「vacuum alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

VACUUM DEPOSITION SYSTEM FOR LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT LAYER AND FILM DEPOSITION METHOD THEREOF例文帳に追加

液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法 - 特許庁

Then the substrate is irradiated with an ion beam under a vacuum and the alignment processing is performed.例文帳に追加

その後、真空中で基板へイオンビームを照射して、配向処理する。 - 特許庁

The method for conveying the semiconductor wafer includes pressing of a first brush of an alignment stage cleaning mechanism 29 against a water vacuum stage of an alignment stage 5 of the semiconductor wafer W prior to conveying of the semiconductor wafer W to the alignment stage 5, rotating of the wafer vacuum stage in this state, and removing of the dust deposited on the wafer vacuum stage.例文帳に追加

半導体ウエハＷのアライメントステージ５への搬入に先立ち、アライメントステージクリーニング機構２９の第１のブラシをアライメントステージ５のウエハ吸着ステージに押し当て、その状態でウエハ吸着ステージを回転させ、ウエハ吸着ステージに付着した塵埃を除去する。 - 特許庁

Alignment marks are detected by a CCD camera 320 in the state in which a counter substrate 220 formed with the alignment marks is vacuum-held on a head 361.例文帳に追加

アライメントマークが形成された対向基板２２０をヘッド３６１に吸着保持した状態で、ＣＣＤカメラ３２０にてアライメントマークを検出する。 - 特許庁

ELECTROSTATIC HOLDER AND VACUUM ENVIRONMENTAL DEVICE AS WELL AS ALIGNMENT DEVICE OR LAMINATING DEVICE EMPLOYING IT例文帳に追加

静電保持装置及びそれを用いた真空環境装置並びにアライメント装置又は貼り合わせ装置 - 特許庁

The vacuum chamber 1 installs the theodolite 2 measuring changes of the alignment of the test piece 4 by a thermal vacuum test in an outer wall, when the thermal vacuum test is carried out to the test piece 4 arranged inside.例文帳に追加

内部に配設された供試体４に対して熱真空試験を行う際に、熱真空試験による供試体４のアライメントの変化を測定するセオドライト２を、外壁に組み込んだ真空チャンバ１。 - 特許庁

While the panel 1 is sucked under a vacuum, an alignment mark is measured by a camera 10 and the panel 1 is moved.例文帳に追加

次に、該パネル１をバキューム吸着しつつアライントメントマークをカメラ１０で測定し、パネル１を移動させる。 - 特許庁

A plastic bolt is supplied to the side of an alignment delivery chute by adsorbing the plastic bolt by vacuum suction force generated in the plastic bottle adsorbing hole by vacuum suction force in the suction chamber 12.例文帳に追加

吸引室１２内のバキューム吸引力でプラスチックボトル吸着穴に発生したバキューム吸引力でプラスチックボトルを吸着し、整列払出シュート側に供給する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition device for a liquid crystal alignment layer which efficiently forms an inorganic alignment layer with simple structure even when a deposition object is a large substrate.例文帳に追加

蒸着対象が大型基板であっても単純な構成で無機配向膜を効率よく形成する液晶配向膜用真空蒸着装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pre-alignment sensor capable of being used in vacuum environment or chemical atmosphere without problem and detecting highly accurately.例文帳に追加

真空環境下や薬液雰囲気中で問題なく使えるとともに、高精度な検出ができるプリアライメントセンサを提供する。 - 特許庁

To provide an alignment device for vacuum vapor deposition, which is manufactured at a low cost and can keep a highly precise positioning performance.例文帳に追加

装置自体の製造コストが安価で且つ高精度な位置決めを維持し得る真空蒸着用アライメント装置を提供する。 - 特許庁

To provide an alignment apparatus for vacuum deposition which is low in the manufacturing cost of the apparatus itself and with which positioning of high accuracy can be maintained.例文帳に追加

