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"development processing"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 755件
To provide a heat-developable photographic sensitive material free from rise of fog with lapse of time in a sample after exposure, especially to infrared laser beams, and development processing, concerning the storage stability.例文帳に追加
熱現像写真感光材料の画像保存性に関し、特に赤外レーザー露光後、現像処理済みの試料が経時でカブリ増加することのない熱現像写真感光材料の提供。 - 特許庁
Then, a second resist film is formed using the second resist material on the substrate having the first resist pattern formed thereon, and exposure and development processing is executed to the second resist film to form a second resist pattern.例文帳に追加
そして、第1レジストパターンが形成された基板に第2レジスト材料を用いて第2レジスト膜を形成し、第2レジスト膜に対して露光および現像処理を行って、第2レジストパターンを形成する。 - 特許庁
The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a drying processing block 13 and an interface block 14.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、乾燥処理ブロック13およびインターフェースブロック14を備える。 - 特許庁
To reduce the development processing time needed for form overlay image generation when overlay printing is designated and to speedily perform an overlay print processing utilizing optimum form data corresponding to a printing condition.例文帳に追加
オーバレイ印刷指定時におけるフォームオーバレイ画像生成に要する展開処理時間を短縮して、印刷条件に応じた最適なフォームデータを利用したオーバレイ印刷処理を高速に行うことである。 - 特許庁
When it is decided that the development is to be carried out, a retrieval word development processing part 205 obtains the developed words corresponding to the retrieval words by referring to the retrieval word development dictionary 206.例文帳に追加
この判別により展開を行なうと判別された場合に、検索語展開処理部205が、検索語展開辞書206を参照して、前記検索語に対応する展開語を取得する。 - 特許庁
The negative film subjected to rapid development processing without undergoing at least either of a bleaching process and a fixing process after undergoing, for example, a color developing process is used as the negative film 12.例文帳に追加
ネガフィルム12としては、たとえば発色現像工程を経たあと漂白工程および定着工程のうち少なくともいずれか一方の工程を経ずに迅速現像処理されたものが用いられる。 - 特許庁
When the surface defect inspecting device detects the surface defect of the wafer and it is decided through the evaluation of the sensor data that the sensor data are abnormal, it is decided that the coating development processing equipment is abnormal.例文帳に追加
そして、表面欠陥検査装置によりウェハの表面欠陥が検出され、なおかつセンサデータの評価によりセンサデータが異常と判定された場合に、塗布現像処理装置を異常と判定する。 - 特許庁
A color developing tank 44 and a bleach-fix tank 45 of a development processing section 19 are defined as processing tanks of a first group G1 and first to fourth washing tanks 46 to 49 are defined as the processing tanks of a second group G2.例文帳に追加
現像処理部19の発色現像槽44と漂白定着槽45とを第1グループG1の処理槽とし、第1〜第4水洗槽46〜49を第2グループG2の処理槽とする。 - 特許庁
The substrate is etched with the positive type resist as mask by a heat treatment, full-surface exposure and development processing while the resist on recorded and exposed parts is made to remain after signal recording of the resist on the substrate.例文帳に追加
基板上のポジ型レジストの信号記録後、熱処理と全面露光及び現像処理により記録露光部のレジストを残し、上記レジストをマスクにして基板をエッチングし、基板を直接スタンパーにする。 - 特許庁
The information processor for executing development processing of print data develops the print data by deciding a segmented area of the print data after acquiring usable area information of the information processor.例文帳に追加
印刷データの展開処理を行う情報処理装置において、情報処理装置の利用可能な領域情報を取得し、印刷データの分割領域を決定して、印刷データの展開を行う。 - 特許庁
A control section moves a development nozzle 21 between development processing sets 10 by moving the development nozzle 21 on a horizontal plane (moving travelling plane H1) at a first height (AR2, AR6).例文帳に追加
制御部は、現像ノズル21を、第1の高さにある水平面(移動走行面H1)上で移動させることによって、現像ノズル21を現像処理セット10間で移動させる(AR2,AR6)。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus capable of quickly printing printable print jobs by receiving a plurality of print jobs in sequence and reflecting the determination of printing propriety of the print jobs in PDL development processing and print processing.例文帳に追加
複数の印刷ジョブを順次受け付け、印刷ジョブの印刷の可否判断をPDL展開処理と印刷処理とに反映させて印刷可能な印刷ジョブを迅速に印刷できるようにする。 - 特許庁
For this regulation, prebake temperature and conditions in development processing after pattern exposure are set so that undercut parts having a proper depth and length are formed in a thin film material layer before post-bake.例文帳に追加
この調節のために、ポストベーク前の薄膜材料層に適切な奥行き長さをもったアンダーカット部分が形成されるように、プリベーク温度及び、パターン露光後の現像処理の条件を設定する。 - 特許庁
