or both surfaces, forming an opening for forming the bump and a register mark on the plated resist layer 3, and forming the bump 4 and the register mark 5 thick not protruding from this opening.例文帳に追加

片面あるいは両面の銅張り板のバンプ形成面に所定厚さのめっきレジスト層３を形成し、めっきレジスト層３にバンプおよび位置合わせ用ターゲット形成のための開口を形成し、この開口から突出しない厚さにバンプ４および位置合わせ用ターゲット５をめっきにより形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing the heteroepitaxial wafer includes the steps of homoepitaxially growing an SiC epitaxial layer 9 by a hydride vapor deposition directly on the main surface of the SiC substrate 1 made of an SiC single crystal, and heteroepitaxially growing the GaN compound semiconductor layer 3 by an organic metal vapor deposition on the SiC epitaxial layer 9.例文帳に追加

ＳｉＣ単結晶からなるＳｉＣ基板１の主表面直上に、ハイドライド気相成長法にてＳｉＣエピタキシャル層９をホモエピタキシャル成長させ、該ＳｉＣエピタキシャル層９の上に、有機金属気相成長法にてＧａＮ系化合物半導体層３をヘテロエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

This escalator device includes a number of steps 4 travelling between the getting-on platform 2 and getting-off platform of an escalator, an elevating device arranged in each step 4, and elevating a step board 11 forming a step surface for each step 4, and a sensor detecting the foot position of the passenger on the step 4 horizontally running from the getting-on platform 2.例文帳に追加

エスカレーターの乗り口２及び降り口間を走行する多数のステップ４と、各ステップ４に設けられ、踏面を形成する踏板１１をステップ４毎に昇降させる昇降装置と、乗り口２から水平走行するステップ４に乗っている乗客の足位置を検出するセンサとを備える。 - 特許庁

A method for making an interconnect structure includes the steps of: applying a first metal layer 24 to an electronic device 18, wherein the electronic device 18 comprises at least one I/O contact 23 and the first metal layer 24 is located on a surface of the I/O contact 23; and applying a removable layer 26 to the electronic device 18.例文帳に追加

電子デバイス１８に第１の金属層２４を適用する段階であって、電子デバイス１８は１以上のＩ／Ｏコンタクト２３を含み、第１の金属層２４はＩ／Ｏコンタクト２３の表面上に配置される段階と、電子デバイス１８に取外し可能な層２６を適用する段階とを含んでいる。 - 特許庁

There are provided: steps S2, S3 for forming the green sheet by applying mixed dielectric paste containing a first resin and a second one that can be polymerizable to the first one on a support and by polymerizing the first and second resins; and a step S4 for forming an electrode pattern layer on the surface of the green sheet.例文帳に追加

第１の樹脂及び前記第１の樹脂と重合可能な第２の樹脂を含む混合誘電体ペーストを支持体上に塗布し、第１及び第２の樹脂を重合させることによりグリーンシートを形成するステップ（Ｓ２，Ｓ３）と、グリーンシートの表面に電極パターン層を形成するステップ（Ｓ４）とを備える。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device includes steps of forming a semiconductor layer on an insulated surface, wet-oxidizing the edge of the semiconductor layer to form a first insulation layer, forming a second insulation layer on the semiconductor layer and the first insulation layer, and forming a gate electrode on the semiconductor layer and the first insulation layer via the second insulation layer.例文帳に追加

絶縁表面上に半導体層を形成し、半導体層の端部をウェット酸化して第１の絶縁層を形成し、半導体層上および第１の絶縁層上に第２の絶縁層を形成し、第２の絶縁層を介して、半導体層上および第１の絶縁層上にゲート電極を形成する。 - 特許庁

A method for manufacturing a spectacle lens in which an anti-fog layer is provided on a lens base material having an inorganic antireflection film with an SiO_2 layer formed on the outermost surface of the lens base material includes the following steps of: processing the SiO_2 layer of the inorganic antireflection film by a process liquid containing an inorganic alkali; and then forming a hydrophilic film.例文帳に追加

