「vacuum process」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an evacuating method with which the spattering of molten steel and the raise-up of the molten steel surface in a ladle can be prevented, in a process for reducing the pressure to a targeted vacuum degree by evacuation of a vacuum vessel when a vacuum-refining of an Al-containing steel is performed.例文帳に追加

Al含有鋼の真空精錬を行なうにあたって、真空槽を排気して目標真空度まで減圧する過程において、取鍋内の溶鋼の飛散や溶鋼表面の盛り上がりを防止できる排気方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum pressure control system to be used in a semiconductor manufacturing process, capable of rapidly holding a supplied gas at an accurate vacuum pressure value and rapidly dishcarging the gas out of a vacuum chamber.例文帳に追加

半導体製造工程で使用する真空圧力制御システムにおいて、給気したガスを正確な真空圧力値で迅速に保持できると共に、このガスを真空容器外に迅速に排気可能な真空圧力制御システムを提供する。 - 特許庁

In this vacuum thin-film deposition equipment, a process of depositing a thin film on a light incident end face is followed by the rotation of the sample holder 6 by nitrogen gas with the vacuum chamber being kept at a high vacuum, and thereby a thin film is deposited on a light emitting end face.例文帳に追加

この真空薄膜成膜装置では、光入射端面に薄膜を成膜する工程に続いて、真空室を高い真空度に保持したままサンプルホルダー６を窒素ガスで回転させ、光出射端面に薄膜を成膜できる。 - 特許庁

To provide a small-size vacuum pump, having a combined vacuum pump evacuating from atmospheric pressure to ultra-high vacuum using a single pump small-sized and preventing corrosive gas for CVD process or the like from intruding into a motor part and a bearing part and enabling low cost manufacturing.例文帳に追加

大気圧から超高真空まで１台で排気する複合真空ポンプをさらにコンパクト化し、ＣＶＤ処理等用腐食性ガスのモータ部、軸受部への侵入を阻止し、また、安価な製造を可能とした小型真空ポンプを提供する。 - 特許庁

A first region 3A near a process chamber P is a flange part 1f made of raw material excellent in vacuum characteristic and accordingly a vacuum condition of the process chamber P can be effectively maintained since the first region 3A prevents passing of outgas.例文帳に追加

プロセス室Ｐに近接する第１の領域３Ａを真空特性に優れた素材から形成したフランジ部１ｆとしているので、かかる第１の領域３Ａがアウトガスの通過を阻止するためプロセス室Ｐの真空状態を効果的に維持できる。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a process for assembling a heat exchanger by combining respective components and for performing vacuum brazing in a high-temperature vacuum furnace without using any flux; and a process for washing the inside of a tube and a tank by pure water that is equal or more than 70°C or an ethylene glycol liquid.例文帳に追加

各部品を組み合わせて熱交換器を組立て、フラックを用いることなく高温の真空炉内で真空ろう付けする工程と、チューブおよびタンク内を７０℃以上の純水またはエチレングリコール液で洗浄する工程とを具備する。 - 特許庁

An ejection recovery process is executed according to a vacuum process by rotating the cylindrical member 25 in a state with the cylindrical member 25 facing the head so as to have the vacuum holes 50 face successively a plurality of nozzles 15 provided on the nozzle surface of the head.例文帳に追加

ヘッドに円筒部材２５を対向させた状態で円筒部材２５を回転させ、各吸引穴５０をヘッドのノズル面に設けられた複数のノズル１５に順次対向させることにより、吸引処理により吐出回復処理を行う。 - 特許庁

The stabilization module is arranged between the process region and the vacuum pressure generating unit, and at least two fluid channels so constituted as to bend the passing route of the fluid to improve vacuum uniformity in the process region.例文帳に追加

安定化モジュールは、工程領域及び真空圧発生ユニットの間に配置され、工程領域の真空均一性を向上させるために、流体の通過経路が屈曲するように構成される少なくとも２つの流体通路を有する。 - 特許庁

The heat treatment process is conducted for ≤60 seconds in the atmosphere of 200 to 250°C in a vacuum degree higher than 0.1 Pa.例文帳に追加

熱処理工程は、０．１Ｐａより高い真空度において、２００〜２５０℃の雰囲気中で、６０秒以下の間実施する。 - 特許庁

To prevent the mirror surface properties from being damaged by a flaw or dust in injection molding simultaneous decoration accompanied by a vacuum forming process.例文帳に追加

真空成形工程を伴なう射出成形同時加飾にて、表面の鏡面性が傷や塵で損なわれない様にする。 - 特許庁

To uniformly cause dispersion a process gas in a vacuum chamber for eliminating thickness nonuniformity of a film formed on a substrate, thereby forming a proper film.例文帳に追加

