「"temperature processing"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The excellent water and oil repellent property is obtained by low temperature processing of a water dispersed type fluorine water and oil repellent agent by addition of an organic polyvalent metal compound as a cross-linking agent or a cross-linking accelerator.例文帳に追加

水分散型フッ素系撥水撥油剤に、架橋剤又は架橋促進剤として、有機多価金属化合物を添加することにより、低温加工処理で優れた撥水撥油性を得ることができた。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive pattern with high conductivity which uses an etching liquid with less environmental load, the reduced number of steps and low-temperature processing that is applicable even for a plastic substrate.例文帳に追加

環境負荷の少ないエッチング液で、工程数が少なく、プラスチック基板に対しても適用可能な低温処理で、高伝導率の導電性パターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum carburization processing method and a vacuum carburization processing apparatus capable of ensuring the quality by suppressing the coarsening of crystal grains caused by the high-temperature processing even when the processing time is shortened by expediting advancement of carburization and diffusion by raising the processing temperature.例文帳に追加

処理温度を高くすることにより浸炭及び拡散の進行を速めて処理時間を短縮した場合にも高温処理による結晶粒の肥大化を改善して品質を確保する。 - 特許庁

To provide a substrate heating apparatus maintaining a pressure inside a conductive heater at ≤1.0×10^-2 Pa as a predetermined value for a long time even in a high-temperature processing having a temperature of ≥2,000°C.例文帳に追加

基板加熱装置において、２０００℃を越える高温処理下においても、導電性ヒータ内部の圧力が、規定値である１．０×１０^−２Ｐａ以下を長期的に維持することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus capable of making a footprint small, eliminating the necessity of providing a special mechanism for separating an exhausted gas from and drainage, and hardly causing breakage due to thermal expansion even if a high-temperature processing liquid is used.例文帳に追加

フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要がなく、高温の処理液を用いた場合でも熱膨張による破損が生じ難い液処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of permeating and immobilizing a metal complex stably even in a low temperature processing in a batch processing method of a plating pretreatment which permeates the metal complex into a polymer using a high pressure carbon dioxide.例文帳に追加

高圧二酸化炭素を用いて金属錯体をポリマーに浸透させるメッキ前処理のバッチ処理法において、低温度の処理においても安定に金属錯体をポリマーに浸透、かつ固定化する方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of the support for a planographic printing plate, in which an efficient processing is made possible even when a low temperature processing liquid is employed so as not to exert a bad influence upon a processing tank or the like.例文帳に追加

低温の処理液を用いても効率よく処理できるようにして、処理槽等に悪影響を与えないようにした平版印刷版用支持体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the processing apparatus 1, under a condition that the flow rate of the ozone containing gas is constant, an ignition in the chamber 24 is detected based on a differential pressure between a gas supply line 11 and an exhaust line 12 of the high temperature processing chamber 24.例文帳に追加

プロセス装置１においては前記オゾン含有ガスの流量が一定のもとで高温処理チャンバ２４のガス供給ライン１１と排気ライン１２の差圧に基づき当該チャンバ２４における発火が検出される。 - 特許庁

A control means 41 controls an output power adjusting means 11 depending on the basis of a temperature detected on the basis of the physical quantity related to the impedance detected, and a temperature set on the basis of temperature processing information.例文帳に追加

制御手段４１は、検出されたインピーダンスに関する物理量に基づいて検出した温度と、温度処理情報に基づいた設定温度とに基づいて、出力電力調節手段１１を制御する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck which reduces the manufacturing cost, by eliminating integration of a dielectric layer with a heating/cooling flange, and which, in particular, exerts proper corrosion resistance with respect to high-temperature processing of a semiconductor, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

誘電体層と加熱・冷却フランジとの一体化を省略して製造コストを低減し、特に半導体の高温プロセスに対しても十分な耐食性を有する静電チャックおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new polyvinyl chloride-based resin for a paste, capable of being produced in a good productivity, and excellent in gelling property of a plastisol, preservation stability of the plastisol, tensile physical properties under a low temperature processing condition and heat resistance.例文帳に追加

生産性良く製造可能で、プラスチゾルのゲル化性、プラスチゾルの貯蔵安定性、低温加工条件における引張物性、耐熱性に優れた新規なペースト用塩化ビニル系共重合樹脂を提供することを課題とする。 - 特許庁

To improve the adhesion and durability of the film stacks during subsequent elevated temperature processing in a method for forming modulated tantalum/tantalum nitride diffusion barrier stacks on semiconductor device substrate used in interconnect structure.例文帳に追加

配線構造に使用される半導体デバイスの基板上に、調節されたタンタル／窒化タンタルの拡散障壁の積み重ねを形成する方法において、後の高温の加工中における膜の積み重ねの付着性及び耐久性を改善する。 - 特許庁