装置自体の製造コストが安価で且つ高精度な位置決めを維持し得る真空蒸着用アライメント装置を提供する。 - 特許庁

After adjusting the pressure within the vacuum vessel 8 to specified one the first alignment is conducted by keeping a specified distance between the pair of substrates and subsequently the pair of substrates are brought into contact with each other by pressurizing and the second alignment is conducted in this condition.例文帳に追加

真空槽８内を所定の圧力とし、一対の基板をある特定の距離において一度目のアライメントをして一対の基板が接触するまで加圧し、続いて、その状態で二度目のアライメントをする。 - 特許庁

After a pair of substrate holding tools constituting a vacuum container, hold a pair of substrates, and the container is closed by an opening and closing mechanism, the inside of the container is evacuated by an evacuation system and the gap formation and alignment of the substrates are performed in a vacuum.例文帳に追加

真空容器を構成する一対の基板保持具が一対の基板を保持し、開閉機構によって閉じた後、内部が排気系によって排気され、ギャップ出しとアライメントが真空中で行われる。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system with masking, in which film deposition can be repeatedly performed by shifting the same mask with the same micropattern on by prealignment in air without an alignment operation in vacuum.例文帳に追加

本発明は、上記のような真空中でのアライメント作業をなくし、大気中でのプリアライメントのみで、同一マスクを用い、同一微細パターンをずらせながら、繰り返し成膜することができる真空マスク装置を提供する。 - 特許庁

By optimizing the area of the vacuum region, occurrence of alignment deviation between the pair of substrates, leakage of the liquid crystal, ununiformity of a cell gap and so on are prevented.例文帳に追加

真空領域の面積を適正化することにより、一対の基板間の組合せズレ、液晶漏れ、セルギャップの不均一等の発生を防止する。 - 特許庁

To improve cleanliness level of the entire carrying route from a coater developer or the like for performing the pre- and post-processings of a water to processing chamber, such as a vacuum alignment chamber.例文帳に追加

ウエハの前後処理を行なうコーターディベロッパー等から減圧露光室等の処理室に到る搬送経路全体のクリーン度を向上させる。 - 特許庁

The vacuum-proof camera 10 which uses the vacuum-proof flexible composite cable 20 obtaines a television camera for observation that allows flexible positioning and angular setting near an object, such as positioning and alignment adjustment of the object (subject) 2 within the vacuum chamber 1.例文帳に追加

この耐真空用可撓性複合ケーブル２０を用いた耐真空用カメラ１０により、真空室１内に於いて、被検査体（被写体）２の位置合わせ、アライメント調整等、被検査体近傍での自由な位置取り、角度設定を可能にした観察用テレビカメラを実現可能にしている。 - 特許庁

After a pair of substrate holding tools 1, 2 constituting a vacuum container hold a pair of substrates 91, 92, and the container is closed by an opening and closing mechanism 5, the inside of the container is evacuated by an evacuation system 41 and the gap formation and alignment of the substrates are performed in a vacuum.例文帳に追加

真空容器を構成する一対の基板保持具１，２が一対の基板９１，９２を保持し、開閉機構５によって閉じた後、内部が排気系４１によって排気され、ギャップ出しとアライメントが真空中で行われる。 - 特許庁

To realize a material transfer device in the vacuum equipment in which the material can be positioned without installing an alignment chamber and the transfer time of the material can be shortened.例文帳に追加

アライメント室を設けることなく材料を位置決めでき、また、材料の搬送時間を短くすることができる真空装置における材料搬送装置を実現するにある。 - 特許庁

The film deposition apparatus is provided with an alignment mechanism (not shown) which is furnished inside a vacuum chamber 5 and performs alignment of the substrate 1 and the mask 2, and a pressing mechanism which presses the substrate 1 to the mask 2 by a low friction member 3b furnished at one end of each pressing element 3.例文帳に追加

成膜装置は、真空チャンバー５内に配備された、基板１とマスク２との位置合わせを行う位置合わせ機構（不図示）と、押圧体３の一端に配備された低摩擦部材３ｂによって基板１をマスク２に押圧する押圧機構を備えている。 - 特許庁

To provide a method and a device for assembling substrates by which alignment marks provided at respective substrates are made to coincide with each other with high accuracy and can be promptly stuck to each other in a vacuum.例文帳に追加

