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surface stepsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1742件
The method of manufacturing the fuel cell catalyst layer includes the steps of: forming a dendritic structure member including a catalyst precursor by vapor phase method; providing a coating layer on a surface of the dendritic structure member; and subjecting the dendritic structural member having the coating layer provided thereon to a reduction treatment.例文帳に追加
燃料電池用触媒層の製造方法であって、触媒の前駆体からなる樹枝状構造体を気相法により形成する工程と、前記触媒の前駆体からなる樹枝状構造体の表面に被覆層を設置する工程と、前記被覆層が設置された前記触媒の前駆体からなる樹枝状構造体に還元処理を行う工程と、を有する燃料電池用触媒層の製造方法。 - 特許庁
The method of manufacturing organic electroluminescent panels comprising steps of oppositely disposing a first substrate having an anode on it and a second substrate having a cathode on it with their electrode surfaces faced to each other and placing an organic layer between the electrodes, wherein a layer constituting a laminated surface of at least one of the substrates is bonded after heated at its Tg temperature (glass transition temperature) or lower.例文帳に追加
陽極が形成された第1の基板と、陰極が形成された第2の基板を、互いに電極面を対向させ、電極間に有機層を挟持するよう貼り合せ、形成する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、少なくとも一方の基板の貼り合わせ面を構成する層を、そのTg温度以下の温度で加熱した後に貼り合わせることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。 - 特許庁
The method of manufacturing a semiconductor memory device includes steps of: forming a floating gate electrode FG above a semiconductor substrate 101; forming an electrode-to-electrode insulating film 108 above the floating gate electrode FG; forming a radical nitride film 109 on the surface of the insulating film 108 through radical nitriding; and forming a control gate electrode CG on the radical nitride film 109.例文帳に追加
半導体記憶装置の製造方法は、半導体基板101の上方に浮遊ゲート電極FGを形成する工程と、この浮遊ゲート電極FGの上方に電極間絶縁膜108を形成する工程と、ラジカル窒化により、電極間絶縁膜108の表面にラジカル窒化膜109を形成する工程と、このラジカル窒化膜109上に制御ゲート電極CGを形成する工程とを具備する。 - 特許庁
To provide a polishing pad and an apparatus and method for polishing capable of speedily eliminating global steps by selectively polishing protrusion of concavity and convexity on the surface of semiconductor wafer in planarization of semiconductor wafer with CPM and obtaining a high quality semiconductor wafer with less concavity such as dishing or thinning and scratch mark or residual dust in the polishing of metal wiring or STI.例文帳に追加
CMPによる半導体基板の平坦化において、半導体基板表面の凹凸の凸部を選択的に研磨することでグローバル段差が速く解消でき、また、金属配線やSTIにおける研磨においてもディッシングやシンニングなどの凹み量が少なく、かつスクラッチ傷や残存ダストが少ない高品位な半導体基板を得ることが可能な研磨パッドおよび研磨装置および研磨方法を提供するものである。 - 特許庁
A method for releasing an electrostatic chuck includes steps of supplying charge of a reverse polarity to charge generated on the rear surface of the material W to be treated, electrostatically attracted to a placing base 4 for electrostatically attracting the material W by applying a voltage to a chuck electrode 46, and releasing the material from the base 4.例文帳に追加
少なくとも裏面部が導体または半導体からなる被処理体Wに対して所定の処理を行うための処理容器の処理容器内に設けられ、チャック電極46に電圧を印加することにより被処理体Wを静電吸着する載置台4に静電吸着された前記被処理体Wの裏面部に発生している電荷とは逆の電荷を供給し、載置台4から脱離するようにする。 - 特許庁
The method for producing the liquid crystal polymer composition according to the present invention comprises the steps of introducing a functional group capable of binding to a monomer that composes a liquid crystal polymer molecule onto the surface of an inorganic filler and mixing the inorganic filler on which the functional group has been introduced with the monomer that composes the liquid crystal polymer molecule so as to subject the thus obtained mixture to a polymerization reaction.例文帳に追加
