「vacuum process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To solve a problem that it is hard to install a non film-forming region in a winding direction in a manufacturing method of an electrode plate formed by a vacuum process.例文帳に追加

真空プロセスで形成する極板の製造方法にあって、非成膜領域を捲回方向に設けるのが困難である。 - 特許庁

After drying treatment is finished in the second stage drying process, the coating dregs are cooled by water spraying with the vacuum condition maintained.例文帳に追加

二次乾燥工程における乾燥処理が終了した後に、真空状態を保持したまま散水して塗料粕を冷却する。 - 特許庁

To prevent bubbling when liquid crystal is dropped in a liquid crystal filling process and to prevent the mix of the bubbles and contamination in a vacuum chamber.例文帳に追加

液晶注入工程における液晶滴下時の泡立ちを防止し、気泡の混入及び真空チャンバ内の汚染を防止する。 - 特許庁

To provide a process for producing a high precision thin film transistor simply and efficiently without requiring a vacuum system or photolithography.例文帳に追加

真空系やフォトリソを用いなくとも、精度の高い薄膜トランジスタ素子シートを、簡易、且つ、効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum heat insulator maintaining an excellent heat insulating effect for a long period without deteriorating gas barrier property in a manufacturing process.例文帳に追加

ガスバリア性が製造工程で低下することなく、長期にわたってすぐれた断熱効果が維持される真空断熱体を提供する。 - 特許庁

To efficiently manufacture an optical disk, including an operation for attaching and detaching masks within a vacuum vessel before and after a sputtering film formation process.例文帳に追加

スパッタ成膜工程の前後にマスクの着脱を真空容器内で行なう操作を含めて効率よく光ディスクを製造する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a highly accurate organic thin film transistor easily and efficiently without using a vacuum system or photolithography.例文帳に追加

真空系やフォトリソを用いなくとも、精度の高い有機薄膜トランジスタを、簡易、且つ、効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

At the start of a purification and exhaust process, the operation of a vacuum pump P51 is started, and the supply of ozone from an ozonizer 51 is started.例文帳に追加

浄化排気工程を開始するときに、真空ポンプＰ５１の動作を開始させ、かつ、オゾナイザー５１からオゾンの供給を開始させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of ensuring the high operation rate of a manufacturing device, and manufacturing a plasma display panel at high throughput without using a vacuum process.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルを真空プロセスを用いることなく、製造装置の稼働率が高く、高スループットで製造する方法を提供する。 - 特許庁

The material used for the observation window 151 requires corrosion resistance to process gas and prescribed strength to vacuum or the like.例文帳に追加

覗き窓１５１に用いられる材料は、プロセスガスに対する耐腐食性及び真空等に対する所定の強度が要求される。 - 特許庁

In this film layer- forming process, the pressure in the reaction chamber is maintained in the range of from 1×102 to 2×104 Pa by means of a vacuum pumping system.例文帳に追加

この成膜工程では、真空排気装置により反応室の圧力を１×１０^2 〜２×１０^4 Ｐａの範囲内に維持する。 - 特許庁

Further, the method has a process of generating the tungsten carbide powder by heating the powder mixture in a vacuum or non-oxidizing atmosphere.例文帳に追加

さらに、上記混合粉末を真空または非酸化性雰囲気中で加熱して炭化タングステン粉末を生成する工程を有する。 - 特許庁

A vacuum process reactor is provided with gas implanting manifolds 30 at irregular intervals as well as a wafer supporting electrode 12.例文帳に追加

間隔変更に設けられたガス注入マニホルド電極３０とウェーハ支持電極１２とを備えた真空処理反応装置である。 - 特許庁

In a first closing process at closing operation of the vacuum valve, a first closing medium passage 36 for pressurizing a first closing function space 11 is blocked.例文帳に追加