各基板に設けられた位置合わせマーク同士を高精度に一致させて真空中で速やかに貼り合せることができる基板の組立方法とその装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multiple patterning circuit board which can uniformly vacuum-suck a mask for solder ball alignment and can improve the yield of ball loading.例文帳に追加

はんだボール整列用マスクを均一に真空吸着することができ、ボール搭載の歩留まりを向上することができる多数個取り配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Articles are housed in a housing part 2, and articles are sucked in air vents 5 in a manner making an interstice between an alignment plate 6 and a bottom plate 4 into a substantial vacuum by the actuation of a suction device.例文帳に追加

収納部２内に物品を収納し、吸引装置を作動して整列板６と底板４との間を略真空状態として通気口５に物品を吸着する。 - 特許庁

In the alignment layer forming device for forming the alignment layer by obliquely depositing a prescribed material on a substrate 10A under a vacuum condition using the deposition source 302 made of the prescribed material, the deposition source 302 is made of the material composed of cyclophenes.例文帳に追加

所定材料からなる蒸着源３０２を用いて、真空環境にて基板１０Ａ上に上記所定材料を斜方蒸着することによって配向膜を形成する配向膜形成装置であって、上記蒸着源３０２が、シクロフェン類からなる材料からなる。 - 特許庁

In the alignment layer forming device for forming the alignment layer by obliquely depositing a prescribed material on the substrate 10A under a vacuum condition using the deposition source 302 made of the prescribed material, the deposition source 302 is made of an organic and inorganic hybrid material.例文帳に追加

所定材料からなる蒸着源３０２を用いて、真空環境にて基板１０Ａ上に上記所定材料を斜方蒸着することによって配向膜を形成する配向膜形成装置であって、上記蒸着源３０２が、有機無機ハイブリット材料からなる。 - 特許庁

The method for conveying the semiconductor wafer W includes placing of the semiconductor wafer W on an alignment stage 5, pressing of a first brush of a first cleaning mechanism 29 on a front surface of the semiconductor wafer W sucked and held on the alignment stage 5, rotating of the wafer vacuum stage in this state, and removing of a dust deposited on a front surface of the semiconductor wafer W.例文帳に追加

半導体ウエハＷをアライメントステージ５に載置して吸着保持した半導体ウエハの表面に、第１のクリーニング機構２９の第１のブラシを押し当て、その状態でウエハ吸着ステージを回転させ、半導体ウエハＷの表面に付着した塵埃を除去する。 - 特許庁

The multiple patterning circuit board 100 is provided with a plurality of through-holes 105 for vacuum-sucking the mask for solder ball alignment in the state of being dispersed to be a uniform density.例文帳に追加

多数個取り配線基板１００には、はんだボール整列用マスクを真空吸着するための複数の貫通孔１０５が均等な密度となるように分散させた状態で設けられている。 - 特許庁

To provide an electrostatic holder capable of easily exchanging even when the number of electrode module is increased, and a vacuum environmental device as well as an alignment device or laminating device employing it.例文帳に追加

電極モジュールの数を増大させた場合にも交換が容易に行える静電保持装置及びそれを用いた真空環境装置並びにアライメント装置又は貼り合わせ装置を提供すること。 - 特許庁

A wafer alignment mechanism 10 comprises a wafer position sensor 9 for detecting the OF part of a turning wafer 1, a brush 4 for removing dust from the rear surface of the wafer, and a vacuum suction port 6 for sucking fallen dust.例文帳に追加

ウェハアライメント機構１０は、回転するウェハ１のＯＦ部を検知するウェハ位置センサ９と、ウェハ裏面のゴミを除去するブラシ４と、剥がれ落ちたゴミを吸入する真空吸入口６とを具備する。 - 特許庁

Then, it is sucked and fixed on the upper face 102 of the lower fame 100 of the substrate W by evacuating by the vacuum sucking device 120, and the alignment with the mask film M is confirmed, so that exposure is performed by irradiating with ultraviolet rays from an exposure light source.例文帳に追加