最外面にＳｉＯ_２の層を有する無機反射防止膜が形成されたレンズ基材上に、防曇層が設けられた眼鏡レンズの製造方法であって、前記無機反射防止膜のＳｉＯ_２の層を、無機アルカリを含む処理液で処理し、ついで、親水性膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

In a head chip 10 wherein piezoelectric elements 101, 102 having a plurality of rows of channel 103 formed therein and cover plates 104, 105 covering the plurality of rows of channel are laminated in one step or many steps, a groove 106 is formed on a surface parallel relative to the plurality of rows of channel.例文帳に追加

複数列のチャンネル１０３が形成された圧電素子１０１，１０２と、前記複数列のチャンネルをカバーするカバープレート１０４，１０５と、が一段又は多段に積層されたヘッドチップ１０において、前記複数列のチャンネルに対して平行な面に溝１０６が形成されていることを特徴とするヘッドチップ。 - 特許庁

The method further comprises the steps of forming an insulating film 4 so as to embed scratches 3a, 3b occurring on the surface of the film 2 at this polishing time, and then etching back under the condition where an etching selection ratio of the film 4 to the film 2 becomes '1' by reactive ion etching until the film 2 is exposed.例文帳に追加

この研磨時に層間絶縁膜２の表面に生じるスクラッチ３ａ、３ｂを埋め込むように絶縁膜４を形成した後、層間絶縁膜２に対する絶縁膜４のエッチング選択比が１になる条件で反応性イオンエッチングにより層間絶縁膜２が露出するまでエッチバックを行う。 - 特許庁

The method for manufacturing the coated inorganic building material comprises the steps of coating a powdery coating water-dispersion prepared by dispersing resin particles having a softening temperature of 10-250°C in water medium onto a surface of an inorganic base hydraulic substrate that has been cast into a form and not yet been hardened completely and curing and hardening the inorganic base hydraulic substrate and simultaneously hardening a coating film.例文帳に追加

型枠に流し込んだ硬化完了前の無機質系水硬性基材の表面に、軟化温度が１０℃〜２５０℃の樹脂粒子を水媒体中に分散させた水分散粉体塗料を塗布し、該無機質系水硬性基材を養生・硬化させ且つ塗膜を硬化させる、塗装無機質建材の製造方法。 - 特許庁

This testing device is provided with two or more of a surface shape testing device (3), a hardness testing device (5), and tensile testing device (6); a test piece transporting device (7) which transports the test piece in the order of testing steps; and a controller which automatically controls the transportation of the test piece and the testing work of each testing device.例文帳に追加

この試験装置は、表面性状試験装置（３），硬さ試験装置（５），引張試験装置（６）のうち２以上の装置、およびこの試験工程順に試験片を搬送する試験片搬送装置（７）、試験片の搬送及び各試験装置における試験作業を自動操作する制御装置を備えている。 - 特許庁

(1) The image forming method includes: a step of forming an image by jetting ink containing active energy-ray curable material and color material, on a surface of the recording medium by an inkjet recording method; a step of performing discharge treatment; and a step of curing the ink by irradiation with active energy rays, the steps being performed in this order.例文帳に追加

（１）記録媒体の表面に活性エネルギー線硬化性の材料及び色材を含有するインクをインクジェット記録方式により吐出して画像を形成する工程、放電処理を行う工程、活性エネルギー線を照射して硬化させる工程を有し、各工程をこの順に行う画像形成方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated vessel body which does not require repair of the resin layer on the inside surface of the vessel corresponding to welding point, lamination of a thermosetting resin, etc., in welding hand rings or washers to the laminated vessel body and is capable of performing welding by using the existing equipment without the need for providing fresh process steps, such as cooling.例文帳に追加