真空バルブの閉動作時に第１閉過程において、第１閉機能空間１１の加圧のための第１閉媒体通路３６が遮断される。 - 特許庁

The roller 1 may be provided integrally with the main body of the vacuum cleaner in a manufacturing process, or may be in the form of an attachment which is attached later.例文帳に追加

ローラー１は掃除機の製造工程で本体と一体に設けてもよいし、後に取り付けるアタッチメントの形態であってもよい。 - 特許庁

To eliminate such a problem that a tact increases by a vacuum suction time by simplifying a tube mounting process and apparatus.例文帳に追加

チューブ装着工程および装置をシンプルにして、真空吸着時間分だけタクトが余計にかかるという問題を解消すること。 - 特許庁

To provide a vacuum cleaner which reduces oscillation and noise which are generated in the process in which dust is separated in a cyclone separation part.例文帳に追加

本発明はサイクロン分離部で塵埃が分離される過程で発生する振動及びノイズを低減する真空掃除機を提供する。 - 特許庁

(1) The solid fuel manufacturing method includes a heating deodorizing process in which the organic sludge is heated in a vacuum condition to be deodorized.例文帳に追加

１）有機性汚泥を真空状態で加熱することにより消臭する加熱消臭工程を含む、固形燃料製造方法。 - 特許庁

To form a mirror face on which light is not scattered due to peeling or surface unevenness, by electroless plating without using a vacuum process.例文帳に追加

剥離や表面凹凸による光散乱が生じない鏡面を真空プロセスを用いることなく、無電解めっきにより形成する。 - 特許庁

METHOD FOR RECOVERY BY SEPARATION OF FLUORDOCHEMICALS FROM EXHAUST GAS EXAUSTED FROM SEMI-CONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS WHILE VACUUM PUMP DILUENT IS RECYCLED例文帳に追加

真空ポンプ希釈剤をリサイクルしつつ半導体製造工程から出る排ガスからフッ素化化学薬品を分離回収する方法 - 特許庁

To form a uniform film by avoiding the influence of the charge concentration when a film is formed by a CVD process in a vacuum chamber.例文帳に追加

真空チャンバ内でＣＶＤ法により成膜する場合に、電荷集中の影響を避けて均一な膜を形成できるようにする。 - 特許庁

The method comprises a process storing the tank (container) made of the resin in a chamber and pre-heating the tank, a process making either inside or/and outside of the tank vacuum before or after the process pre-heating the tank, and a process injecting the reactive gas into the decompressed part.例文帳に追加

樹脂製のタンク（容器）をチャンバー内に収納し、タンクを予備加熱する工程と、タンクを予備加熱する工程の前又は後にタンクの内側又は／および外側を減圧する工程と、減圧した部分に反応性ガスを注入する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

It has a negative electrode formation process which forms the negative electrode 303 of the organic EL device, which has been formed on a substrate 300, by vacuum evaporation, and a sealing process which carries out the sealing of the organic EL device, and the upper and lower sides of the substrate 300 are reversed between the negative electrode formation process and the above sealing process.例文帳に追加

基板３００上に形成される有機ＥＬ装置の陰極３０３を蒸着により形成する陰極形成工程と、有機ＥＬ装置を封止する封止工程とを有し、陰極形成工程と前記封止工程との間で基板３００の上下を反転させる。 - 特許庁

A apparatus 1 for eliminating contamination is provided with a vacuum pump 5 that evacuates the inside of a process chamber 3 in which objects 2 to be cleaned are placed, gas bombs 21 from which process gas is introduced into the process chamber 3, and an electron-beam irradiating means 9 that irradiates the objects 2 to be cleaned placed inside the process chamber 3 with the electron beam.例文帳に追加

汚染除去装置１は、被洗浄物２を置く処理室３に、処理室３内を排気する真空ポンプ５と、処理室３内に処理ガスを導入するガスボンベ２１と、処理室３内に置かれた被洗浄物２に電子線を照射する電子線照射手段９とを具備する。 - 特許庁

