「surface steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

This surface treatment method for the sliding member comprises steps of, (1) preparing a treatment liquid by means of adding a metal salt into an aqueous solution containing magnesium ion, ammonium ion, and a fluoride ion, and (2) dipping an article to be treated in the treatment liquid at a temperature condition of 70-98°C.例文帳に追加

マグネシウムイオン、アンモニウムイオン及びフッ化物イオンを含む水溶液に金属塩を添加することによって処理液を作製するステップと、７０〜９８℃の温度状態の処理液中に被処理物を浸漬するステップとを含んでなる摺動部材の表面処理方法である。 - 特許庁

A method for manufacturing a composite element comprises the steps of: disposing a member close to a surface of a nonwoven fabric formed by a plurality of filaments comprising a thermoplastic polymer material; and heating and compressing the member and the nonwoven fabric to join the nonwoven fabric with the member.例文帳に追加

熱可塑性ポリマー材料を含む複数のフィラメントから形成された不織布帛の表面に近接して部材を配置する工程と、前記部材および前記不織布を加熱、および圧縮して、前記部材を前記不織布帛に結合する工程とを含む、複合要素を製造する方法。 - 特許庁

To easily and reliably planarize steps formed on a semiconductor substrate without using the COM method, and obtain a superior flatness over a wide area of the semiconductor substrate surface without bringing about the process increase or cost up, thereby realizing a high speed operation with a little wiring delay.例文帳に追加

ＣＭＰ法を用いずに半導体基板上に生じた段差を容易且つ確実に平坦化し、工程増やコスト高を招来することなく半導体基板表面の広範囲で優れた平坦性を得ることにより、配線遅延の少ない高速動作化を実現する。 - 特許庁

The polymer base material having the phospholipid membrane 17 is manufactured by steps of forming the graft chain 12 having an alkylene group on a surface of the hydrophobic polymer base material 11, immersing the polymer base material 11 in a suspension in which the phospholipid 14 is dispersed, and pulling it out of the suspension and drying it.例文帳に追加

このリン脂質膜１７を有する高分子基材は、疎水性高分子基材１１の表面にアルキレン基よりなるグラフト鎖１２を形成し、該疎水性高分子基材１１をリン脂質１４が分散されている懸濁液中に浸漬した後、引き上げて乾燥させることにより得られる。 - 特許庁

To provide a thermal insulation method for the wall surface of a low-temperature tank or the like capable of eliminating the use of an existing spacer or minimizing the use to reduce the number of steps, shorten a construction period of time, reduce construction cost, and saving labor and also constructing a well finished thermal insulated layer.例文帳に追加

既製スペーサーの使用を省く、あるいは、その使用を最少限にして工程数の削減、工期の短縮、施工コストの低減及び省力化を図るとともに、仕上がりのよい断熱層を施工できる低温タンク等の壁面の防熱施工法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a urethane molded product, enabling a reduction of production steps, operation manpower and production cost especially in in-mold coating performing molding and coating of the molded product simultaneously, and enabling mirror finishing of the coated surface of the molded product.例文帳に追加

ウレタン成形品の製造方法、特に、成形品の成形と塗装を同時に行うインモールドコートにおいて、製造工程、作業人数、製造コストを削減すると共に、成形品の塗装面に鏡面加工を施すことができるウレタン成形品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for mounting the optical device comprises the steps of providing electrodes 127, 128 on the board 12 for placing the optical device 120 having the stepwise difference on the surface opposite to the mounting substrate 121; and forming an area ratio of the electrodes 127, 128 to solder patterns 124, 125 to different values at respective wiring electrodes when the electrodes 127, 128 are provided.例文帳に追加

搭載用の基板１２１に対向する表面に段差を有する光デバイス１２０を搭載する基板１２１に電極１２７、１２８を設ける際、各電極１２７、１２８とはんだパターン１２４、１２５の面積比を配線電極部毎に異なるように形成する。 - 特許庁

A method for manufacturing the capacitive element comprises the steps of forming a trench on the surface of a base, forming a separate insulation film 2 in the trench, and forming a lower electrode 23 in the bottom of a recess provided at an opposite side to the base, a dielectric layer 24 on the lower electrode and an upper electrode 25 on the dielectric layer.例文帳に追加