本発明に係る液晶ポリマー組成物の製造方法は、無機フィラーの表面に、液晶ポリマー分子を構成するモノマーとの結合能を有する官能基を導入する工程;および官能基が導入された無機フィラーと、液晶ポリマー分子を構成するモノマーを混合し、得られた混合物を重合反応に付す工程;を含むことを特徴とする液晶ポリマー組成物の製造方法。 - 特許庁
A method of a semiconductor device including a semiconductor chip mounted on a wiring board by flip-chip bonding method includes steps of plasma-treating at least one surface of the semiconductor chip, a mounting board and a bump, before or after the mounting of the semiconductor chip on the wiring board, and then injecting an epoxy-based underfill into a gap between the semiconductor chip and the mounting board.例文帳に追加
半導体チップをフリップチップボンディング方式により配線基板に実装する半導体装置において、半導体チップを配線基板に実装する前、または実装後に、半導体チップ、実装基板又はバンプの少なくとも一つの表面をプラズマ処理し、次いで、半導体チップと実装基板との間隙にエポキシ系アンダーフィル材を注入することを特徴とする半導体装置の製造方法である。 - 特許庁
The titled method comprises steps of providing a sensor element 30 having at least one outlet 36 for a fluid 52, the outlet 26 being positioned in the region of a standard position of the surface section 32, letting the fluid 52 flow from the outlet 36 and determining a proper parameter for a quantity of the fluid 52 flowing from the outlet 36.例文帳に追加
この方法は、i) 流体(52)用の少なくとも1つの流出口(36)を有するセンサ素子(30)を設け、前記流出口(36)を前記表面部分(32)の基準位置領域に配置する工程と、ii) 前記流体(52)を前記流出口(36)から流出させる工程と、iii) 前記流出口(36)から流出する前記流体(52)の量に固有のパラメータを決定する工程とを含む。 - 特許庁
This method of manufacturing a field emitter electrode comprises steps of: preparing a plating solution containing carbon nanotubes dispersed therein; immersing a positive electrode and a negative electrode including a substrate which has been surface-treated so as to provide nucleation sites for the carbon nanotubes, in the plating solution; and applying a predetermined voltage between the negative and positive electrodes so as to form a carbon nanotube-metal plating layer on the substrate.例文帳に追加
本発明による電界放出エミッタ電極の製造方法は、カーボンナノチューブが分散されたメッキ液を用意する段階と、カーボンナノチューブの初期付着点を提供するよう表面処理された基板を具備する陰電極と、陽電極とを上記メッキ液に含浸する段階と、上記陰電極及び陽電極に所定の電圧を加えて上記基板上にカーボンナノチューブ‐金属メッキ層を形成する段階を含む。 - 特許庁
The method for forming the contact structure comprises the steps of: forming an interlayer insulating film on a semiconductor substrate; forming a contact hole by patterning the interlayer insulating film and exposing the predetermined region of the semiconductor substrate; and forming the contact spacer on the side wall of the contact hole by the use of a depositing method having a depositing direction slanted to the main surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加
本発明のコンタクト構造体の形成方法は、半導体基板上に層間絶縁膜を形成する工程と、層間絶縁膜をパターニングして半導体基板の所定領域を露出させるコンタクトホールを形成する工程と、半導体基板の主表面に対して傾斜した蒸着方向を有する蒸着法を用いてコンタクトホールの側壁にコンタクトスペーサを形成する工程と、を有する。 - 特許庁
The production method comprises the steps of: preparing a core powder coated with the melamine resin by bringing the core powder in contact with an initial condensate of the melamine resin and polymerizing the initial condensate through a reaction; subsequently, making the surface of the core powder coated with the melamine resin carry a noble metal; and subsequently, electroless-plating the core powder having the noble metal carried thereon with a metal.例文帳に追加