In the refining for bearing steel, a primary refining process is carried out with a converter while supplying nitrogen gas into the molten steel, and a bubbling process for blowing the nitrogen gas into the molten steel tapped from the converter and stirring with the nitrogen gas is carried out, and a vacuum-degassing treatment process to be performed after the bubbling process is performed.例文帳に追加

軸受鋼の精錬において、窒素ガスを溶鋼に供給しながら行う転炉で一次精錬工程を行い、転炉から出鋼した溶鋼中に窒素ガスを吹き込み当該窒素ガスで撹拌するバブリング工程を行い、バブリング工程後に行なう真空脱ガス処理工程を行なう。 - 特許庁

This method for producing the food comprises a process for quickly freezing a food material such as meat, fish or vegetable, a process for subjecting the frozen food material to a vacuum freeze-drying treatment, a process for crushing the dried food material, and a process for performing the bacterium test and calorie calculation of the crushed food material.例文帳に追加

蓄肉、魚肉、野菜などの食材を急速冷凍凍結する工程と、前記凍結した食材を真空凍結乾燥する工程と、前記乾燥した食材を粉砕する工程と、前記粉砕した食材の細菌検査とカロリー計算をする工程とからなる食品の製造方法。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 101 comprises a process chamber 201 for housing a wafer 200 as a substrate, a heater 207 for heating the wafer 200, a gas supply means for supplying a process gas to the process chamber 201, a vacuum bump 246 for exhausting the gas in the process chamber 201, and a controller 280.例文帳に追加

基板としてのウエハ２００を収容する処理室２０１と、ウエハ２００を加熱するヒータ２０７と、処理室２０１内に処理ガスを供給するガス供給手段と、処理室２０１内のガスを排気する真空ポンプ２４６と、コントローラ２８０とを備える基板処理装置１０１である。 - 特許庁

A vacuum deposition device is equipped with a wafer support substrate, a lamp heater, and a first and a second evaporation source that are all installed in the same vacuum device, and three processes of forming the barrier metal layer of the Schottky barrier diode, carrying out an annealing process, and forming a surface electrode are continuously carried out in the same vacuum device.例文帳に追加

同一真空装置内にウェハ支持基板、ランプヒーター、第１および第２の蒸発源を設置した真空蒸着装置を用い、ショットキーバリアダイオードのバリアメタル層形成、アニール処理、表面電極形成の３工程を同一真空装置内で連続して行う。 - 特許庁

The method includes a process that places the chip while vacuum check is being carried out on the stage 19, and a process that turns off the vacuum chuck and then moves the chip on the stage by using the position control nib 17 that is moved by the driving means to position the chip.例文帳に追加

この方法は、ステージ１９上に真空吸着させながらチップを載置する工程と、真空吸着をオフにした後、上記駆動手段によって動かす位置規正爪１７を用いてステージ上でチップを移動させることによりチップの位置決めを行う工程と、を具備するものである。 - 特許庁

The method of manufacturing the ferromagnetic body includes a process of vacuum-encapsuling graphite and metal samarium, which is two times or more as large as graphite in terms of mass ratio, in a heat-resisting container, and a process of heat-treating the heat-resisting container after the vacuum encapsulation at 500 to 750°C.例文帳に追加

本発明の強磁性体の製造方法は、 グラファイトと、グラファイトに対して質量比で2倍以上の金属サマリウムとを耐熱性容器内に真空封入する工程と、 真空封入後の耐熱性容器を500℃以上750℃以下で加熱処理する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a surface protective tape which reduces the adhesion of grinding waste to the rear surface of the tape which is effective to prevent from trouble upon handling by a vacuum suction fixer from the back-grind process to surface protective tape separating process while enhancing the suction force between the vacuum suction fixer.例文帳に追加

ウェハのバックグラインド工程から表面保護テープ剥離工程への真空吸着固定器によるハンドリング時の支障を防ぐのに有効な、テープ背面への研削屑の付着を少なくし、真空吸着固定器との間の吸着力を強くする表面保護テープを提供する。 - 特許庁