その後、真空吸着装置120で真空引きして基板Ｗ下枠100の上面102に吸着固定し、マスクフィルムＭとのアライメントを確認し、露光光源から紫外線を照射して露光する。 - 特許庁

The board 100' with a display indicating board fixed after alignment consisting of a material with heat absorbency and having an electronic device for display is radiation heated with heater devices 4, 5 in a vacuum chamber 1 being exhausted by a vacuum pump 6, to which the above display board is bonded by frit melting.例文帳に追加

熱吸収性を有する材料からなり且つ表示用電子設備を有する表示表示基板を位置合せして固定した前記基板１００’を、真空槽１において真空ポンプ６で排気をしながら加熱装置４，５により輻射加熱し、フリットの溶着により前記表示基板を接合する。 - 特許庁

A plasma CVD device 1 introduces reaction gas in a vacuum treatment chamber 2 and forms a film on the substrate 10 arranged on a susceptor 4 through the mask 7 by a CVD method, and includes a mask support mechanism 58, a drive part 53, a CCD camera 51, and an alignment control part 6.例文帳に追加

プラズマCVD装置1は、真空処理槽2内に反応ガスを導入し、サセプタ4上に配置された基板10上にマスク7を介してCVD法で成膜するもので、マスク支持機構58と、駆動部53と、CCDカメラ51と、アライメント制御部6とを備える。 - 特許庁

To maintain airtightness between above and below a frame, even by the rotation of a turntable on which a wafer is mounted and the movement in a horizontal plane, and to perform alignment operation under a vacuum or in a specified gaseous atmosphere.例文帳に追加

ウェハが搭載されるターンテーブルの回転及び水平面内での移動によってもフレームの上下における気密性を維持でき、アライニング作業を真空中又は特定のガス雰囲気中で行うことができるようにする。 - 特許庁

In the method for manufacturing the alignment layer, a bottom face layer is deposited with first deposition pressure, and subsequently a surface layer is laminated on the surface of the bottom face layer, by elevating inside pressure of the vacuum chamber 51 to second deposition pressure higher than the first deposition pressure so as to constitute the alignment layer with a laminated film, comprising the bottom face layer and the surface layer.例文帳に追加

本発明の配向膜製造方法は、第一の成膜圧力で底面層をせいまくした後、真空槽５１内部の圧力を第一の成膜圧力よりも高い第二の成膜圧力に上昇させて、底面層の表面に表面層を積層し、底面層と表面層との積層膜で配向膜を構成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal alignment layer which can be easily formed at a low cost without needing vacuum treatment, can reliably secure satisfactory alignment properties since a surface shape is formed with satisfactory reproducibility, is easily compatible with a large-sized substrate and compatibly has high durability and light resistance and to provide a liquid crystal device.例文帳に追加

本発明は、真空処理を必要とせず非常に簡易に、かつ低コストに液晶配向膜が形成でき、再現性良く表面形状が作られるので確実に良好な配向性が確保できると共に、基板の大面積化にも対応しやすく、高い耐久性・耐光性も兼ね備える液晶配向膜及び液晶装置を提供する。 - 特許庁

A control unit controls the mechanism 10 to make a mask film 20 to be vacuum-suckled to the fixing board 11 in a plane shape, and makes the film 20 face the printed board 40 in parallel to each other with an interval between the film 20 and the board 40 to perform an alignment of the film 20 with the board 40.例文帳に追加

制御部は、マスクフィルム保持機構１０を制御して、マスクフィルム２０をマスクフィルム固定板１１の上に平面状に真空吸着させ、マスクフィルムをプリント基板に間隔を保って平行に対面させ、位置合わせを行う。 - 特許庁

To obtain a manufacturing device for electrooptical panel by which two substrates can be stuck to each other while the cell gap and alignment accuracy between the two substrates formed in a vacuum are maintained so as not to be spoiled by conveyance between processes and the like.例文帳に追加