プロセスガスを真空容器内に均等に分散させ、基板の成膜厚みのムラを無くし、良好な薄膜を形成する。 - 特許庁

When the magnetostrictive material with a polycrystal structure is produced by a powder metallurgical process, sintering is performed in a vacuum for a prescribed period.例文帳に追加

粉末冶金法により多結晶構造の磁歪材料を製造するに際し、所定期間真空下で焼結を行う。 - 特許庁

After a vacuum-packaging process, the taros 14 are boiled in the bag 12 until they become edible (for example, for approximately 30 minutes at 90°C).例文帳に追加

真空包装工程の後、里芋１４を袋１２ごと食べられる状態まで（例えば９０℃で３０分程度）茹でる。 - 特許庁

To provide a sealing resin sheet requiring no long-time thermal curing process and reduced in the contamination of a vacuum pump and oil.例文帳に追加

長時間の熱キュア工程を必要とせず、且つ、真空ポンプやオイルの汚れを低減した、樹脂封止シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a positioning device capable of adequate adjustment even in a state where a process chamber and a vacuum chamber are kept at atmospheric pressure.例文帳に追加

プロセス室及び減圧室を大気圧に維持した状態でも、適切に調整を行える位置決め装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum valve which uses a magnetic body which is easy to process and generates a stable magnetic field parallel in an axial direction.例文帳に追加

加工性の容易な磁性体を用い、安定した軸方向と平行な磁界を発生させる真空バルブを提供する。 - 特許庁

To provide a process and a device for easily arranging and installing, removing, and positioning a mask on a substrate coated in a vacuum.例文帳に追加

真空中で塗膜される基板上でマスクを容易に配設、除去および位置決めするためのプロセス」および装置を提供する。 - 特許庁

To provide equipment for improving surveillance and control of an organic layer vacuum evaporation process in manufacturing of organic luminescence equipment.例文帳に追加

有機発光装置の製造における有機層蒸着工程の監視及び制御を改良するための装置を提供すること。 - 特許庁

The member can be manufactured by a physical vapor deposition process under an inert gaseous atmosphere introduced into a vacuum chamber.例文帳に追加

この部材は、真空槽内に導入した不活性ガス雰囲気下における物理蒸着法によって製造することができる。 - 特許庁

MASK CLEANING LIQUID COMPOSITION USED AT VACUUM VAPOR DEPOSITION PROCESS OF LOW MOLECULE TYPE ORGANIC EL ELEMENT, AND CLEANING METHOD例文帳に追加

低分子型有機ＥＬ素子製造の真空蒸着工程において使用するマスクの洗浄液組成物および洗浄方法 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus in which invasion of dust into a process chamber is prevented and the size of an automatic pressure regulator is made small.例文帳に追加

処理室へのゴミの混入を防ぎ、自動圧力調節器を小型化することができる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

This plasma treatment method comprises an arrangement process placing an electrode material layer to contact with an organic functional layer in a vacuum chamber formed between a pair of electrodes, a supply process supplying plasma process gas into the vacuum chamber, and an electric field setting process applying the main alternating voltage overlapped on the reference voltage to one of the electrodes in the vacuum chamber through a condenser and maintaining the other electrode at a reference potential.例文帳に追加

プラズマ処理方法は、１対の電極間に形成されている真空室内に有機機能層に接すべき電極材料層を置く配置工程と、該真空室内にプラズマプロセスガスを供給する供給工程と、該真空室において基準電圧に重畳された主交流電圧を該電極のうちの一方の電極にコンデンサを介して印加するとともに該電極のうち他方の電極を該基準電位に維持する電界設定工程と、を含む。 - 特許庁

To provide the manufacture of a glass enclosure which enables lower- temperature of shorter-time getter activation by making smaller the damage that a non-vaporizable type getter has at the time of sealing and which preferably allows a vacuum baking process, essential for a manufacturing process for a glass enclosure wherein a vacuum is maintained inside, to serve also as a getter activating process.例文帳に追加

非蒸発型ゲッタが封着時に受けるダメージを、より小さくして、より低温、または、より短時間のゲッタ活性化を可能とし、更に好ましくは、内部を真空維持するガラス外囲器の製造工程に不可欠な、真空ベーキング工程がゲッタ活性化工程を兼ねることができるガラス外囲器の製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method for forming a phosphor layer by a vapor deposition method in a closed vacuum chamber 12 has a process for setting a substrate 70 in the vacuum chamber 12, a process for removing dust from a surface 70d of the substrate under the condition where the substrate 70 is set, and a process for forming the phosphor layer on the substrate.例文帳に追加

閉塞された真空チャンバ１２内で、気相堆積法により蛍光体層を形成する製造方法であって、真空チャンバ１２内に基板７０をセットする工程と、基板７０がセットされた状態で基板の表面７０ｄを除塵する工程と、蛍光体層を基板上に形成する工程とを有する。 - 特許庁