To provide a method for producing an assisting food and a food additive using bone of eel as raw material suppressing offensive smell caused to bone marrow in raw bone of an eel, without using facilities for mincing, high pressure/high temperature processing.例文帳に追加

ミンチング用設備、高圧・高温処理設備を用いることなく鰻の生骨中の骨髄液による悪臭を抑制した鰻の骨を原料とする健康補助食品及び食品添加物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve a problem that an electronic device formed by using an inexpensive sol-gel method allowing nano particles to be self-organized using cohesion of the nano particle is not achieved since a manufacturing method adaptable to the electronic device requires high temperature processing and is not bearable for mass production.例文帳に追加

電子デバイスへ適応できる製造方法は、高温処理が必要で、量産には耐え難く、ナノ粒子の持っている凝集力を活用して自己組織化させる低価格のゾル・ゲル法を利用した電子デバイスはまだ実現されていない。 - 特許庁

A temperature processing part 140 of this RFID tag reader/writer 100 measures the temperature at prescribed time intervals by use of a temperature sensor 150, and writes the measured temperature into the RFID tag 200 in real time by use of a writing part 130.例文帳に追加

ＲＦＩＤタグリーダライタ１００の温度処理部１４０が温度センサ１５０を用いて一定時間間隔で温度を測定し、測定した温度を書込部１３０を用いてリアルタイムでＲＦＩＤタグ２００に書き込むよう構成する。 - 特許庁

To provide a tool for manufacturing an ultrasonic vibrator and a method for manufacturing thereof for manufacturing the vibrator with stable in shape without stress corrosion cracking, with long term reliability and excellent productivity under low temperature processing.例文帳に追加

低温熱処理下で、形状が安定し応力腐食割れを無くし、長期信頼性と優れた生産性でもって超音波振動子を製造することができる、超音波振動子用製造冶具及び超音波振動子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the production of an article from such an alloy by thermomechanical processing, a dispersion of the fine titanium-zirconium carbonitride precipitates forms during solidification of the melt, and remains present during subsequent high temperature processing steps to prohibit austenitic crystal grains growth.例文帳に追加

加工熱処理によってかかる合金から物品を製造する際には、融液の凝固時に微細炭窒化チタン−ジルコニウム析出物の分散体が生成し、以後の高温処理段階時にも存続してオーステナイト結晶粒の成長を防止する。 - 特許庁

To provide a method of forming film which can eliminate a TiN film forming process by thermal CVD method conventionally used for obtaining enough thickness as a barrier layer by using low-temperature processing tungsten film formation process.例文帳に追加

低温のプロセス温度によるタングステン膜の形成工程を用いることで、バリヤ層として十分な膜厚を得るために従来行われた熱ＣＶＤによるＴｉＮ膜の形成工程を省略することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermochromic composition excellent in lightfastness which can develop a clear allochroic effect, and to provide thermochromic fibers which can maintain high lightfastness even when applied to fibers to be manufactured by high temperature processing.例文帳に追加

鮮明な変色効果を発現できる耐光性に優れた感温変色性組成物を提供すると共に、高温加工により製造される繊維に応用した場合であっても、高い耐光性を維持できる感温変色性繊維を提供する。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a reaction tube, improved in sealing, preventing the leakage of a cleaning gas from a reaction furnace, and enabling use of HCl gas as a cleaning gas in a vertical furnace for high temperature processing of a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加

半導体製造装置の高温処理用縦型炉に於いてシール性を向上させ、クリーニングガスが反応炉より漏出することを防止し、クリーニングガスとしてＨＣｌガスの使用を可能とした反応管のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a water-based coating composition forming a coated film having excellent low-temperature processing and water resistances and high hardness, and to provide a coated metal prepared by coating a metal with the water-based coating material composition, heating and curing the composition.例文帳に追加

本発明は、耐低温加工性、耐水性に優れると共に、高硬度の塗膜を形成し得る水性塗料組成物を提供すること、及び該水性塗料組成物を金属に塗布し、加熱・硬化してなる被覆金属を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid processing device and liquid processing method for a substrate, which can sufficiently perform high-temperature processing of a substrate when performing processing of a peripheral part of the substrate, and can sufficiently prevent particles from adhering to a surface of the substrate.例文帳に追加

基板の周縁部分の処理を行う場合において、基板の高温処理を十分に行うことができるとともに基板の表面にパーティクルが付着することを十分に抑制することができる基板の液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a precise and inexpensive piezoelectric device having structure capable of performing high temperature processing necessary and sufficient for anneal processing regardless of the problem of the thermal resistance of a semiconductor integrated circuit in a piezoelectric device where the semiconductor integrated circuit and a piezoelectric oscillator are incorporated in a package.例文帳に追加