To contribute to not only high-speed RAW image data development processing accompanying increase in the number of pixels of an imaging apparatus, and also to reduce arithmetic load of image processing accompanying the increase in the number of pixels.例文帳に追加
本願発明では、撮像装置の画素数の増加に伴ったRAW画像データの現像処理の高速化するとともに画素数の増加に伴う画像処理の演算負荷の軽減を目的とする。 - 特許庁
Disclosed is the development processor 4 that performs processing from color development processing to washing processing including bleach-fixing processing by carrying a photosensitive material P having been exposed from a supply side to a discharge side.例文帳に追加
露光済み感光材料Pを供給側から排出側へ搬送することで発色現像処理から漂白定着処理を経て洗浄処理に至る処理を実施する現像処理装置4。 - 特許庁
To suppress throughput deterioration when trouble occurs in a processing unit for performing development processing or a conveying mechanism, in an apparatus which carries out resist film formation on a substrate and development of the substrate subjected to exposure.例文帳に追加
基板に対してレジスト膜を形成し、露光後の基板を現像する装置において、現像処理を行うための処理ユニットや搬送機構のトラブルの発生に対してスループットの低下を抑えること。 - 特許庁
The coiled and temporarily stored paper P is fed out to the downstream side in carrying, an inclination is straightened by a width regulation guide 12c in a second carrier unit 12, and thereafter, it is carried to a development processing section.例文帳に追加
そうして巻き取って一時貯留したペーパーPを搬送下流側に送り出し、第2搬送ユニット12の幅規制ガイド12cにより傾きを矯正した後に、現像処理部へ搬送する。 - 特許庁
To provide a development apparatus which can remove the liquid developer on a substrate even if the operation is stopped due to action of a fail-safe mechanism, or the like, and to provide an application development processing system provided with the development apparatus.例文帳に追加
フェイルセーフ機構等の作動により動作が停止した場合であっても、基板上の現像液を除去することが可能な現像装置およびこれを備える塗布現像処理システムを提供する。 - 特許庁
The substrate processing apparatus 500 is juxtaposed with an indexer block 10, a treatment block 11 for resist films, a cleaning/drying treatment block 12, a development processing block 13, and an interface block 14 in this order.例文帳に追加
基板処理装置500においては、インデクサブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、洗浄/乾燥処理ブロック12、現像処理ブロック13およびインターフェースブロック14が、この順で並設される。 - 特許庁
The development processing is performed by keeping the belt 103 impregnated with the processing solution, such as the developing solution, and reacting the processing solution oozed out of the belt 103 with the emulsion layer of the photographic film 1.例文帳に追加
処理液塗布ベルト103に現像液などの処理液を含浸させておき、処理液塗布ベルト103からしみ出させた処理液を写真フィルム1の乳剤層に反応させて現像処理を行う。 - 特許庁
In an application development processing system 1, a first block G1 and a second block G2 where a plurality of processing devices are stacked in multiple steps in a vertical direction and arranged in series in a horizontal direction are arranged.例文帳に追加
塗布現像処理システム1には、複数の処理装置を鉛直方向に多段に積層し、かつ水平方向に直列に配置した第1のブロックG1と第2のブロックG2が配置されている。 - 特許庁
To reproduce images free of the occurrence of an excess smear while utilizing the exposure capacity possessed by an exposure head as effectively as possible without depending upon the kinds of photographic paper and/or the state of a development processing solution.例文帳に追加
印画紙の種類および/または現像処理液の状態に依存せず、露光ヘッドの有する露光能力をできるだけ有効に活かしながら、余分な滲みが生じることない画像を再現する。 - 特許庁
To enhance liquid ejection velocity of a liquid ejector greatly as compared with a conventional one by realizing high rate development processing of compressed data and high rate data transfer to a liquid ejection head.例文帳に追加
圧縮データの高速な展開処理と、液体噴射ヘッドへの高速なデータ転送とを実現し、液体噴射装置の液体噴射実行速度を従来と比較して飛躍的に高速化する。 - 特許庁
The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a cleaning block 13, and an interface block 14.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、洗浄処理ブロック13およびインターフェースブロック14を備える。 - 特許庁
To easily adjust an exposure amount for each area finely set within a substrate surface, improve uniformity of a resist residual film after a development processing and suppress fluctuation in a line width and a pitch of a wiring pattern.例文帳に追加
基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を容易に調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁
In a development processing method of photosensitive planographic printing plate, with respect to a relationship between a conveyance speed P (mm/second) of photosensitive planographic printing plate and a rotating speed S (rpm) of scrub roller, a value of S/P is set within a range from 20 to 40.例文帳に追加
感光性平版印刷版の搬送速度P(mm/秒)とスクラブローラの回転速度S(rpm)の関係、S/Pの値を20〜40とする感光性平版印刷版の現像処理方法。 - 特許庁