基体の表面にトレンチを形成、トレンチ内に分離絶縁膜２を形成し、前記基体と反対側に設けた凹部の底部上に下部電極２３を、前記下部電極上に誘電体層２４を、前記誘電体層上に上部電極２５を、それぞれ形成する。 - 特許庁

The method includes the steps of applying the photo-curable resin and spraying anti-skid aggregate such as silica sand or the like over a floor surface, then curing the resin through irradiation with light, and further applying the photo-curable resin, wherein this anti-skid aggregate is silica dioxide having a purity of 99% or more without containing oxides of metals such as iron.例文帳に追加

床面に光硬化樹脂を塗布し硅砂等の防滑用骨材を散布した後、光照射硬化させること、また、さらに光硬化樹脂を塗布し、この防滑用骨材は鉄等の金属酸化物が含まれないもので、純度９９％以上の二酸化ケイ素とすることである。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises the steps of forming a first insulating film 3 on an n-type high concentration substrate 1 after growing an I-layer 2 having a relatively low impurity concentration on the main surface of the substrate 1, and exposing the I-layer 2 in a peripheral portion by removing an unnecessary portion of the film 3.例文帳に追加

ｎ型高濃度基板１の主面上に相対的に不純物濃度が低いＩ層２を成長させた後、ｎ型高濃度基板１上に第１絶縁膜３を形成し、第１絶縁膜３の不要部分を除去して、周辺部分のＩ層２を露出させる。 - 特許庁

The method for preventing the short circuit in a construction of an electric corrosion protection method includes steps for: moving a magnet which is placed in a groove formed on a groove-forming surface of a reinforced concrete structure along the groove; and applying short-circuit preventing treatment to a part where an attractive force of the magnet is generated.例文帳に追加

鉄筋コンクリート構造物の溝形成面に形成された溝内に磁石を入れた状態で、前記溝に沿って前記磁石を移動させ、該磁石の吸引力が生じた部分に短絡防止処理を施す電気防食工法における短絡防止方法。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a gate electrode 3 on a semiconductor substrate 1 via an insulating film 2, and forming a p-type base region 6 and an n+ type emitter region 7 on a thin film semiconductor layer 11 formed on the electrode 3 via an insulating film 5 through a coupled semiconductor 12 from the surface of the substrate 1.例文帳に追加

半導体基板1 上に絶縁膜2 を介してゲート電極3 を形成し、半導体基板1 表面から連結半導体部12を経てゲート電極3 上に絶縁膜5 を介して形成された薄膜半導体層11にｐベース領域6 、ｎ^+ エミッタ領域7 を形成する。 - 特許庁

The method for stencil printing comprises the steps of selectively extending a perforated part by giving the electrical stimulus so as to reproduce a desired image on a surface of the original plate, and transferring an image forming material onto a recording medium by passing the forming material from the extended perforated part.例文帳に追加

該原版の表面に、所望の画像を再現するように電気的刺激を与えて穿孔部を選択的に拡張させ、この拡張した穿孔部から画像形成材料を通過させて記録媒体上に当該画像形成材料を転移させる孔版印刷方法。 - 特許庁

To provide a reinforcing fiber fabric having highly reinforcing effect without causing bowing and stitch dislocations in its winding and filling steps, and to provide a reinforcing fiber sheet free of surface unevenness and good in quality in terms of appearance.例文帳に追加

補強繊維織物の巻取り工程および該補強繊維織物を目止め処理する工程において、布目曲がりおよび目ずれを起すことなく、優れた補強効果を備えた補強繊維織物、および表面に凹凸のない、外観上良質な補強繊維シートを提供することにある。 - 特許庁

When one wall surface has more than two openings for sash fitting, those openings are regarded as one opening (step S4), and then external wall and internal wall parts in the plan are divided in SA units and grouped through an outer periphery dividing process (steps S5 and S6).例文帳に追加