This vacuum-assembly device for liquid crystal display element is composed of the vacuum chamber in which the assembly process of substrates is performed, upper part stage and lower part stage which are disposed opposite with each other in the vacuum chamber, suck the respective substrates conveyed thereinto by a conveyor and assemble the respective substrates and a temperature compensating means which compensates the loss of temperature in the vacuum chamber.例文帳に追加

基板の貼り合わせ工程が行われる真空チャンバー、前記真空チャンバー内に各々対向して備えられ、搬送装置により搬入された各基板を吸着して、各基板間の貼り合わせを行う上部ステージ及び下部ステージ、前記真空チャンバー内の温度の損失を補償する温度補償手段で構成されることを特徴とする。 - 特許庁

The vacuum processing apparatus 100 is characterized in that a 1st vacuum processing chamber 10 and a 2nd vacuum processor 30 which process a work are longitudinally connected in a freely linked state and a load lock chamber 509 equipped with a carrying mechanism 52 for carrying in and out the work between the vacuum processing chambers 10 and 30 is longitudinally coupled with the 2nd vacuum processors 30 in a free linked state.例文帳に追加

真空処理装置１００は、被処理体を処理する第１の真空処理室１０と第２の真空処理装置３０とが連通自在且つ縦列に連結されており、さらに、被処理体を真空処理室１０，３０のそれぞれの間で搬入し、搬出する搬送機構５２を備えたロードロック室５０が第２の真空処理装置３０に連通自在に縦列に連結されている。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system which surely shields the ones required for shielding in accordance with a film deposition process among respective members provided inside a vacuum chamber, and whose compactness is not damaged as well.例文帳に追加

真空チャンバ内に設けられた各部材のうち成膜プロセスに応じて遮蔽する必要があるものを確実に遮蔽するとともに、装置のコンパクトさを損なうこともない真空成膜装置を提供することである。 - 特許庁

In a process of depositing a film by successively depositing a raw material substance on a substrate in a vacuum chamber 10 by vacuum film deposition, the specific resistance of the deposited film is obtained by a control device 50.例文帳に追加

真空成膜により真空チャンバ１０内で、原料物質を順次に基板上に堆積することにより被膜を形成する過程において、堆積された被膜の比抵抗を、制御装置５０により求める。 - 特許庁

To maintain a high vacuum state inside a vacuum vessel as an envelope, by sufficiently discharging surface adsorbed gas inside a device in a manufacturing process for a flat-type image display device.例文帳に追加

平面型画像表示装置の製造工程中において、装置内部の表面吸着ガスを十分に放出させることによって、外囲器としての真空容器内部を高真空状態に維持することを可能にする。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for removing particles in an end effector vacuum cup and preventing acid etc. from entering a vacuum passage in the electropolishing and/or electroplating process in a robot assembly for moving a wafer.例文帳に追加

電気研磨および／または電気めっきプロセスにおいて、ウェーハを移動させるロボットアセンブリにおいて、エンドエフェクタ真空カップ内の粒子を取除き、真空通路に酸などが入るのを防止する装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a shaping printed matter, and a shaping printed matter which can suppress the generation of cracking and image coming-off when shaping working such as, embossing, vacuum, pneumatic pressure or vacuum pneumatic pressure molding, etc., is conducted.例文帳に追加

エンボス加工、真空、圧空又は真空圧空成形等の成形加工の際に、ひび割れ及び画像抜けの発生を抑制することができる成形印刷物の製造方法、並びに、成形印刷物を提供すること。 - 特許庁

In the following process for processing the waste material, the mixed waste material whose content of the inorganic material is adjusted is appropriately fine-pulverized and the vacuum heat insulation material is obtained by sealing the fine-pulverized mixed waste material into a covering material under a vacuum pressure.例文帳に追加