また、その製造方法は該芯材粉体と該メラミン樹脂の初期縮合物を接触させて該初期縮合物の重合反応を行って該メラミン樹脂を被覆した該芯材粉体を得る工程、次いで該メラミン樹脂を被覆した該芯材粉体の表面に貴金属を担持させる工程、次いで該貴金属を担持させた該芯材粉体を無電解めっき処理する工程とを、含むことを特徴とする。 - 特許庁
This body fat meter measures a composite impedance of the contact resistance ZA-ZD between a subject's skin surface and an electrode included in a single constant current application path and a body impedance Zi, measures the contact resistance ZA-ZD included in the constant current application path, and measures the body impedance Zi based on the composite impedance and the contact resistance ZA-ZD obtained by the respective steps.例文帳に追加
一つの定電流印加経路内に含まれる被検者の皮膚面と電極との間の接触抵抗ZA〜ZDと身体内インピーダンスZiとの合成インピーダンスを測定しと、定電流印加経路内に含まれる接触抵抗ZA〜ZDを測定し、これら各ステップにより得られる合成インピーダンスと接触抵抗ZA〜ZDとから身体内インピーダンスZiを測定する。 - 特許庁
In this method for manufacturing the lid body of the electronic part package, this method includes steps of forming a metal layer on a surface of a lid member; half-blanking the lid member to form a projected part of a given shape; forming the solder material layer on the metal layer of the projected part; heating he solder material layer; and blanking the projected part from the lid member.例文帳に追加
電子部品パッケージの蓋体の製造方法であって、蓋部材の表面に金属層を形成する工程と、前記蓋部材を半抜き加工し所定の形状の凸部を形成する工程と、前記凸部の前記金属層上にろう材層を形成する工程と、前記ろう材層を加熱する工程と、前記蓋部材から前記凸部を打抜き加工する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
In the photoelectric converter manufactured by comprising the steps of: arranging a number of first conductive type crystal silicon particles 3 on an aluminum layer 1 to serve as one electrode; arranging an insulation material 2 between the crystal silicon particles 3; and forming a second conductive type semiconductor part 4 on the crystal silicon particles 3; a layer cyanide 6 is formed on the surface of the particle 3 and the layer 1.例文帳に追加
一方の電極となるアルミニウム層1上に、第1導電型の結晶シリコン粒子3を多数配設し、この結晶シリコン粒子3間に絶縁物質2を介在させ、この結晶シリコン粒子3上に第2導電型の半導体部4を形成した光電変換装置であって、上記結晶シリコン粒子3の表面及びアルミニウム層1の表面にシアン化層6を形成した。 - 特許庁
As the steps of this method, a corrosion-inhibitive coating film containing particles of a metal selected from the group consisting of aluminum, zinc and their alloys, is formed, in a film thickness of 30 to 80 μm, on the surface of the weatherable steel.例文帳に追加
耐候性鋼表面に、アルミニウム、亜鉛及びそれらの合金からなる群より選ばれる金属の粒子を含有する、膜厚30〜80μmの防食塗膜を形成し、次いで、その上に、以下の成分、(1)加水分解性シリル基を有するフッ素樹脂、エポキシ樹脂又は(メタ)アクリル樹脂、(2)一般式、 R^1_nSi(OR^2)_4-n 〔式中、R^1は、炭素数1〜8の有機基であり、R^2は、炭素数1〜5のアルキル基であり、nは、1又は2である。 - 特許庁
The conductor pattern forming method comprises the steps of forming a plurality of copper patterns 110 on one surface of a substrate 100; pressing a part of the copper patterns 110 from the thickness direction to thereby form partly wider regions 112 on the copper patterns 110; making solder powder adhere to each copper pattern 110; and melting the solder powder on the copper pattern for the formation of solder plating having bumps.例文帳に追加
導体パターンの形成方法は、基板100の一方の面上に複数の銅パターン110を形成する工程と、各銅パターン110の一部を厚さ方向から押圧し、銅パターン110の一部の幅広領域112を形成する工程と、各銅パターン110上に半田粉末を付着させる工程と、銅パターン上の半田粉末を溶融し、隆起を有する半田めっきを形成する工程とを有する。 - 特許庁
A method includes the steps of: preparing a substrate; sequentially forming a lower semiconductor layer, an active layer, and an upper semiconductor layer on the substrate; forming a photoresist pattern on the upper semiconductor layer so that its side wall is inclined to an upper surface of the substrate; and sequentially etching the upper semiconductor layer, the active layer, and the lower semiconductor layer by using the photoresist pattern as an etching mask.例文帳に追加