Otherwise, after completion of the process of discharging the residual gas in the vessel 110 to the outside with the vacuum pump 120, the process for increasing the pressure in the vessel 110 by supplying nitrogen gas thereto, and the process of reducing the pressure by the vacuum pump may be repeated to reduce the concentration of the residual gas below a given concentration.例文帳に追加

前記容器１１０内の残留ガスを真空ポンプ１２０で外部に排出する工程が完了した後に、容器内に窒素ガスを供給して容器１１０内の圧力を上昇させる工程と、真空ポンプ１２０で減圧する工程を繰り返し、前記残留ガスの濃度を所定の濃度以下にしてもよい。 - 特許庁

The refining method includes a process for selectively preparing N-type scrap silicon lumps containing only specified impurity elements, a process for crushing the prepared scrap silicon lumps, a process for placing the crushed silicon in a vacuum vessel, a process for melting the crushed silicon placed in the vacuum vessel by irradiating it with an electron beam, so as to evaporate the impurity elements, and a process for solidifying the obtained molten silicon.例文帳に追加

特定の不純物元素のみを含有するＮ型スクラップシリコン塊を選択的に準備する工程と、この準備したスクラップシリコン塊を破砕する工程と、この破砕されたシリコンを真空容器内に置く工程と、真空容器内に置かれた破砕シリコンに電子ビームを照射して溶融させ、不純物元素を蒸発させる工程と、得られた溶融シリコンを凝固させる工程とを含む。 - 特許庁

When drying by vacuum heating is carried out after forming a pattern 3 of the organic layer of the organic EL element by using a non-vacuum process, the defect inspection of the pattern is carried out by using optical means 19 and 11.例文帳に追加

非真空プロセスを用いて有機ＥＬ素子の有機層のパターン３を形成した後の真空加熱乾燥を行う際に、光学的手段１９、１１を用いてパターンの欠陥検査を行うこと。 - 特許庁

To provide a vacuum processing method for reducing adhesion of foreign matter to a sample in transporting the sample from a vacuum transport chamber to a processing chamber, and reducing the foreign matter adhering to the sample after starting an etching process.例文帳に追加

真空搬送室から処理室に搬送する際の試料への異物付着を低減すると共に、試料に付着している異物をエッチング処理開始後に低減する真空処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high vacuum die-casting apparatus capable of stably keeping a vacuum degree for a long period of time and having a sealing structure without sucking the outer atmosphere even in either case of before or after a injection process.例文帳に追加

長期的に安定して真空度が維持でき、かつ射出動作前／後のどちらであっても外部雰囲気を吸いこむことが無い密封構造を有する高真空ダイカスト装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dust collection bag for a vacuum cleaner, which is low-cost and has a sufficient productivity or usability by reducing the number of components and simplifying a manufacturing process, and a vacuum cleaner using it.例文帳に追加

部品点数を削減し、製造工程を簡素化することで、安価で生産性或いは使用性の良い電気掃除機用集塵袋およびこれを用いた電気掃除機を提供すること。 - 特許庁

In a preferable process using the thermoforming apparatus, a partial vacuum is generated in the vacuum chamber of the mold and the sheet on the mold is quenched in a quenching tank.例文帳に追加

熱成形装置を使用する好ましいプロセスは、モールド上の加熱されたシート１０４を引き付け、モールドの真空室内に部分真空を作るし、モールド上のシートを急冷タンク内で急冷する。 - 特許庁

After installation of a panel 1 on a fixture pallet 9, the inside of the panel 1 is decompressed with a vacuum pump slightly lower than that for semi-finishing grinding process in order to secure the panel 1 with vacuum.例文帳に追加

治具パレット９上にパネル１を設置した後、パネル１の内部を中研磨工程での真空度よりも僅かに低い真空度まで真空ポンプで減圧し、パネル１を真空固定する。 - 特許庁

A primary vacuum tank 40 and a secondary vacuum tank 50 are connected to a lower mold 30 so as to be able to be changed over alternately and the primary vacuum tank 40 is used in a process for shaping the skin material 3 to allow the same to get intimate with the surface of the core material.例文帳に追加

成形用下型３０にプライマリー真空タンク４０とセカンダリー真空タンク５０とを交互に切替え可能に接続し、芯材２表面に表皮材３をなじませる表皮材３の形状出し工程にプライマリー真空タンク４０を使用する。 - 特許庁

At least one of the plurality of transporting circuits is for transporting energy toward the interior of the vacuum housing in order to guide the gas evolution of the vacuum housing for use in the lithography equipment in the second process mode for allowing the lithography equipment to be in a vacuum operation state.例文帳に追加

複数の移送回路のうちの少なくとも１つは、リソグラフィ装置を真空動作状態にする第２のプロセス・モードで使用するために、真空ハウジングのガス放出を誘導するべく真空ハウジングの内部へ向けてエネルギーを移送するようになされている。 - 特許庁