The microbubble generation section 71 generates microbubbles containing nitrogen gas supplied from the gas supply section 70 in the color development processing liquid reserved in the color development tank 55a.例文帳に追加
マイクロバブル発生部71は、発色現像槽55aにおいて貯留されている発色現像処理液中に、ガス供給部70から供給される窒素ガスを含むマイクロバブルを発生させる。 - 特許庁
A JSP development engine executes output item development processing (S1203), meta-information insertion engine executes aspect injection processing (S1204), and the AP server executes response creation processing (S1205).例文帳に追加
そして、JSP展開エンジンによる出力項目展開処理(S1203)、メタ情報挿入エンジンによるアスペクト注入処理(S1204)、APサーバによるレスポンス生成処理(S1205)を実行する。 - 特許庁
When a cover 30 for covering the top surface of a developing section 22 of the development processing section 14 after the end of a shut-down inspection, a CPU 16a of the controller 16 operates a lamp 38 and a buzzer 40.例文帳に追加
終業点検の終了後に現像処理部14の現像部22の上面を覆うカバー30が閉じている場合、コントローラ16のCPU16aはランプ38およびブザー40を動作させる。 - 特許庁
In such a case, the heat accumulated in the recording sheets 20 via the heat transfer members 237 during the heat development processing is reused for preheating of the recording sheets 20 advancing into the plate heaters 230a to 230d.例文帳に追加
この場合、伝熱部材237を介して、熱現像処理の際に記録シート20に蓄積された熱が、プレートヒータ230a〜230dに進入する記録シート20の予加熱のために再利用される。 - 特許庁
When the terminal equipment 1 can requests the plurality of terminal equipment 3(or 2) to perform the development processing, the terminal equipment 1 selects the proxy terminal equipment whose processing time required for the development/recording processing performed in the past is short.例文帳に追加
端末装置1で複数の端末装置3(あるいは2)に展開処理を依頼できる場合は、過去の代行させた展開/記録処理に要した処理時間の短かい端末装置を選択する。 - 特許庁
The developing method and the developing device are characterized in that the ratio of the conveying speed of the substrate at the start of the development processing to the conveying speed of the substrate at the end is set to 0.2 to 0.9.例文帳に追加
現像処理が開始する時点の基板の搬送速度と終了する時点の前記基板の搬送速度の比を、0.2から0.9の範囲に設定することを特徴とする現像方法及び現像装置である。 - 特許庁
To provide a substrate treating device capable of uniformly supplying a treating liquid on the surface of a substrate without affecting the physical properties of a treating liquid and damaging the substrate in the substrate treatment such as development processing.例文帳に追加
現像処理等の基板処理において、処理液の物性に影響を与えることなく、且つ基板を傷めることなく、基板面上に均一に処理液を供給できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁
The negative film subjected to rapid development processing without undergoing at least either one process step of a bleaching process step and fixing process step after undergoing, for example, a color developing process step is used as the negative film 12.例文帳に追加
ネガフィルム12としては、たとえば発色現像工程を経たあと漂白工程および定着工程のうち少なくともいずれか一方の工程を経ずに迅速現像処理されたものが用いられる。 - 特許庁
To provide a method for steaming a printed fabric intended for preventing the fabric from steaming failure due to color development unevenness, string traces and size scorch so as to realize uniform dye setting and accomplish color development processing for the fabric with high fastness and clear hue.例文帳に追加
捺染された布帛の蒸熱処理時に、布帛に発色むら、紐跡、糊焼けに基因する蒸し故障を防止し、均一な染着固着が発揮出来て、堅ろう度と色相の鮮明な発色加工が得られる。 - 特許庁
To provide a processing method by which printing durability and surface stain of a non-image area are improved even when a developer of ≤pH 12 is used, in a development processing method for a negative lithographic printing plate for near infrared laser exposure.例文帳に追加
近赤外線レーザー露光用のネガ型平版印刷版の現像処理方法において、pH12以下の現像液を用いても耐刷性と非画像部の地汚れが改良した処理方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a photographic development processing device capable of surely preventing the drying and crystallyzing of a processing liquid stuck to the surface of a transporting roller located at the uppermost part of each processing tank.例文帳に追加
各処理タンクの最上部に位置する搬送ローラーの表面に付着した処理液が乾燥して結晶化するのを確実に防止することができる写真現像処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To position a long-sized magnet body, while reducing a level difference between the long-sized magnet body and the circumferential surface of a magnet roller in the radial direction, regarding a magnet roller unit for a development processing apparatus used for an image forming apparatus.例文帳に追加
画像形成装置に用いる現像装置のマグネットローラユニットにおいて、長尺磁石体とマグネットローラの円周表面との半径方向での段差を低減しながら、長尺磁石体の位置決めを行う。 - 特許庁
