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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Thermal processingの意味・解説 > Thermal processingに関連した英語例文

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Thermal processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 971



例文

To provide a high-heat-resistant electronic device in which a junction thermal processing temperature is low and a high melting point can be ensured after solidification, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

接合熱処理温度が低くて済み、凝固後は高い融点を確保し得る高耐熱性の電子デバイス及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting apparatus capable of preventing the effect of thermal expansion or shrinkage even in heat-processing using glass as a sealing material.例文帳に追加

封止材にガラスを用いて加熱加工する場合でも、熱膨脹・熱収縮の影響が生じないようにした発光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high-heat-resistant electronic device in which a junction thermal processing temperature is low and a high melting point can be ensured after solidification, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

接合熱処理温度が低くて済み、凝固後は高い融点を確保し得る高耐熱性の電子デバイス及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To reduce the waving of a paper sheet discharged from a thermal fixing device; and to prevent defective paper conveyance such as jamming in a paper post-processing apparatus.例文帳に追加

加熱定着装置から排出された用紙の波打ちを低減するとともに、用紙後処理装置におけるジャム等の用紙搬送不良を防止する。 - 特許庁

例文

To provide a polyolefin molded product having good thermal stability during processing and discoloration by contact with contents suppressed to an ultralow level.例文帳に追加

加工時の良好な熱安定性を有し、内容物接触による着色が極めて低水準に抑制されたポリオレフィン成形体を提供する - 特許庁


例文

At a first silicidation processing, only a surface layer of the gate electrode 5 reacts to the first metal film by a thermal treatment to form an upper silicide film 33.例文帳に追加

熱処理によってゲート電極5の表面層のみを第1金属膜と反応させる第1回目のシリサイド化を行い上層シリサイド膜33を形成する。 - 特許庁

After applying correction processing to the captured digital image data, a sublimation type thermal transfer printer 7 prints out the resulting image data by a prescribed number of prints to obtain photo prints 9.例文帳に追加

取り込んだデジタル画像データに補正処理した上で、所定の枚数だけ昇華型熱転写プリンタ7によりプリントして写真プリント9を得る。 - 特許庁

To provide a constitution in which an ohmic electrode of low resistance is formed on a substrate comprised of SiC without thermal processing under a high temperature, and a method of manufacturing it.例文帳に追加

SiCよりなる基板上に低抵抗のオーミック電極を高温の熱処理なしで形成する構成とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a calculation method for calculating a neck-in width precisely considering a viscoelastic change of a resin due to thermal deterioration of the resin by extrusion lamination processing or the like.例文帳に追加

押出ラミネート加工等における樹脂の熱劣化による粘弾性変化を考慮し、ネックイン幅を精度よく計算する計算方法を提供する。 - 特許庁

例文

After a wafer is subjected to a sintering processing, it is cooled down and taken out from the thermal treatment device, by which the wafer is capable of recovering from its damage on a MOS interface level in a preceding process.例文帳に追加

シンター処理後、いったん冷却してから取り出すことにより、MOS界面準位などの前工程のダメージを短時間で回復させうる。 - 特許庁

例文

Furthermore, since the thermosetting resin is not turned into an amorphous carbon by heat treatment, the thermosetting resin does not suffer thermal shrinkage and can retain high processing accuracy even if it is thermally cured.例文帳に追加

さらに熱処理によるアモルファスカーボン化を行わないので熱収縮が起こらず、加熱・硬化しても高い加工精度を保つことができる。 - 特許庁

To always make quantity of heat given to be constant without changing the temperature of a heat roll even when a processing speed is changed in a thermal laminating apparatus.例文帳に追加

サーマルラミネート装置において、加工速度が変化しても、熱ロールの温度を変更することなく付与する熱量を常に一定にすることが出来るようにする。 - 特許庁

To provide a method for producing a polymer, in which resistance to thermal decomposition of the polymer obtained by controlled radical polymerization is enhanced, as well as decomposition and deterioration of the polymer during thermoforming processing are suppressed.例文帳に追加

制御ラジカル重合で得られる重合体の耐熱分解性を向上させ、熱成形加工時の分解や劣化を抑制すること。 - 特許庁

To provide a hydrogenated ring-opening metathesis polymer excellent in heat resistance, thermal decomposition resistance and light transmittance, and used as a photoresist suitable for the fine processing of a semiconductor.例文帳に追加