真空中で形成された２つの基板間のセルギャップや位置合わせ精度を、工程間搬送などによって損なわれないように維持したまま、２つの基板を貼り合せることが可能な電気光学パネルの製造装置を得ること。 - 特許庁

To provide an aligner that a holder vacuum-sucking a photosensitive substrate is highly accurately positioned without giving adverse effect on the rotating performance of a rotating table with respect to the aligner executing projection alignment by intermittently or continuously rotating the photosensitive substrate.例文帳に追加

感光性基板を断続的あるいは連続的に回転させながら投影露光する露光装置において、回転テーブルの回転性能に悪影響を与えずに、感光性基板を真空吸着したホルダを高精度に位置決めできる露光装置を得る。 - 特許庁

To provide a film deposition device or film deposition system by which highly accurate substrate alignment for accurate patterning can be applied to a large-sized substrate especially having a side having a length exceeding 1 m without depending on a pressure state of an inner part of a vacuum chamber.例文帳に追加

本発明は真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、特に１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して精密なパターニングに向けた高精度基板アライメントが可能な成膜装置または成膜システムを提供することである。 - 特許庁

A mounting tool to make center alignment of an elastic O-ring between vacuum seal flanges and hold it during the assembling and service has a ring-shaped body to define the outside surface and an O-ring holding flange installed on the outside surface so as to hold the O-ring.例文帳に追加

組立中および使用中において弾性的なＯリングを真空シールフランジ間に中心合わせし且つ保持するための取付具は、外面と弾性的なＯリングを保持するように上記外面上に配置されたＯリング保持フランジとを画成する環状ボディを有する。 - 特許庁

A component recognition camera 63 photographs an alignment mark of a wafer to recognize and take hold of its position, and a Y- and X-axis drive motors 20, 22 are driven to place a top chip component A at a position just below a vacuum pickup nozzle 26 to move a wafer feed table 24.例文帳に追加

ウエハのアライメントマークを部品認識カメラ６３で撮像し認識処理して位置を把握し、吸着取出ノズル２６の直下方位置に先頭のチップ部品Ａが位置するようにＹ軸駆動モータ２０及びＸ軸駆動モータ２２を駆動させてウエハ供給テーブル２４を移動させる。 - 特許庁

To provide a vacuum circuit breaker whose manufacture is facilitated by integrally molding components of a main circuit from an epoxy mold, while preventing assembly errors, securing an insulation distance between a distribution board and a circuit as the main circuit is arranged in symmetry with respect to the drive unit, and easily achieving right or left alignment depending on the installation atmosphere of the distribution board.例文帳に追加

主回路部の部品がエポキシモールドで一体形成され製造が容易になり、組立誤差を防止し、主回路部が駆動部に対して対称配置され配電盤と回路部間の絶縁距離を確保し、配電盤の設置環境に応じて左又は右配列を容易に実現する真空遮断器を提供する。 - 特許庁

To prevent vacuum bubbles generated when a liquid crystal display is manufactured by performing annealing as re-alignment treatment via a pressurization sealing process for pressurization, sealing and pressure reduction after a liquid crystal is injected and generation of injection streaks due to interference of a spacer for controlling the gap of a liquid crystal display panel.例文帳に追加

液晶注入後に加圧、封止、減圧する加圧封止工程を経て、さらに再配向処理としてアニールを行うことにより液晶表示装置を製造するに際し、真空気泡の発生を防止するとともに、液晶表示パネルのギャップ制御用のスペーサの干渉による注入筋の発生を防止する。 - 特許庁

To enhance uniformity of film thickness distribution on a plurality of substrate faces in a vacuum vapor-deposition method in which an organic electroluminescent element is fabricated by using a mask for vapor-depositing the substrate and pixel pattern, and using a mask holder and a vapor deposition source provided with alignment mechanism in order to carry out positioning of the substrates and the masks.例文帳に追加

基板と画素パターンを蒸着するためのマスクと、基板とマスクの位置合わせをするためのアライメント機構を備えたマスクホルダと蒸着源とを用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する真空蒸着方法において、複数個の基板面内上での膜厚分布均一性を高める。 - 特許庁