基板を用意する段階と、前記基板上に、下部半導体層、活性層及び上部半導体層を順次形成する段階と、前記上部半導体層上に、その側壁が前記基板の上部面に対して傾斜するように、フォトレジストパターンを形成する段階と、前記フォトレジストパターンをエッチングマスクとして使用し、前記上部半導体層、活性層及び下部半導体層を順次にエッチングする段階とを有する。 - 特許庁
A microscopic observation method for observing an observation object by an optical microscope is provided for performing the steps including: a thin film-forming step of forming a thin film at least absorbing or scattering light on a surface of the observation object containing a plurality of types of constituent materials to thereby prepare an observation sample; and an observing step of observing the observation sample by the optical microscope.例文帳に追加
光学顕微鏡によって観察対象物を観察するための顕微観察方法であって、複数種の構成材料を含む観察対象物の表面に少なくとも光を吸収又は散乱する薄膜を形成する薄膜形成工程を実施することにより観察用試料を作製し、さらに、該観察用試料を光学顕微鏡によって観察する観察工程を実施する顕微観察方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the metal matrix composite material comprises steps of: vapor-depositing magnesium onto the surface of at least either of fibers and particles each constituting a porous preform 3; arranging the porous preform 3 after vapor deposition in a low-oxygen-partial- pressure atmosphere of ≤10 mmHg partial pressure of oxygen; and infiltrating the molten aluminum 41 or the molten aluminum alloy into the porous preform 3.例文帳に追加
多孔質プリフォーム3を構成する繊維及び粒子のうち少なくともいずれかの表面にマグネシウムを蒸着させるステップと、この蒸着をさせた多孔質プリフォーム3を、酸素分圧が10mmHg以下である低酸素分圧雰囲気中に配置するステップと、前記多孔質プリフォーム3の内部に溶融アルミニウム41又は溶融アルミニウム合金を浸透させるステップとを含んでなる金属基複合材料の製造方法である。 - 特許庁
The method of making the plasma display apparatus having the film filter formed by laminating the multiple functional films according to the present invention includes the steps of (a) blackening the entire surface of the electromagnetic interference shielding film by coating with a conductive material, (b) forming the black frame by laminating a color-dye film on the electromagnetic interference shielding film, and (c) laminating an antireflection film on the color-dye film.例文帳に追加
また、本発明は複数の機能性フィルム層が積層されて成り立ったフィルムフィルターが含まれたプラズマ表示装置製造方法において、前記フィルムフィルター製造工程は(a)電磁波遮蔽のためのフィルム層表面全体を導電性物質に鍍金して黒化させる段階、(b)前記電磁波遮蔽フィルム層にカラーダイフィルム層を積層してブラックフレームを形成する段階、及び(c)前記カラーダイフィルム層に反射防止フィルム層を積層する段階を含む。 - 特許庁
The method for optically measuring particles passing through a passage includes steps of forming a referential material along at least a part of a wall surface in the passage; and at least detecting optical information from the fine particles or the referential material at a predetermined location in the passage.例文帳に追加
流路を通流する微小粒子を光学的に測定する方法であって、前記流路中の壁面の少なくとも一部に沿って参照用物質を含む層流を形成する参照用層流形成工程と、 前記流路の所定位置において、前記微小粒子及び前記参照用物質からの光学的情報を検出する光学的情報検出工程と、を少なくとも行う微小粒子の光学的測定方法を提供する。 - 特許庁
Alternatively, a method for manufacturing a power storage device includes steps of: forming an amorphous silicon film on the current collector; adding a catalyst element for accelerating crystallization of amorphous silicon on the surface of the amorphous silicon film; forming the crystalline silicon film by crystallizing the amorphous silicon film by heating the amorphous silicon film where the catalyst element is added; and using the crystalline silicon film as a negative electrode active material layer.例文帳に追加