耐熱性、耐熱分解性、光透過性に優れ、半導体微細加工用フォトレジストに適した開環メタセシス重合体水素添加物を提供する。 - 特許庁

There is disclosed a lamp assembly adapted for use in heating a substrate to temperatures up to at least about 1,100°C in a substrate thermal processing chamber.例文帳に追加

基板熱処理チャンバにおいて基板を少なくとも約1100℃までの温度に加熱するのに使用するよう適応されるランプアセンブリが開示されている。 - 特許庁

A wafer boat 161 having a dielectric precursor layer formed is loaded into the thermal processing apparatus 101 at a speed at which no defect is produced in wafer W.例文帳に追加

次に熱処理装置101内にウエハWに不良が生じない速度で、誘電体前駆体層が形成されたウエハボート161をロードする。 - 特許庁

A control unit 100 of a thermal processing apparatus 1 heats the inside of a reaction tube 2 stored with a semiconductor wafer W having the natural oxide film formed to 400°C.例文帳に追加

熱処理装置1の制御部100は、自然酸化膜が形成された半導体ウエハWを収容した反応管2内を400℃に加熱する。 - 特許庁

To provide an image recording device which can effectively use various kinds of recording media without any restriction of thermal processing conditions and ink absorbing conditions.例文帳に追加

熱的プロセス条件やインク吸収条件に限定されることなく、多種多様な記録媒体を有効に用いることができる画像記録装置を提供する。 - 特許庁

The thermal processing device includes a stage 216, a continuous wave (CW) electromagnetic radiation source 202, a series of lenses 210, a translation mechanism 218, and a controller 226.例文帳に追加

熱処理装置は、ステージ216と、連続波(CW)電磁放射ソース202と、一連のレンズ210と、並進移動メカニズム218と、コントローラ226とを備えている。 - 特許庁

First group-III and nitrogen precursors are flowed into a first processing chamber to deposit a first layer over a substrate with a thermal chemical-vapor-deposition process.例文帳に追加

III族及び窒素の前駆物質が、第1の処理チャンバに流入されて、熱化学気相堆積プロセスを用いて、基板上に第1の層が堆積される。 - 特許庁

To simply manufacture a high-capacity gas sensor excellent in thermal impact resistance and to also simply perform the adjustment of chamfering processing.例文帳に追加

耐熱衝撃性に優れた高性能なガスセンサを簡単に製造することができ、しかも、面取り加工の調整も簡単に行うことができるようにする。 - 特許庁

To provide a composition for casting, having storage stability as a one component system, enabling the processing, and additionally having high thermal stability and tear resistance.例文帳に追加

一成分系として貯蔵安定でありかつ加工可能であり、かつ付加的に高い熱安定性及び引裂き抵抗を有する注型用組成物の提供。 - 特許庁

A computer implemented method, a data processing system and the processor are provided for thermal throttling control for testing of real-time software.例文帳に追加

リアルタイム・ソフトウェアを試験するためのサーマル・スロットリング制御のための、コンピュータによって実施される方法、データ処理システム、およびプロセッサを提供する。 - 特許庁

A method and an apparatus are provided for holding the substrate having a holding frame 54 capable of minimizing deformation during thermal expanding in a processing chamber.例文帳に追加

プロセス室における熱膨張中に受ける変形を最小にする支持フレーム54を有する、基板支持のための方法及び装置を提供している。 - 特許庁

The removed fine particles are mixed with general waste as lumps of 10 mm or larger with a granulator 15 for thermal decomposition melting processing.例文帳に追加

除去した細粒は、造粒機15で10mm以上の塊状として一般廃棄物と混合して熱分解溶融処埋することができる。 - 特許庁

In this method, material having high hydraulic properties is manufactured at a low cost by simultaneously processing high thermal energy included in waste from agriculture and fisheries and waste gypsum and the like.例文帳に追加

従来、これをコンポストとして、農学用土壌改良剤に用いているが、処理困難で最適の処理技術が今までに開発されていない。 - 特許庁

To provide a laser processing device which is capable of reducing its thermal load imposed on a substrate to a small extent and suitably applied to an annealing process carried out for a semiconductor thin film.例文帳に追加

基板への熱的負荷を小さく抑えた半導体薄膜のアニール処理に好適に用いることが可能なレーザ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal printer in which the residual capacity of a battery can be managed regardless of the discharging characteristics of the battery and print processing can be carried out efficiently.例文帳に追加