ラミネート缶体へ手環または座金の溶接を行うに際し、溶接箇所に対応する缶内面の樹脂層の補修や熱硬化性樹脂の積層等が不要であり、また、新たな冷却等の工程を設けることなく現状設備を用いて溶接することができるラミネート缶体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal spraying powder material for a corrosion-resistant film which is easily available and inexpensive, and contributes to simplification and automation of the thermal spraying steps, and the cost reduction, and from which the corrosion-resistant film having excellent corrosion resistance and adhesiveness can be formed by thermal spraying on the surface of a predetermined metallic material.例文帳に追加

入手が容易で低コストであるとともに、溶射加工工程の簡略化、自動化、及び低コスト化に寄与し、かつ、所定の金属材料の表面上に優れた耐食性及び密着性を有する耐食皮膜を溶射形成することが可能な耐食皮膜形成用溶射粉末材料を提供する。 - 特許庁

The method further comprises the steps of: coating a dual radiation curing/thermosetting sealing resin 20 between the peripheral part of the circuit element 10 and the wafer 1; curing the external surface of the sealing resin 20 by irradiating the sealing resin 20; and stopping the flow of the sealing resin 20 to the gap between the circuit element 10 and the wafer 1 at a predetermined position.例文帳に追加

回路素子１０の周縁部と基板１との間に放射線・熱硬化両用型の封止樹脂２０を塗布し、封止樹脂２０に放射線を照射して封止樹脂２０の外表面を硬化させ、回路素子１０と基板１との隙間への封止樹脂２０の流れを所定位置で停止させる。 - 特許庁

The method further comprises the steps of correcting a visual field of the camera 6 due to changes of imaging distance and gradient to the surface to be inspected, i.e., of an area of the photographed image per one pixel according to a calculating equation based on the measured distance data, and correcting the size (area) of the detected coating fault.例文帳に追加

そして、計測された距離データに基づいて、所定の計算式により、被検査面に対する撮影距離と傾きの変化によるＣＣＤカメラ６の視野、ひいては撮像された画像の１画素当たりの面積の大きさの変化を補正し、検出された塗装欠陥の大きさ（面積）を補正する。 - 特許庁

Paste prepared by mixing SiC, a liquid solvent, and a binder is applied to the electrode surface of a fuel cell electrode with a natural roll coater or the like (steps S1, S2, S3), and then smoothing treatment such as applying of the ultrasonic vibration, leaving to stand under humidified environment, or spraying the liquid solvent is conducted to the paste (step S4).例文帳に追加

ＳｉＣ、液体溶媒、バインダーを混合して形成したペーストを、ナチュラルロールコーター等により燃料電池電極の電極面に塗布した後（ステップＳ１，Ｓ２，Ｓ３）、その塗布後のペーストに超音波振動を与える、加湿環境下に放置する、液体溶媒を散布する等の平滑化処理を行う（ステップＳ４）。 - 特許庁

The method for processing a grounding surface of a tire comprises the steps of analyzing fundamental data of the tire by an FEM to obtain a grounding position and a grounding pressure, generating a grounding image from these data, further coloring the image in a predetermined gradation width, and further generating a binarized image displaying a profile of a grounding shape by using predetermined threshold value.例文帳に追加

タイヤの基礎データをＦＥＭにより解析して接地位置と接地圧力を求め、これらのデータから接地面画像を生成して、さらに、この接地面画像に所定の階調幅で色づけを行い、さらに、所定の閾値を用いて接地形状の輪郭を表す二値化画像を生成するものである。 - 特許庁

A method for projection welding comprises the steps of: supplying the projection 14 having an annular recess 16 provided on the periphery thereof and collapsed by pressurizing at a resistance welding time; and fixedly welding the end face 22 of the member 12 to be welded in the close contact state with the surface 20 of the member 10 to be welded.例文帳に追加