そして、１つの壁面が２つ以上のサッシ取付用開口を有している場合、それらの開口を１つの開口と見なし（ステップＳ４）た後、平面図中における外壁および内壁部分をＳＡ単位に分割し、グルーピングする外周分割処理を行う（ステップＳ５，Ｓ６）。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of introducing the impurity into a semiconductor substrate while depositing a layer to become an impurity diffusion source on a surface of the substrate, and then heat treating the substrate for a sufficient time to stabilize a quality of the deposited layer to become the impurity diffusion source.例文帳に追加

半導体基板表面に不純物拡散源となる層を堆積させながら半導体基板内に不純物を導入した後、堆積した不純物拡散源となる層の膜質を安定化させるのに十分な時間熱処理することからなる半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A method for producing the ceramic metallized component is disclosed which is used for producing the ceramic metallized component made into an integrated component having air-tightness using a metal component and brazing and includes the steps of coating the surface of the metallized layer with paste-like nickel powder, and drying and baking the paste-like nickel powder to form a nickel layer.例文帳に追加

金属部品とろう付けにより気密性のある一体部品にするセラミックスメタライズ部品において、このメタライズ層の上にペースト状のニッケルパウダーを塗布、乾燥、焼付け処理してニッケル層を形成する工程のセラミックスメタライズ部品の製造方法を採用する。 - 特許庁

The SiCMOS structure is formed by the steps which include a step where a relaxing SiGe layer is formed on a substrate surface, a step where a separation region and a well implanting region are formed in the relaxing SiGe layer, and a step where a strain Si layer is formed on the relaxing SiGe layer.例文帳に追加

基板表面上に緩和ＳｉＧｅ層を形成するステップと、前記緩和ＳｉＧｅ層内に分離領域およびウェル打込み領域を形成するステップと、前記緩和ＳｉＧｅ層上に歪みＳｉ層を形成するステップとを含むステップで、歪みＳｉＣＭＯＳ構造が形成される。 - 特許庁

Thus, an operator M can step forwards with small steps respectively between a ground surface G and the step 24 for getting-on-and-off, between the step 24 and the auxiliary step 25 and between the auxiliary step 25 and the floor plate 22, and can get on and off to and from a driver's seat 10 rapidly and safely.例文帳に追加

これにより、オペレータＭは、地面Ｇと乗降用ステップ２４との間、乗降用ステップ２４と補助ステップ２５との間、補助ステップ２５と床板２２との間を、それぞれ小さな歩幅をもって踏み進むことができ、運転席１０に迅速かつ安全に乗降することができる。 - 特許庁

An assembly fence is provided with a plurality of pile bodies 1 erected while a lower side part is buried into the ground, a plate laying member 2 attached to an upper side part of each pile body, and a soil retaining plate 3 laid horizontally at a plurality of upper and lower steps between the plate laying members to support rear surface soil B.例文帳に追加

下側部分を地中に埋設する状態に立設される複数本の杭体１と、この各杭体の上側部分に取り付けられる板架け部材２と、この板架け部材の間に上下複数段に横架されて背面土Ｂを支える土留板３とを備えている。 - 特許庁

The refrigerating machine for the refrigerated vehicle is provided with a wall temperature sensor 50 detecting a temperature of the inner wall surface of the cold insulation box 10, and an electronic control unit 40 controls refrigerating units 20 and 30 on the basis of a detected value of the wall temperature sensor 50 to carry out heating operation (steps 160-200).例文帳に追加

冷凍車用冷凍機は、保冷庫１０の内壁面の温度を検出する壁温度センサ５０を備えており、電子制御装置４０が壁温度センサ５０の検出値に基づいて冷凍ユニット２０、３０を制御して加熱運転を実施する（ステップ１６０〜２００）。 - 特許庁

To provide a method for dividing a wafer capable of easily establishing a series of steps for forming a uniform deterioration layer in a wafer along a predetermined division line, dividing a wafer into chips, applying an adhesive film for die bonding to the rear surface of the divided chips, and picking up the divided chips.例文帳に追加

分割予定ラインに沿ってウエーハの内部に均一な変質層を形成することで、ウエハのチップ分割、分割チップ裏面へのダイボンディング用接着フィルムの貼着、及び分割チップのピックアップ等の一連の工程の確立が容易なウエーハの分割方法を提供する。 - 特許庁