The required amount development processing unit 110 calculates a required amount of the material necessary for production, and subtracts the weight of the material from the calculated required amount of the material to calculate a delivery scheduled amount of the material.例文帳に追加
そして、所要量展開処理部110は、製造に必要な材料の所要量を算出し、該算出した材料の所要量から材料の重量を減算して材料の出庫予定量を算出する。 - 特許庁
The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a liquid immersion processing block 13, and an interface block 14.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、液浸露光用処理ブロック13およびインターフェースブロック14を備える。 - 特許庁
To provide a processing liquid replenishing tank which is capable of surely recovering the processing liquid leaking to the upper part of a tank body when stirring the processing liquid and a development processing device for a photographic sensitive material having the processing liquid replenishing tank.例文帳に追加
処理液を攪拌するときにタンク本体上部に漏出する処理液を確実に回収できる処理液補充タンクと、この処理液補充タンクを備えた写真感光材料の現像処理装置を提供する。 - 特許庁
Thus, the carrying unit 7, the reduced-pressure drying units 53b and 55b and the resist application processing unit CT are prevented from being arranged side by side in one direction, thereby miniaturizing an application development processing apparatus 1.例文帳に追加
このため、垂直搬送ユニット7、減圧乾燥ユニット53b、55b及びレジスト塗布処理ユニットCTが一方向に並設されることことを回避して、塗布現像処理装置1の小型化を図ることができる。 - 特許庁
In the case that typeset data for one page are collectively stored in a server 1 from a typesetting terminal 4, the processing device for newspapers' page development 7 applies development processing to typeset data for one page and creates the image data for output.例文帳に追加
組版端末装置4から一紙面分の組版データを一括してサーバ1に記憶した場合には、紙面展開装置7は一紙面分の組版データに展開処理を施して出力用画像データを作成する。 - 特許庁
A removing brush 25 removing dust sticking on the paper P is provided downstream from the contact portion T1 of the side wall surface 14 in the conveying direction and upstream from the development processing section E in the conveying direction.例文帳に追加
側壁面14の接触部分T1よりも搬送方向下流側であって且つ現像処理部Eよりも搬送方向上流側には、ペーパーPに付着した塵埃を取り除く除去ブラシ25が設けられている。 - 特許庁
Consequently, agitation and conveyance areas can sufficiently be secured in the cylindrical body 40Y and at an outer periphery, the developing device can be made compact, and a developer can be agitated and conveyed without causing deterioration to perform excellent development processing.例文帳に追加
これにより、円筒状体40Yの内部及び外部周辺に攪拌・搬送領域を十分確保でき、小型化が可能で、劣化が生じることなく現像剤の攪拌・搬送可能で、良好な現像処理が行える。 - 特許庁
To provide a development processing method which produces waste liquids, etc., to a lesser extent, is superior in environmental adaptability and is superior in image quality characteristics, more particularly image quality characteristics of the peripheral parts of images and a silver halide photographic sensitive material.例文帳に追加
廃液等が少なく環境適応性に優れた処理方式であり、かつ画質特性、特に画像周辺部の画質特性に優れた現像処理方法及びハロゲン銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁
To configure a device which hardly damages a sensitive material by avoiding the phenomenon of depositing crystals from a development processing liquid on a guide roller bearing part which guides the photosensitive material, and making the guide roller rotate smoothly.例文帳に追加
感光材料を案内するガイドローラの軸受け部に現像処理液から結晶が析出する現象を回避してガイドローラを円滑に回転させると共に、感光材料を傷つけ難い装置を構成する。 - 特許庁
When the flag FDRK is set to '1', after dark reception processing is conducted (S16), photographing processing is conducted (S21), data correction is conducted in development processing of the S24 and then photographing data receiving dark correction are stored in a memory.例文帳に追加
そして、FRDKが「1」のときはダーク取込処理を行なった後(S16)に撮影処理を行ない(S21)、S24の現像処理でダーク補正を行ない、その後ダーク補正された撮像データをメモリに記録する。 - 特許庁
In contrast, when the measured line width in the peripheral portion is smaller than the targeted line width, a treatment liquid must be supplied to the peripheral portion of the wafer after the development processing, and an amount of the treatment liquid to be supplied is set (Step S5).例文帳に追加
外周部の線幅測定結果が目標線幅より小さい場合には、現像処理後においてウェハの外周部に処理液を供給させ、当該処理液の供給量を設定する(ステップS5)。 - 特許庁
To provide a holding jig which stably holds a mask material for exposure during transport, while facilitating the attachment and detachment of a mask material for exposure, allows high-quality development processing and is small in size, light in weight and is robust.例文帳に追加
本発明の課題は、露光用マスク材料の着脱が容易でありながら、搬送時は安定して保持し、しかも高品質な現像処理が可能な、小型で軽量かつ堅牢な保持用治具を提供する。 - 特許庁
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