電池の放電特性に関係なく電池の残容量を管理可能で、印字処理を効率よく行うことのできるサーマルプリンタを提供する。 - 特許庁

Recrytallization progresses and then the processing strain caused in the heat sink 21 owing to the thermal spraying is relaxed to correct deformation of the heat radiation structure A.例文帳に追加

再結晶が進行するこことにより、溶射によってヒートシンク21に生じた加工ひずみを緩和させて、放熱構造体Aの変形を矯正する。 - 特許庁

To provide a processing method which can eliminate the need for high-temperature annealing causing a thermal history to unfavorably influence an impurity distribution in a substrate.例文帳に追加

熱履歴が基板中の不純物の分布に好ましくない影響を与えてしまう高温アニールを必要としない処理方法を提供する。 - 特許庁

By a controller 100 of a thermal processing device 1, the inside of a reaction tube 2 is heated at 400°C storing a semiconductor wafer W where a native oxide film is formed.例文帳に追加

熱処理装置1の制御部100は、自然酸化膜が形成された半導体ウエハWを収容した反応管2内を400℃に加熱する。 - 特許庁

To maintain demanded working precision even when manual after- processing is not applied by restraining thermal expansion due to cutting heat generated at the time of working.例文帳に追加

加工する際に発生する切削熱による熱膨張を抑え、人手による後工程を施さなくても、要求の加工精度を保つことができる。 - 特許庁

To prevent the serious problem that results in sticking and cutting of an ink ribbon by printing a coloring matter layer after overcoating when a print processing of a thermal sublimation type printer is performed.例文帳に追加

熱昇華型プリンタの印刷処理時にオーバーコート後に色素層を印刷してインクリボンの貼り付き、切断に至る重大問題を未然に防ぐ。 - 特許庁

The thermal processing apparatus includes a storage chamber which contains the object and an atmospheric gas, and a capacity changing means of changing the capacity of the storage chamber.例文帳に追加

その熱処理装置は、対象物と雰囲気ガスを収容する収容室と、収容室の容積を変更する容積変更手段を備えている。 - 特許庁

To provide a light emitting device which is made not to be affected by thermal expansion or heat shrinkage even when performing heating processing using glass for a sealer.例文帳に追加

封止材にガラスを用いて加熱加工する場合でも、熱膨脹・熱収縮の影響が生じないようにした発光装置を提供する。 - 特許庁

To suppress thermal diffusion of laser beam and improve processing precision of the negative electrode in the pattering method of the negative electrode using laser beam in an organic EL element.例文帳に追加

有機EL素子におけるレーザを用いた陰極のパターニング方法において、レーザの熱拡散を抑制し、陰極の加工精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a thermal transfer image receiving sheet capable of forming a good image with a high density and less defects of the image by a processing in a short time.例文帳に追加

短時間処理において、高濃度で画像欠陥が少ない良好な画像を形成することができる感熱転写受像シートを提供する。 - 特許庁

To provide a method for nitriding a turbine blade capable of forming a nitride film with optional thickness distribution on the turbine blade with less thermal energy according to the purpose of processing.例文帳に追加

処理目的に応じて、タービン翼に任意の厚さ分布の窒化膜を少ない熱エネルギーで形成可能なタービン翼の窒化方法を提供する。 - 特許庁

An image processing part 30 detects a pedestrian on the basis of a thermal image generated by a far infrared light image sensor 20 in the state of a substrate temperature Ta.例文帳に追加

画像処理部30は、基板温度Taの状態で遠赤外線イメージセンサ20により生成された熱画像に基づいて、歩行者を検出する。 - 特許庁

To provide a temperature measuring apparatus for performing a cheap temperature measurement with a high accuracy, and a placement table structure and a thermal processing apparatus using the temperature measuring apparatus.例文帳に追加

安価で且つ精度の高い温度測定を行うことが可能な温度測定装置、これを用いた載置台構造及び熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To prevent unevenness on ribs as much as possible in a method for forming the ribs on a substrate for a plasma display by means of thermal processing using a laser beam.例文帳に追加

レーザー光を用いた熱加工によりプラズマディスプレイ用基板上にリブを形成する方法であって、リブにできるだけ凹凸を生じさせないようにする。 - 特許庁

To provide a heat shield where a pump is shielded from the thermal energy generated in a semiconductor wafer processing chamber to improve the performance of a cryopump.例文帳に追加