The method further comprises the steps of preheating the sheet 14, thermally bringing the sheet 14 into close contact with an outer peripheral surface of a heating endless belt 57, planar pressing a fourth heating roll 45 and the heating endless belt 57, sequentially separating the roll 54 and the belt 57 in this order, and manufacturing the sheet.例文帳に追加

原反シート１４を予熱した後に、加熱用無端ベルト５７の外周面に熱密着させ、第４の加熱ロール５４および加熱用無端ベルト５７間で加熱しつつ面状押圧し、第４の加熱ロール５４および加熱用無端ベルト５７の順で剥離して製造する。 - 特許庁

The forming method of the silicon oxynitride film includes the steps of: applying a film-forming composition including a polysilazane compound on a substrate surface to form a coating film; removing an excessive solvent in the coating film; and applying ultraviolet rays to the coating film whose solvent is removed under a temperature condition of less than 150°C.例文帳に追加

基板表面にポリシラザン化合物を含む被膜形成用組成物を塗布して塗膜を形成させ、前記塗膜に含まれる過剰の溶媒を除去し、溶媒除去後の塗膜を１５０℃未満の温度条件下で紫外線を照射することを含むシリコンオキシナイトライド膜の形成方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the heat resistant structure includes the steps of: coating or impregnating at least the surface of the fibrous formed body with a coating material containing the crystalline glass powder; firing the fibrous formed body coated or impregnated with the coating material at 800-1,350°C.例文帳に追加

前記繊維質成形体の少なくとも表面に、結晶性ガラス粉末を含むコーティング材を塗布又は含浸する工程、及び、該コーティング材が塗布又は含浸された繊維質成形体を８００〜１３５０℃で焼成する工程を含む耐熱構造体の製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a wiring substrate capable of eliminating the need of complicated post-steps by preventing extra conductive materials from existing on the surface of a manufactured wiring substrate and efficiently manufacturing a wiring substrate on which a through hole is filled with a conductive material.例文帳に追加

基板の製造後に当該基板の表面上に余分な導電材が存在しないようにすることによって煩雑な後工程を必要とせず、スルーホール内に導電材が充填された配線用基板を効率よく製造することができる方法を提供すること。 - 特許庁

The method includes the steps of: applying a liquid crystal ink containing liquid crystal molecules on a substrate and aligning the liquid crystal molecules on the substrate; blowing gas to the back surface of the substrate coated with the liquid crystal ink to lift the substrate and convey the substrate; and fixing the liquid crystal molecules on the conveyed substrate.例文帳に追加

基板に液晶分子を含む液晶インクを塗布し、基板上で液晶分子を配向させるステップ、液晶インクを塗布された基板の裏面に気体を吹き付けて基板を浮上させ、基板を搬送するステップ、及び搬送された基板上の液晶分子を固定するステップを含む。 - 特許庁

The method of producing the drain pipe comprises the steps of charging stiff-consistency concrete 36 into a molding space defined by an outer form 31 and an inner form 30 having an inclined molding surface, compacting the concrete by applying vibration to the same, and thereafter axially moving the forms and instantaneously stripping the same.例文帳に追加

本発明の製造方法は、外型枠３１と傾斜した成型面を有する内型枠３０で形成される成型空間に硬練りコンクリート３６を投入し、振動を加えて締め固めた後、それらの型枠を軸心方向に移動させて即時脱型する。 - 特許庁

The method of forming the stain-proofing layer on at least one side of the treated subject using an stain-proofing agent comprises the steps of pretreating at least one side of the treated substrate and forming the stain-proofing layer and deposits the stain-proofing layer on the surface on which pretreatment is performed.例文帳に追加

被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。 - 特許庁

The method for growing crystals of the group III nitride semiconductor includes steps of: heating a silicon substrate 100; and forming a concave structure 105 on a surface of the heated silicon substrate 100 by advance-feeding a gas containing at least TMA (trimethylaluminum).例文帳に追加