あるいは、集電体上に、非晶質珪素膜を形成し、前記非晶質珪素膜の表面に、前記非晶質珪素の結晶化を促進する触媒元素を添加し、前記触媒元素が添加された非晶質珪素膜を加熱することにより、前記非晶質珪素膜を結晶化して結晶性珪素膜を形成し、前記結晶性珪素膜を負極活物質層として用いる蓄電装置の作製方法に関する。 - 特許庁
The method comprises following steps; at least one block is sliced from a single crystal in a grown state along cutting planes perpendicular to a crystallographic axis corresponding to the sought orientation of the crystal lattice of the semiconductor wafers; a lateral surface of the block is ground around the crystallographic axis; and a plurality of semiconductor wafers are sliced from the ground block along cutting planes perpendicular to the crystallographic axis.例文帳に追加
上記方法は、上記半導体ウェハの上記結晶格子の上記要求方位を示す結晶軸に垂直な切断面に沿って、成長した状態のままで存在する単結晶から少なくとも1つのブロックをスライスするステップと、上記結晶軸を中心にして上記ブロックの側面を研削するステップと、上記結晶軸に垂直な切断面に沿って、研削されたブロックから多数の半導体ウェハをスライスするステップとを備える。 - 特許庁
A method for producing the circular nanoparticle assembly includes the steps of: immersing an infrared absorbing material-applied substrate in a solvent in which nanoparticles are dispersed; irradiating the surface of the applied infrared absorbing material with laser beams to move the dispersed nanoparticles toward a laser beam-irradiated point by a convection current to be formed in the vicinity of the laser beam-irradiated point; and aggregating the moved nanoparticles with one another to form the circular nanoparticle assembly.例文帳に追加
本発明は、ナノ粒子が分散した溶媒中に赤外線吸収材料が塗布された基板を浸し当該赤外線吸収材料の表面にレーザー光を照射し、レーザー光の照射点近傍で生じる対流によって前記ナノ粒子を当該照射点に向けて移動させ、移動したナノ粒子同士を凝集させて環状のナノ粒子集合体を形成する、環状のナノ粒子集合体の製造方法である。 - 特許庁
The method for forming a stacked structure including the amorphous carbon film on the underlayer, includes steps of: supplying an organic silicon gas on the underlayer to form an initial layer including a Si-C bond on the underlayer (t4); and forming the amorphous carbon film on the underlayer with a heating film formation (t6) supplying a film forming gas containing hydrocarbon gas on the underlayer on the surface of which the initial layer is formed.例文帳に追加
アモルファスカーボン膜を含む積層構造を下地層上に形成する方法は、前記下地層上に有機系シリコンガスを供給し、前記下地層の表面にSi−C結合を含む初期層を形成する工程(t4)と、前記初期層が表面に形成された前記下地層上に炭化水素化合物ガスを含む成膜ガスを供給し、前記下地層上に前記アモルファスカーボン膜を熱成膜で形成する工程(t6)と、を具備する。 - 特許庁
The method of manufacturing the microlens substrate includes steps of: forming a rear mask 81 having polygonal opening holes 81b, on a lens substrate 24; anisotropically etching the lens substrate 24 through a fixed mask 82 and the rear mask 81 to form recesses 24a each having an inclined surface inclining from the polygonal mouth to the terminal, in the lens substrate 24; and isotropically etching the recesses 24a to form the microlenses on the lens substrate 24.例文帳に追加
レンズ基板24上に多角形の開口孔81bを有する後退マスク81を形成する工程と、固定マスク82と後退マスク81とを介してレンズ基板24に異方性エッチングを施し、レンズ基板24に多角形の口元から終端に向かって傾斜する傾斜面を有する凹部24aを形成する工程と、凹部24aに等方性エッチングを施してレンズ基板24にマイクロレンズを形成する工程と、を有する。 - 特許庁
The surface cleaning method for a remote plasma generation tube which is combined with a treatment chamber 110 for treating a substrate 30 by use of remote plasma includes steps of supplying a cleaning gas to a remote plasma generation tube 134 that generates remote plasma, forming the cleaning gas into cleaning plasma, and eliminating foreign matters by use of the cleaning plasma, the foreign matters formed in the remote plasma generation tube 134.例文帳に追加