The method includes: transferring a wafer from a cassette stage to a load lock chamber through a rectangular wafer transfer chamber of atmospheric pressure environment; forming vacuum pressure in the load lock chamber; transferring the wafer from the load lock chamber to the process chamber; and processing the wafer under vacuum in the process chamber.例文帳に追加

カセットステージから大気圧環境の長方形のウェハ移送チャンバーを通ってロードロックチャンバーにウェハを移送し、ロードロックチャンバー内に真空圧を形成し、ロードロックチャンバーから工程チャンバーにウェハを移送し、工程チャンバー内で真空下にウェハに対する加工を行う。 - 特許庁

In a process of forming the conductive paths by forming the first conductive film by a simple process of hardening the paste without using sputtering, chemical vapor deposition, and vacuum evaporation methods, the substrate is not exposed to vacuum and high temperature.例文帳に追加

第１導電膜を、スパッタリング法、化学気相成長法および真空蒸着法を用いないで、ペーストを塗布して硬化させるという簡単な工程によって、形成することによって導電路を形成する工程で、基板を真空および高温に曝すことがない。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing film carrier in which a resist pattern is stably formed using a batch type vacuum laminator for adhesion of dry film and a batch type vacuum ashing device for the ashing process and plating failure and adhesion failure in the mounting process are never generated.例文帳に追加

ドライフィルムの貼り合わせにバッチ式の真空ラミネータ装置、アッシングにバッチ式の真空アッシング装置を用いて、レジストのパターンを安定して形成し、まためっき不良や実装時の密着不良を発生させないフィルムキャリアの製造方法を提供すること。 - 特許庁

An exhaust opening 161 for communication between a process chamber 1 and a vacuum bump is provided on a rear plate 16 which is a detachable panel-like member constituting a side surface of the process chamber 1.例文帳に追加

処理チャンバ１の側面を構成する着脱自在のパネル状部材である裏板１６に、処理チャンバ１と真空ポンプとを連通接続するための排気口１６１を設ける。 - 特許庁

In a pressure feed process after a vacuum sucking process, hydraulic pressure is additionally applied to the fluid pressure circuit while simulator operating valve 23 is opened and a pressure accumulation chamber 102 of the stroke simulator 24 is opened.例文帳に追加

そして、真空引き工程後の圧送工程において、シミュレータ作動弁２３を開弁させてストロークシミュレータ２４の蓄圧室１０２を開放し、液圧回路に液圧を追加供給する。 - 特許庁

The ingredients preliminarily cooled or frozen to a lower temperature than a target temperature for vacuum-cooling the rice ball 1 may be used instead of the ingredient-deaerating process or in addition to the ingredient-deaerating process.例文帳に追加

前記具材の空気抜きに代えて、またはそれに加えて、おにぎり１の真空冷却の目標温度よりも低い温度まで予め冷却または凍結させた具材を用いてもよい。 - 特許庁

A vacuum chamber is kept closed as it is during a shift period shifting from the first process to the second process, and the first material 4 is not exchanged with the second material 4.例文帳に追加

第１プロセスから第２プロセスに移行する移行期間中に真空室はそのままに閉じられたままであり、第１蒸着材料が第２蒸着材料に交換されることはない。 - 特許庁

As for the device, the device used for the flattening process by plasma etching and the device for the epitaxial layer growth process and accompanying devices are housed in one vacuum chamber.例文帳に追加

また、本発明の装置は、プラズマエッチングによる平坦化工程と、エピタキシャル層成長工程およびそれに付随する装置とを同一の真空室に収納してなるものである。 - 特許庁

An annular channel 120 is opened to an upper face 108 of the sleeve, and a process tube is supported on the upper face 108, and gas or a vacuum seal is provided between the process tube and the support sleeve.例文帳に追加

環状チャネル１２０は、スリーブの上面１０８に開口し、該上面１０８上に、プロセスチューブを支持し、プロセスチューブと支持スリーブとの間にガスまたは真空シールが提供される。 - 特許庁

The substrate 0 is transferred in a vacuum or inert atmosphere without touching the atmosphere among all the processes that range from the film-forming process to the crystallizing process or between the partial processes of any of all the processes.例文帳に追加

成膜工程から結晶化工程までの全ての工程間又は何れか一部の工程間で、基板０を大気に触れることなく真空又は不活性雰囲気中で搬送する。 - 特許庁

Substrates 9 are successively transferred to each process chamber by a transfer system via a direction change chamber to which a plurality of vacuum chambers including the process chamber is surroundingly hermetically connected.例文帳に追加

処理チャンバーを含む複数の真空チャンバーが周囲に気密に接続された方向転換チャンバーを経由して各処理チャンバーに順次基板９が搬送系により搬送される。 - 特許庁