半導体集積回路と圧電振動子とをパッケージに内蔵した圧電デバイスにおいて、半導体集積回路の耐熱性の問題に拘わることなくアニール処理に必要充分な高温処理が行える構造で、高精度で安価な圧電デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a conductive base material for packaging a semiconductor which allows for good adhesion to a sealing material or the like, minimization of degradation in electrical characteristics and heat dissipation, low temperature processing, excellent productivity, and reduction of marks such as scratches or rubbing.例文帳に追加

封止材等との接着性が良好であり、電気特性及び放熱性の低下を抑制することができ、低温処理可能であって、生産性に優れ、キズやコスレなどの痕が付きにくい、半導体実装用導電基材の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wafer level package, a chip size package device, and a method of manufacturing a wafer level package capable of avoiding generation of cracks of a sealing frame at dicing, and suppressing generation of peeling in a wafer even through high-temperature processing after wet processing and liquid cleaning.例文帳に追加

ダイシング時におけるシール枠のクラックの発生を回避すると共に、ウェットプロセスや液体洗浄の後に高温のプロセスを通してもウエハにおける剥離の発生を抑制し得るウエハレベルパッケージ、チップサイズパッケージデバイス及びウエハレベルパッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a binder for a heat developable photosensitive material capable of ensuring superior adhesiveness between layers constituting a multilayer heat developable photosensitive material when used in the heat developable photosensitive material, and capable of improving adhesiveness particularly in high temperature processing in a developing step.例文帳に追加

積層型の熱現像感光材料に用いた場合、熱現像感光材料を構成する各層間の接着性に優れるものとすることができ、特に現像工程における高温処理時での接着性を向上させることが可能な熱現像感光材料用バインダーを提供する。 - 特許庁

Such glass does not release any semiconductor poison such as iron, arsenic and boron, can be used for high temperature processing, and especially, is suitable for application to Cd-Te-photovoltaic power generation, application to CIS-photovoltaic power generation, or application to CIGS-photovoltaic power generation.例文帳に追加

これらガラスは、半導体毒、例えば鉄、ヒ素及びホウ素を放出することなく、高温処理に使用することができ、かつとりわけＣｄ−Ｔｅ−太陽光発電適用もしくはＣＩＳ−太陽光発電適用ないしはＣＩＧＳ−太陽光発電適用に適当である。 - 特許庁

The color temperature processing circuit can include first and second logarithmic amplifiers 61, 62 for generating first and second logarithmic signals, respectively, from the first and second photodetector signals, and a subtraction circuit 51 for generating a signal indicative of the difference between the first and second logarithmic signals.例文帳に追加

色温度処理回路は、第１及び第２の光検出器信号からそれぞれ第１及び第２の対数信号を生成する第１及び第２の対数増幅器（６１，６２）と、第１の対数信号と第２の対数信号との差を示す信号を生成する減算回路（５１）と、を含み得る。 - 特許庁

To provide an adhesive composition having high initial adhesion power to fix an adherend strongly, and easily peeling off by irradiating a light even after a high-temperature processing of 200°C or more, and to provide an adhesive tape using the adhesive composition.例文帳に追加

高い初期粘着力を有し強固に被着体を固定可能であるとともに、２００℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても、光を照射することにより容易に剥離することができる粘着剤組成物、及び、該粘着剤組成物を用いた粘着テープを提供する。 - 特許庁

The control device 25 is equipped with a temperature raising means executing temperature processing to raise the temperature of the exhaust gas emitted from the engine 1 to the exhaust passage 26 until a predetermined time lapses after the supply of the additive to the DPNR catalyst 12 is finished by the spraying nozzle 5.例文帳に追加

制御装置２５は、噴射ノズル５によるＤＰＮＲ触媒１２への添加剤供給が終了してから所定期間が経過するまでエンジン１から排気通路２６に排出される排気を昇温させる昇温処理を実行する昇温手段を備える - 特許庁

To provide a self-adhesive composition which has high initial self-adhesive force, can strongly fix an adherend, and which can be easily released by light irradiation or by heating even after subjected to a high temperature processing at 200°C or above; and a self-adhesive tape for semiconductor processing using the self-adhesive composition.例文帳に追加

高い初期粘着力を有し強固に被着体を固定可能であるとともに、２００℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても、光の照射又は加熱により容易に剥離することができる粘着剤組成物、及び、該粘着剤組成物を用いた半導体加工用粘着テープを提供する。 - 特許庁

To provide an electroconductive ink, being a low temperature processing type electroconductive ink, capable of forming an extremely fine electroconductive pattern by screen printing, moreover requiring no specialized production process, and excellent in resistance value stability; to provide a laminate with the electroconductive pattern using the electroconductive ink; and to provide a method for producing the laminate.例文帳に追加