このＩＩＩ族窒化物半導体の結晶成長方法は、シリコン基板１００を加熱する工程と、加熱されたシリコン基板１００に対して、少なくともＴＭＡ（トリメチルアルミニウム）を含むガスを先出し供給することにより、基板表面に凹状構造１０５を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing a flexible substrate includes steps of: applying a precursor including an inorganic polymer on the flexible substrate; curing the precursor including the inorganic polymer; and oxidizing a surface of the cured precursor including the inorganic polymer to form an oxide layer.例文帳に追加

本発明によるフレキシブル基板の製造方法は、フレキシブル基板上に無機ポリマーを含む前駆体を塗布する段階と、前記無機ポリマーを含む前駆体を硬化する段階と、硬化された前記無機ポリマーを含む前駆体の表面を酸化し、酸化膜を形成する段階と、を備える。 - 特許庁

The method comprises the steps of making an inorganic thin film deposited on a substrate, forming a hemispherical photoresist pattern on the inorganic thin film, and forming a microlens of the hemispherical inorganic thin film by carrying out a whole surface etch back process for the inorganic thin film.例文帳に追加

基板上に無機物薄膜を蒸着するステップと、前記無機物薄膜上に半球状のフォトレジストパターンを形成するステップと、前記無機物薄膜に全面エッチバック工程を行い半球状無機物薄膜のマイクロレンズを形成するステップとを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for deodorizing the container comprises the steps of coating a photocatalyst on the inner surface of the storage unit, and replaceably disposing a deodorizing material containing a metal phthalocyanine compound on the periphery of the generator.例文帳に追加

有機酸類を含む臭気を発生する臭気発生体が収容された収容体内部の消臭方法であって、収容体の内面に光触媒をコーティングすると共に、金属フタロシアニン化合物を含む消臭材を臭気発生体の周囲に取り替え可能に配置する。 - 特許庁

The method for manufacturing the grating made from the colored stainless steel includes the sequential steps of: electropolishing the grating made from stainless steel; and anodizing the electropolished grating to thereby form a colored film on the grating surface part.例文帳に追加

本発明の着色ステンレス製グレーチングの製造方法は、ステンレスからなるグレーチングを電解研磨する電解研磨工程と、電解研磨されたグレーチングを陽極酸化し、それによりグレーチングの表面部上に着色皮膜を形成させる陽極酸化工程と、を順次備える。 - 特許庁

The plating method comprises the steps of: forming a resin layer 10 on a support substrate; cutting a surface portion of the resin layer 10 by means of a byte 12; forming a seed layer on the resin layer 10 by an electroless plating method; and forming the plating film on the seed layer by an electroplating method.例文帳に追加

支持基板上に樹脂層１０を形成する工程と、樹脂層の表層部をバイト１２により切削する工程と、樹脂層上に無電解めっき法によりシード層を形成する工程と、シード層上に電気めっき法によりめっき膜を形成する工程とを有している。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical device by which the optical device is molded with the minimum steps without causing optical defects such as cloudiness or crack and without causing the fusion of glass or the deposition of produced material on the surface of a mold in press molding.例文帳に追加

曇りやクラックなどによる光学的な不具合が発生してしまうことなく、また、加圧成形に伴って成形型の表面にガラスの融着や生成物の析出が生じてしまうことがなく、最小限の工程で光学素子を成形することが可能な光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method has steps of: preparing a first and a second sliding member each having a diamond thin film on the surface of a basis material made of ceramics; and smoothing the respective surfaces of the diamond thin films by allowing the respective diamond thin films of the first and the second sliding part to rub together.例文帳に追加

セラミック製の基材表面にダイヤモンド薄膜を有する第一摺動部材と第二摺動部材とを用意する工程と、第一摺動部と第二摺動部のダイヤモンド薄膜同士を擦り合わせることでダイヤモンド薄膜表面を平滑にする工程とを具える。 - 特許庁

The method also comprises the steps of supplying a cooling liquid to a cooling fluid passage 24 formed at either the mold 11 or the mold 12 in the case of taking out the product molded in the cavity 14, then supplying the fluid and cooling the inner surface of the cavity 14.例文帳に追加

キャビティ１４内で成形された樹脂製品を取り出す際に、固定金型１１と可動金型１２との少なくともいずれか一方に形成された冷却流体通路２４に、冷却用液体を供給した後に冷却用気体を供給して、キャビティ１４の内面を冷却する。 - 特許庁