次の廃材加工工程において、無機材料含有率が調整された混合廃材は、適切な微粉化処理を施され、さらに、減圧下で被覆材へ封止されることにより、真空断熱材となる。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck of vacuum processing device, a vacuum processing device comprising it and a method for manufacturing the electrostatic chuck capable of easily stabilizing a manufacturing process and coping with making into extra large size area by diversifying the forms of protruding parts in compliance with the characteristics of the process and by simplifying the manufacturing process for the electrostatic chuck having the protruding part.例文帳に追加

突起部の形状を工程の特性に応じて多様化することができ、突起部を有する静電チャックの製造工程を単純化し、製造工程の安定化と超大型面積化への対応が容易な真空処理装置の静電チャック、それを有する真空処理装置、及び静電チャックの製造方法を提供する。 - 特許庁

The dry etching method includes a mounting process for mounting a material A to be etched onto the lower electrode of a vacuum treatment chamber 20a having upper and lower electrodes 21 and 23, a heating process for heating the inside of the vacuum treatment chamber and the upper and lower electrodes, and a dry etching treatment process for carrying out dry etching treatment to the material to be etched.例文帳に追加

上部電極２１及び下部電極２３を具えた真空処理室２０ａの、下部電極上に被エッチング材Ａを搭載する搭載工程と、真空処理室の内部、上部電極及び下部電極を加熱する加熱工程と、被エッチング材に対してドライエッチング処理を施すドライエッチング処理工程とを、ドライエッチングプロセスに用いる。 - 特許庁

This treatment method of organic waste water incorporates a process (1) in which phosphor and nitrogen in the waste water is made to a form of ammonium magnesium phosphate and taken out the same outside the system and, therein, is characterized in that a vacuum treatment process (2) in which the waste water which contains phosphor and nitrogen is subjected to vacuum treatment prior to the process (1).例文帳に追加

有機性排水を処理する方法であって、該排水中のリン及び窒素をリン酸マグネシウムアンモニウムの形態にして系外に取り出す工程（１）を組み入れている処理方法において、前記工程（１）の前にリン及び窒素を含有する該排水を減圧処理する減圧処理工程（２）を組み込むことを特徴とする有機性排水の処理方法。 - 特許庁

This method consists of a process of conveying a thin processed part S to an inspecting position, a process of generating vacuum destruction between the thin processed part S and sucking table 21 before suction at the inspecting position, and a process of making the sucking table 21 suck the thin processed part S immediately after of the vacuum destruction.例文帳に追加

薄板加工部品Ｓを搬送して検査位置へもたらす工程と、検査位置にて吸着する前に薄板加工部品Ｓと吸着テーブル２１との間で真空破壊を生じさせる工程と、真空破壊を生じさせた後直ちに薄板加工部品Ｓと吸着テーブル２１に吸着させる工程と、からなることを特徴とする。 - 特許庁

A film forming process of supplying a processing gas into a vacuum processing chamber 2, generating decomposition seeds through a heating catalyst 6, and depositing a deposit on a board 5, an etching process of dry- etching a thin film, and a cleaning process of cleaning the inside of the chamber are carried out.例文帳に追加

真空のプロセスチェンバー２内にプロセスガスを供給し、加熱触媒体６により分解種を生成して、基板５上に堆積物を堆積する成膜プロセス、薄膜をドライエッチングするプロセス又はチェンバー内をクリーニングするプロセスを実施する。 - 特許庁

The resin molding method has an application process to apply resin to the surface of an electronic component, a degassing process to carry out degassing in vacuum atmosphere while in the application or after the application, and a molding process to mold a resin for moldings while installing in a metal mold.例文帳に追加

本発明の樹脂モールド方法は、電子部品の表面へ樹脂を塗布する塗布工程と、塗布時もしくは塗布後に真空雰囲気で脱気する脱気工程と、金型内に設置して注型用の樹脂をモールドするモールド工程とを有している。 - 特許庁