リモートプラズマ発生チューブの表面洗浄方法は、リモートプラズマを用いて基板30を処理するための工程チャンバー110と連結され、前記リモートプラズマを発生させるリモートプラズマ発生チューブ134に洗浄ガスを供給する段階と、前記洗浄ガスを洗浄プラズマに形成する段階と、前記リモートプラズマ発生チューブ134の内部に形成された異物を前記洗浄プラズマを用いて除去する段階と、を含む。 - 特許庁
A plasma processing device for subjecting the electrostatic chucking device with a photoconductive film having photoconductivity formed on the surface of its insulating material to a plasma processing has the steps of introducing a processing gas for a plasma processing chamber, generating plasma in the plasma processing chamber, and the light of the plasma to be irradiated on the photoconductive film.例文帳に追加
静電吸着装置の絶縁性材料の表面に、光導電性を有する光導電膜を設けた静電吸着保持装置に対してプラズマ処理をするプラズマ処理装置において、プラズマ処理室内に処理用ガスを導入する工程と、該プラズマ処理室内のガス圧力を1Torr以上にする工程と、該プラズマ処理室内にプラズマを発生する工程と、該プラズマの発光を該光導電膜に照射する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁
The method of dividing a substrate having a plurality of members defined into the respective individual members includes steps of forming a continuous recess or a plurality of recesses spaced by an interval, in a scheduled division surface set on the substrate, filling a liquid into the recess or the plurality of recesses, and making the filled liquid swell.例文帳に追加
本発明による基板の分割方法は、複数の部材が区画形成された基板をそれぞれの部材に分割する基板の分割方法であって、基板に設定された分割予定面に、連続する凹部又は間隔を隔てて連なる複数の凹部を形成する、凹部形成工程と、凹部又は複数の凹部に液状体を充填する、液状体充填工程と、充填された液状体を膨張させる、膨張工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
The method includes steps of: planarizing a film to be polished formed on a semiconductor substrate 10 using a polishing pad 104, while supplying abrasive containing abrasive grains and additive composed of a surfactant on the polishing pad; and further polishing the surface of the film after having planarized it, using the polishing pad, while supplying abrasive and water on the polishing pad.例文帳に追加
研磨砥粒と界面活性剤より成る添加剤とを含む研磨剤を研磨パッド104上に供給しながら、半導体基板10上に形成された被研磨膜の表面を研磨パッドを用いて研磨し、被研磨膜の表面を平坦化する工程と、被研磨膜の表面が平坦化された後、研磨剤と水とを研磨パッド上に供給しながら、被研磨膜の表面を研磨パッドを用いて更に研磨する工程とを有している。 - 特許庁
The laser crystallization method includes the steps of: forming the amorphous silicon semiconductor film on a substrate; forming a light absorptive agent film by applying a light absorption agent on the surface of the amorphous semiconductor film; and crystallizing the crystal silicon semiconductor film by irradiating a linear laser beam from a semiconductor light-emitting element to the light absorptive agent film and heating the amorphous semiconductor film with the scanning of the linear laser beam.例文帳に追加
レーザー結晶化法を基板上に非晶質シリコン半導体膜を形成する工程と、非晶質半導体膜の表面に光吸収剤を塗布して光吸収剤膜を形成する工程と、光吸収剤膜に半導体発光素子からの線状のレーザー光を照射すると共に、当該線状レーザー光の走査により非晶質シリコン半導体膜を加熱してこれを結晶シリコン半導体膜とする結晶化工程とから構成する。 - 特許庁
To provide a manufacturing device of a conjugation paper tube which can provide the same use condition as the new tube since unevenness or steps is not generated on the surface of the paper tube since staples are not used for jointing; can be provided with the resistance for preventing two paper tubes from freely rotating independently and mutually; and can wastelessly, efficiently and economically reuse the used paper tube without taking time for processing.例文帳に追加
接合にステイプルを用いないために紙管表面に凹凸や段差ができず、新品の紙管と何ら変わりのない使用状況が得られ、2つの紙管が互いに独立して自由回転することを防止するための抵抗力を具備させることができ、しかも、加工に手間がかからず、中古紙管を無駄なく、効率よく且つ経済的に再利用に供し得る接合紙管の製造装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