半導体ウェーハ処理チャンバー内に生じた熱エネルギーからポンプをシールドすることによりクライオポンプの性能を向上させる熱シールドを提供する。 - 特許庁

Subsequently, a thermal processing is applied to the film 2 at normal pressure in an atmosphere of an inert gas containing a hydrogen to form a metal oxide film 2a having improved film quality.例文帳に追加

次に金属酸化膜2に水素を含む不活性ガス雰囲気中の常圧で熱処理を加え、膜質が改善された金属酸化膜2aを形成する。 - 特許庁

To perform stable and also high speed processing by optimally adjusting a bus clock frequency and a clock frequency multiplication rate inside a CPU and preventing the thermal runaway of the CPU.例文帳に追加

バスクロック周波数とCPU内部のクロック周波数逓倍率を最適に調整して、CPUの熱暴走を防止して、安定かつ高速な処理を行なう。 - 特許庁

A thermal condition of the next process is accessible more easily in advance by effectively utilizing sensible heat previously disposed, when the batch processing mode is simply switched.例文帳に追加

バッチ処理モードを単純切換する場合には廃棄されていた顕熱の有効利用により、次工程の熱的条件に予め近付け得る。 - 特許庁

To prevent the generation of thermal runaway by suppressing the temperature rise of a CPU even when the frequency of an interrupt processing request to a CPU is increased in a sleep mode.例文帳に追加

スリープモード中にCPUへの割り込み処理依頼の頻度が高くなっても、CPUの温度上昇を抑制して熱暴走の発生を回避する。 - 特許庁

The rewritable recorder comprises a thermal head 15 for recording on the recording medium 1 by applying heat to the reversible thermal recording layer 3 thereof and developing a color, a record eraser 14 for discoloring the reversible thermal recording layer 3 by thermally processing the recording medium 1, and a carrier 13 for carrying the recording medium 1.例文帳に追加

記録媒体1の可逆性感熱記録層3を熱印加することにより発色させて記録を行なう記録用加熱ヘッド15と、記録媒体1を加熱処理することにより可逆性感熱記録層3の発色を消色する記録消去装置14と、記録媒体1を搬送する搬送装置13を設けてなる。 - 特許庁

The heating scattering mechanism warms a purge gas supplied to the lower surface of the protective plate and uniformly scatters it to the periphery of the protective plate, and absorbs heat of the protective plate that is heated by heat transmitted to the lower side and the periphery among heat produced in the thermal processing section, by the purge gas, and returns it to the thermal processing chamber.例文帳に追加

この加熱分散機構は、保護板の下側面に供給されたパージガスを暖めて当該保護板の周囲に均等に分散させると共に前記熱処理部で発した熱のうち下側と周縁に伝わる熱を受けて熱せられた前記保護板の熱をパージガスで吸収して前記熱処理室に環流させる。 - 特許庁

In a thermal processing apparatus for a substrate, a ceramic plate 10 and a substrate receiver 9 which are close in radiation efficiency to glass are arranged around a glass substrate 1 on a feeding tray 2 used for thermal processing, whereby the temperature gradient at the outer peripheral edge portion of the glass substrate is reduced and thus the glass substrate can be prevented from being broken in a heating process.例文帳に追加

発明の基板の熱処理装置は、熱処理の際に用いる搬送トレイ2に、ガラス基板1の周辺にガラスと輻射率の近いセラミックプレート10および基板受け9を配置することにより、ガラス基板外周端部の温度勾配を低減させ、加熱プロセスにおけるガラス基板の割れ防止を行う。 - 特許庁

例文

To provide a small, thin thermal transfer printer which can positively prevent removal of a ribbon cassette at unsuitable timing, such as during the processing of a printing command to each paper or during the discontinuation of processing, thereby to prevent the failure of the thermal transfer printer, by an inexpensive and simple structure.例文帳に追加

小型化、薄型化されたプリンタにおいて、低廉且つ簡単な構成で、各用紙に対する印刷指令の処理時や処理中断中などの不適当なタイミングでのリボンカセットの抜き出しを確実に防止することができ、熱転写プリンタの故障を未然に防止することができる熱転写プリンタを提供すること。 - 特許庁




  
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