To avoid vertically projecting peripheral end burrs growing during forming information memory medium, improve the flatness or bond ability of the peripheral end in lamination steps to obtain a high-reliability substrate by holding the peripheral burrs in the same direction as that of the substrate surface and releasing from dies.例文帳に追加

情報記憶媒体を成形する際に生じる外周端部バリを基板面と同一方向に維持して離型することにより、外周端部バリの垂直方向への突出を回避し、貼り合わせ時における外周端の平面性や接合性を向上させ、信頼性の高い基板を得ること。 - 特許庁

The method has steps of forming a concave groove 3 outside a forming region of a semiconductor device 2, along at least one of dicing lines 5a disposed in the same direction, on the surface of a substrate 1 where the semiconductor device 1 is mounted; and filling the resin also into the concave groove 3 when the substrate is integrally sealed with a sealing resin 4.例文帳に追加

半導体素子を搭載する基板１の表面に、同じ方向に並ぶ少なくとも１つのダイシングライン５ａに沿って、半導体装置２の形成領域外に凹溝３を形成し、封止樹脂４で一括封止する際に、凹溝内にも樹脂を充填する。 - 特許庁

Hanger racks 40 hanging and supporting mat-like cold storage agents A folded into two are installed in a multiple steps in a freezing chamber 12 and cold air is blown out along a deepest wall 12A, is blown out forward, and thereafter is circulated and supplied so as to rise up along the rear surface of an insulating door 15.例文帳に追加

二つ折りされたマット状蓄冷剤Ａを吊り下げ支持するハンガーラック４０が凍結室１２内に複数段に装着されるとともに、冷気が奥壁１２Ａに沿うように吹き出されて前方に吹き抜けたのち断熱扉１５の裏面に沿って立ち上るように循環供給される。 - 特許庁

To reduce, as much as possible the probability of the occurrence of a curtain-like ununiformal supply of treatment liquid on a substrate surface, by supplying an amount of two steps of the treatment liquid like a curtain, and to improve the performance of replacement of the treatment liquid by increasing the amount of supply of treatment liquid.例文帳に追加

処理液の供給を少なくとも２段分のカーテン状にして行うことでカーテンの基板の表面での処理液の供給の不均一の発生確率を極力低減させ、かつ処理液の供給量の増大によって処理液の置換性能を向上させる。 - 特許庁

To obtain a surge absorber and a manufacturing method thereof, wherein while securing its good mountable property by making flat its top surface whereunder its transient-voltage protection material is formed, its bank portions are made unnecessary to be able to form its transient-voltage protection material on its insulation board in a state of eliminating steps, and to improve its mounting efficiency and reduce its cost.例文帳に追加

過渡電圧保護材を形成した上面を平坦化して良好な実装性を確保しつつ、土手部を不要にして過渡電圧保護材を段差のない状態で絶縁基板上に形成できるサージアブソーバ及びその製造方法を得、実装効率の向上、低コスト化を図る。 - 特許庁

Taking steps 1 to 3, a fluid is sealed within a container 1 provided with a solar battery module 20 on the external surface 20 and the fluid naturally cooled in the night is used to cool in the daytime the solar battery module 20 via the component materials of the container 1.例文帳に追加

順次下記工程１〜３を経て、外面に太陽電池モジュール２０を実装した容器１に対し、その内部に流体を密閉し、夜間にて自然冷却した流体を用いて、昼間において太陽電池モジュール２０に対し容器１の構成材から成る部材を通して冷却するように成す。 - 特許庁

This method for manufacturing a photovoltaic device comprises the steps of forming a substantially true i-type amorphous silicon layer 2a on the surface of an n-type single crystal silicon substrate 1, and thereafter introducing hydrogen into the substantially true i-type amorphous silicon layer 2a.例文帳に追加

この光起電力装置の製造方法は、ｎ型単結晶シリコン基板１の表面上に実質的に真性なｉ型非晶質シリコン層２ａを形成する工程と、この後、前記実質的に真性なｉ型非晶質シリコン層２ａに水素を導入する工程とを備えている。 - 特許庁