A method is provided for forming a medical device 10 having barbs 12 which includes the steps of providing a blank workpiece 29 and forming at least one barb 12 on the blank workpiece by applying vibrational energy to a tool and bringing the tool and the blank workpiece into contact with each other at an angle such that the tool cuts into the surface of the blank workpiece.例文帳に追加
とげ12のある医療デバイス10を形成する方法であって、ブランクワークピース29を提供する工程、ならびに該ブランクワークピース上に少なくとも1つのとげ12を形成する工程であって、道具に振動エネルギーを付与すること、および該道具と該ブランクワークピースとを該道具が該ブランクワークピースの表面に切り込むように所定の角度で接触させることによって、該ブランクワークピース上に少なくとも1つのとげを形成する工程を包含する。 - 特許庁
The method for producing carbon nanotubes includes steps of: forming an amorphous layer on the surface of a substrate essentially comprising a nonoxide material containing silicon by heating the substrate at 500 to 1,000°C for 1 to 50 hours in air; forming a catalyst layer containing a catalyst metal on the amorphous layer; micronizing the metal in the catalyst layer into fine particles; and forming carbon nanotubes by using the fine particles as a catalyst.例文帳に追加
ケイ素を含む非酸化物材料を主成分とする基板を大気中で500℃〜1000℃の温度で1〜50時間加熱し、前記基板の表面に非晶質層を形成させる工程と、前記非晶質層の上に触媒金属を含む触媒層を形成する工程と、前記触媒層の金属を微粒化する工程と、前記微粒子を触媒として、カーボンナノチューブを形成することを特徴とする、カーボンナノチューブの生成方法である。 - 特許庁
An array of regularly arranged small holes is formed on a substrate, the substrate his heat treated to form a network of atomic steps on the substrate surface corresponding to the small hole array, and a substance different from that of the substrate is deposited on the substrate to form micro- islands, made of the substance different from that of the substrate on the cross points or curved parts of the step network.例文帳に追加
基板上に、規則的に配列した小孔アレイを形成し、前記基板を熱処理することにより、前記小孔アレイの配列に対応させて前記基板表面に原子ステップのネットワークを形成し、前記基板上に、前記基板とは異なる物質を堆積させることにより、前記ステップネットワークの分岐点あるいは湾曲部に前記基板とは異なる物質からなる微小島を形成することを特徴とする結晶成長制御法によって、上記課題を解決する。 - 特許庁
This method for manufacturing a field emitter electrode comprises steps of: providing an electrolytic solution containing metal ions to an electrolytic bath; providing carbon nanotubes and a cationic dispersant for preventing the agglomeration of the carbon nanotube particles to the electrolytic solution; and applying a predetermined voltage to a cathode drum and an insoluble anodic compartment both of which are immersed in the electrolytic solution to form a metal film containing the carbon nanotubes along the surface of the cathode drum.例文帳に追加
電解槽に金属イオンを含有した電解液を設ける段階と、上記電解液に炭素ナノチューブと上記炭素ナノチューブ粒子の凝集を妨害するための陽イオン分散剤とを設ける段階と、上記電解液に含浸された陰極ドラムと不溶性陽極部に所定の電圧を印加して上記陰極ドラム表面に沿って上記炭素ナノチューブを含む金属膜を形成する段階とを含む電界放出エミッタ電極の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing organic electroluminescent panels comprises steps of oppositely disposing a first substrate having an anode on it and a second substrate having a cathode on it with their electrode surfaces faced to each other and placing an organic layer between the electrodes, wherein the substrates are bonded together after spray patterns of microencapsulated bonding agent are printed on the laminated surface of at least one of the substrates that has an anode or cathode.例文帳に追加
陽極が形成された第1の基板と、陰極が形成された第2の基板を、互いに電極面を対向させ、電極間に有機層を挟持するよう貼り合せ、形成する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記陽極或いは陰極が形成された、少なくとも一方の基板の貼り合わせ面側に、マイクロカプセル化した接着剤をパターン状に散布した後、貼り合わせることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。 - 特許庁