突起１４の周囲に環状凹所１６が設けられ、抵抗溶接時の加圧で押し潰された突起１４がその環状凹所１６内へ流入させられることにより、被溶接部材１２の端面２２が被溶接部材１０の板面２０に密着する状態で溶接固定されるようにした。 - 特許庁

This method comprises the following steps of spraying a solution comprising a titanium compound onto the surface of a glass substrate heated at the temperature of 500°C or higher, forming a primary coating comprising titanium oxide of 40 to 100 nm thickness through thermal decomposition followed by reheating at the temperature of 550 to 650°C to form a secondary coating comprising titanium oxide.例文帳に追加

５００℃以上に加熱したガラス基板表面にチタン化合物よりなる溶液をスプレー噴霧し熱分解、成膜させて該ガラス基板上に膜厚４０〜１００ｎｍを有する第一次の酸化チタン被膜を形成したのち、５５０〜６５０℃の温度に再加熱し第二次の酸化チタン被膜を形成させること - 特許庁

The method of forming the microstructure on a surface of the aluminum metal or the aluminum alloy includes the steps of: (a) preparing a base material including the aluminum metal or the aluminum alloy; (b) immersing the base material in a liquid containing water; and (c) keeping the liquid in an enclosed space at 80-180°C.例文帳に追加

アルミニウム金属またはアルミニウム合金の表面に、微細構造を形成する方法であって、（ａ）アルミニウム金属またはアルミニウム合金を含む基材を準備するステップと、（ｂ）水を含む液体中に、前記基材を浸漬させるステップと、（ｃ）前記液体を、密閉空間内で８０℃〜１８０℃に保持するステップと、を有する方法。 - 特許庁

A method for measuring the ion implantion amount comprises the steps of selecting specific ion species by an ion beam from an ion source 1 by a mass analyzer 2, accelerating the beam by an accelerator 3 to become a prescribed implanting energy state, so as to arrive at a surface of a semiconductor base 11 in an end station 6, and thus ion implanting in the semiconductor base.例文帳に追加

イオンソース部１からのイオンビームが質量分析部２で特定のイオン種が選択され、そのイオンビームが加速部３で加速されて所定の注入エネルギーとなされた状態で、エンドステーション部６内の半導体基体１１の面上に到達することで、半導体基体へのイオン注入が行われる。 - 特許庁

With the use of a mis-orientated wafer 10 with a plurality of steps 11 and terraces 12 formed by rearranged surface silicon atoms, a MOS field-effect transistor is structured with a very thin crystalline silicon dioxide film 15 which is grown epitaxially on the terrace 12 of the wafer 10 as a gate insulating film.例文帳に追加

表面シリコン原子の再配列によって形成した複数のステップ１１およびテラス１２を有するミスオリエンテーション基板１０を用いて、その基板１０のテラス１２上にエピタキシャル成長させた極薄の結晶質二酸化シリコン膜１５をゲート絶縁膜としてＭＯＳ電界効果型トランジスタを構成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the angular velocity sensor element has the steps of: pasting a film tape 36 to a top surface of an Si wafer 34; peeling the film tape 36 from the Si wafer 34; and simultaneously eliminating the machining debris 37 produced at the time of laser irradiation by adsorbing the debris onto the film tape 36.例文帳に追加

本発明の角速度センサ素子の製造方法は、Ｓｉウエハ３４の上面にフィルムテープ３６を貼付した後、前記フィルムテープ３６をＳｉウエハ３４から剥離すると同時に、レーザ照射時に発生した加工屑３７をフィルムテープ３６に吸着させることにより除去する工程を設けたものである。 - 特許庁

To provide a method for forming a heat insulative coating film capable of forming the coating film having a film thickness of the order of mm on a surface of an exterior face of a building by a relatively few steps, preventing generation of expansion and peeling off in the formed coating film and exhibiting a stable heat insulation property for a long period of time.例文帳に追加