低温処理型の導電性インキであって、かつ、スクリーン印刷によって高精細な導電性パターンを形成することが可能であり、さらに、特殊な製造工程を必須とせず、かつ、抵抗値安定性に優れた導電性インキ、及びそれを用いた導電パターン付き積層体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a drying processing method and a drying furnace in which both a drying carbonization and a high temperature processing for generated gas can be carried out within the same furnace and either vapor generated from items to be processed or bad odor and harmful components in the generated gas can be discharged into atmosphere as discharged gas of non-odor and non-toxic characteristic under a high temperature combustion.例文帳に追加

同一炉内で乾燥炭化と発生ガスの高温処理を可能にし、処理物から発生した蒸気やガス中の臭気および有害成分を高温燃焼により無臭無害の排気ガスとして大気中に排出させることのできる乾燥処理方法および乾燥炉を提供することにある。 - 特許庁

As a result, higher the RF power representing plasma generation energy set to the device side is raised, from 700 W to 900 W or higher, when forming the plasma SiN film 22, the larger the amount of hydrogen leaving from the plasma SiN film 22 will be, at a low temperature processing during later sintering treatment, thereby making the sintering treatment sure.例文帳に追加

これによって、プラズマＳｉＮ膜２２の成膜時に装置側で設定するプラズマ発生エネルギーを示すＲＦパワーを７００Ｗから９００Ｗさらにそれ以上に上げるほど、後のシンター処理時にプラズマＳｉＮ膜２２から低温で離脱する水素量が多くなってシンター処理が確実に行われる。 - 特許庁

To enhance cleaning power by employing a cleaning liquid for semiconductor substrate composed of ammonia, hydrogen peroxide and ultrapure water and specifying the relationship between the processing temperature, processing time and the mol concentration ratio between ammonia and hydrogen peroxide thereby suppressing roughness on the surface of the substrate.例文帳に追加

半導体装置等の製造プロセスにおいて、基板の表面あれを発生させずに基板表面から異物を効果的に除去できる半導体基板表面の洗浄液、および当該洗浄液を用い処理後の基板表面状態を厳密に制御できる基板表面の処理方法を提供する。 - 特許庁

The concentration of carbon monoxide in material air is measured, and according to the concentration, a position for extracting the crude argon out of a fractionator of a low-temperature processing type air separator is selected from crude argon extraction ports 26A, 26B, 26C for separating the crude argon from the air by the fractionator.例文帳に追加

深冷分離型空気分離装置の精留塔により空気から粗アルゴンを分離するにあたり、原料空気中の一酸化炭素濃度Ｃ_ＣＯを測定し、この一酸化炭素濃度に応じて、精留塔の外へ粗アルゴンを抽出する位置を粗アルゴン抽出口２６Ａ、２６Ｂ、２６Ｃのうちから選択する。 - 特許庁

The compositions are produced by combining a curing agent with an uncured fluorocarbon elastomer, a high temperature processing aid and a thermoplastic material, and heating the mixture at a temperature and for a time sufficient to effect vulcanization of the elastomeric material, while mechanical energy is applied to mix the mixture during the heating step.例文帳に追加

組成物は硬化剤、未硬化フルオロカーボンエラストマー、高温加工助剤、および熱可塑性材料を混合し、エラストマー材料の加硫を行うのに充分な温度と充分な時間混合物を加熱し、その間加熱工程中機械的エネルギーを適用して混合物を混合することで製造される。 - 特許庁

A processing apparatus 1 includes an ozone decomposition device 22 that controls the ozone concentration of an ozone containing gas with ozone concentration of 80 vol% or more, which is supplied to a high temperature processing chamber 24 from an ozone supply device 21 through an ozone supply line 11 at a constant flow rate, by controlling the supply of an ozone decomposition factor to the ozone containing gas.例文帳に追加

プロセス装置１はオゾン供給装置２１からオゾン濃度８０ｖｏｌ％以上のオゾン含有ガスが一定の流量で高温処理チャンバ２４に供されるオゾン供給ライン１１に前記オゾン含有ガスに対するオゾン分解因子の供給を制御することにより当該ガスのオゾン濃度を制御するオゾン分解装置２２を備える。 - 特許庁

A waste disposal system which disposes of waste 100, which is the mixture of inorganic substance, organic substance and sodium, comprises desalinating equipment removing the sodium from the waste, a dryer 300 drying the waste removed with the sodium, a primary incinerator 400 incinerating the organic substance mixed in the waste, and a secondary incinerator 500 melting the inorganic material remaining after high temperature processing.例文帳に追加

有機物と、無機物と、塩分とが混在する廃棄物１００を処理する廃棄物処理システムを、廃棄物から塩分を除去する脱塩設備２００と、塩分を除去した廃棄物を乾燥する乾燥設備３００と、乾燥した廃棄物を高温処理し、廃棄物に混在する有機物を焼却する第一次焼却設備４００と、高温処理した後に残った無機物を熔融する第二次焼却設備５００とで構成する。 - 特許庁