The method of manufacturing an optical element includes steps of: applying a first solution including a luminous material and a first solvent into a pixel area surrounded by a partition wall; removing the first solvent included in the applied first solution; applying a second solvent differed in surface tension from the first solvent within the pixel area before perfectly drying the applied first solution; and drying the applied first solution and second solvent.例文帳に追加
隔壁に囲まれた画素領域内に、発光材料および第1の溶媒を含む第1の溶液を塗布し;塗布された前記第1の溶液に含まれる第1の溶媒を除去し;塗布された前記第1の溶液が完全に乾燥する前に、前記第1の溶媒と表面張力の異なる第2の溶媒を、前記画素領域内に塗布し;塗布された前記第1の溶液および前記第2の溶媒を乾燥させるステップとを含む、光学素子の製造方法。 - 特許庁
The manufacturing method of an optical semiconductor element comprises the steps of forming a substantially stripe-shaped protruded structure by selectively dry etching an InGaAlP layer formed on a substrate up to the middle of its thickness, forming a protective film on the upper surface and both side surfaces of the protruded structure, and forming the ridge including the protruded structure by etching the InGaAlP layer around the protruded structure with a solution containing fluorinated acid.例文帳に追加
基板上に形成されたInGaAlP層をその厚みの途中まで選択的にドライエッチングして略ストライプ状の凸状体を形成する工程と、前記凸状体の上面と両側面とに保護膜を形成する工程と、前記凸状体の周囲の前記InGaAlP層をフッ酸を含有する溶液でエッチングすることにより、前記凸状体を含むリッジを形成する工程と、を備えたことを特徴とする光半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method for the circuit board having an electrode wiring formed at a surface part of a substrate and an electro-thermal conversion element with a heating resistor film formed on the electrode wiring for generating heat energy comprises the steps of forming an electrode wiring layer for forming the electrode wiring, forming the heating resistor film and etching the electrode wiring layer and the heating resistor film altogether to form the electrode wiring.例文帳に追加
基板の表面部に形成された電極配線と、該電極配線上に形成された熱エネルギーを発生するための発熱抵抗体膜を有する電気熱変換素子と、を有する回路基板の製造方法であって、前記電極配線を形成するための電極配線層を形成し、前記発熱抵抗体膜を成膜した後、前記電極配線層と発熱抵抗体膜を一括エッチングすることにより、前記電極配線を形成することを特徴とする回路基板の製造方法である。 - 特許庁
A manufacturing method of a composite cathode active material includes a cathode active material and a coating layer made of a solid electrolyte material of water soluble oxide and comprises the steps of preparing a mixed aqueous solution including the cathode active material and the solid electrolyte material of water soluble oxide and coating the surface of the cathode active material with the coating layer by heating the mixed aqueous solution under pressure.例文帳に追加
本発明においては、正極活物質と、水溶性酸化物固体電解質材料からなる被覆層とを有する複合正極活物質の製造方法であって、上記正極活物質および上記水溶性酸化物固体電解質材料を含有する混合水溶液を調製する調製工程と、上記混合水溶液を加圧下で加熱することにより、上記正極活物質の表面を上記被覆層で被覆する被覆工程とを有することを特徴とする複合正極活物質の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
The method of manufacturing the paper cup includes steps of skive-hemming-finishing the internal surface of the pasted portion where the barrel is glued, heat-bonding the barrel via hot air to form it as a tube, interposing a bent part of the bottom member between the barrel and a fold, and heat-bonding by hot air to join with each other.例文帳に追加
胴部材が、基材層が紙で、最内層がポリプロピレン樹脂からなる積層体を構成材料とし、底部材が、基材層が紙で、最内層および最外層がポリプロピレン樹脂からなる積層体を構成材料とし、胴部の胴貼りした貼合部の内面部にスカイブヘミング加工を施したことを特徴とする紙カップであり、その胴部の胴貼りした貼合部の内面部にスカイブヘミング加工を施して、ホットエアーにより熱接着して胴部を筒状に形成し、胴部と折り返し部との間に底部材の屈曲部を挟み込んで、ホットエアーにより熱接着して互いに接合することを特徴とする紙カップの製造方法である。 - 特許庁
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