建築物外装面の表面に対し、比較的少ない工程でｍｍオーダーの厚膜の塗膜が形成でき、かつその形成塗膜における膨れ、剥れ等の発生を防止することができ、長期にわたって安定した断熱性能を発揮することが可能な断熱性塗膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming an oxide film (silicon oxide film) 13 on a semiconductor substrate (silicon substrate) 11, then conducting a plasma process for nitriding only a surface of the film 13 to form a nitride layer 14, and thereafter forming the silicon nitride film 15 on the plasma processed film 13.例文帳に追加

半導体基板（シリコン基板）１１上に酸化膜（酸化シリコン膜）１３を形成した後、酸化シリコン膜１３の表面のみを窒化するプラズマ処理を行って窒化層１４を形成し、その後、プラズマ処理を行った酸化シリコン膜１３上に窒化シリコン膜１５を形成することで、上記課題を解決する。 - 特許庁

The method for manufacturing an integrated circuit device according to an embodiment comprises the steps of: etching a metal member by using a gas containing halogen; forming a silicon oxide film so as to cover an etched surface of the metal member, without exposing the etched metal member to the atmosphere; and removing the silicon oxide film.例文帳に追加

実施形態に係る集積回路装置の製造方法は、ハロゲンを含むガスを用いて金属部材をエッチングする工程と、エッチングされた前記金属部材を大気に曝すことなく、前記金属部材のエッチング面を覆うようにシリコン酸化膜を形成する工程と、前記シリコン酸化膜を除去する工程と、を備える。 - 特許庁

The method for treating a surface of a magnesium alloy member, includes the steps of: (a) preparing a magnesium alloy member containing aluminum; and (b) holding the magnesium alloy member in an environment containing water vapor at the pressure of 0.25-1.0 MPa in the temperature of 170-190 °C.例文帳に追加

マグネシウム合金部材の表面処理方法であって、（ａ）アルミニウムを含むマグネシウム合金部材を準備する工程と、（ｂ）前記マグネシウム合金部材を、１７０℃〜１９０℃の温度で、０．２５ＭＰａ〜１．０ＭＰａの圧力の水蒸気を含む環境に保持する工程と、を有することを特徴とする表面処理方法。 - 特許庁

A method of applying the sealing members 30, 32 to the gaps between the platforms formed as a result of the connection between the blades 22 includes the steps of: fixing the series of stator blades 22 on an inner frame and an outer frame; and sealing the series of sealing members 30, 32 on the back surface of a stator blade frame.例文帳に追加

翼部２２間の連結に起因し形成されるプラットホーム間の間隙にシール部材３０，３２を取付ける方法は、内側フレーム及び外側フレーム上に一連のステータ翼部２２を固定する段階と、ステータ翼フレームの裏側表面に一連のシール部材３０，３２を密封する段階とを含む。 - 特許庁

A method for manufacturing stacked oxide material comprises steps of: forming an oxide member on a base member; forming a first oxide crystal member which is made crystal growth from a surface toward the inside of the oxide member by applying heat treatment; and stacking and forming a second oxide crystal member on the first oxide crystal member.例文帳に追加

下地部材上に、酸化物部材を形成し、加熱処理を行って表面から内部に向かって結晶成長する第１の酸化物結晶部材を形成し、第１の酸化物結晶部材上に第２の酸化物結晶部材を積層して設ける積層酸化物材料の作製方法である。 - 特許庁

The method also includes the steps of then forming each convex part 12a and flanking GaN consisting of selecting growth layer 14 in air gap portion 12c between the lower surface and footprint of trench 12b like as elaborate on the seed layer 12.例文帳に追加

続いて、凸部１２ａ同士に挟まれてなる各凹部１２ｂの底面及び壁面上に窒化シリコンからなるマスク膜１３を形成し、その後、シード層１２の上に、各凸部１２ａと接するようにＧａＮからなる選択成長層１４をその下面と溝部１２ｂの底面との間に空隙部１２ｃが設けられるように形成する。 - 特許庁