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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Thermal processingの意味・解説 > Thermal processingに関連した英語例文

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Thermal processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 971



例文

A silicon oxide film for gate insulating films 25b, 25d of a control transistor and a high withstand voltage MISFET is formed by thermal oxidation and by CVD after the thermal oxidation, and the silicon oxide film is removed in a MISFET formation region 1B, and thereafter a silicon oxide film for a gate insulating film 25c is formed in the MISFET formation region 1B by thermal oxidation processing.例文帳に追加

制御用トランジスタおよび高耐圧用のMISFETのゲート絶縁膜25b,25d用の酸化シリコン膜を熱酸化と該熱酸化後のCVDにより形成してから、この酸化シリコン膜をMISFET形成領域1Bで除去し、その後、熱酸化処理によりMISFET形成領域1Bにゲート絶縁膜25c用の酸化シリコン膜を形成する。 - 特許庁

When a thermal head is used as the heating means, the work for forming or printing the print data and perforation data and the work for forming perforations can be carried out by similar data processing and head control processing and a label can be formed by an extremely simple arrangement.例文帳に追加

また、加熱手段としてサーマルヘッドを使用することにより、プリントデータおよび切れ目データの作成ないしプリント作業および切れ目形成作業が同様のデータ処理およびヘッド制御処理で可能となり、極めて簡単な構成でラベルの作成が可能になる。 - 特許庁

To provide an end part processing method of a surface-mounting material and an end part processing material used for the method, capable of improving thermal insulation performance and waterproofness in an end part of the surface-mounting material, capable of holding strength, and capable of improving an appearance.例文帳に追加

表装材の端部における断熱性及び防水性を向上させることができると共に、強度を保持することができ、かつ外観を良好にすることができる表装材の端部処理方法及びその方法に用いられる端部処理材を提供する。 - 特許庁

To provide a precise and inexpensive piezoelectric device having structure capable of performing high temperature processing necessary and sufficient for anneal processing regardless of the problem of the thermal resistance of a semiconductor integrated circuit in a piezoelectric device where the semiconductor integrated circuit and a piezoelectric oscillator are incorporated in a package.例文帳に追加

半導体集積回路と圧電振動子とをパッケージに内蔵した圧電デバイスにおいて、半導体集積回路の耐熱性の問題に拘わることなくアニール処理に必要充分な高温処理が行える構造で、高精度で安価な圧電デバイスを提供する。 - 特許庁

例文

To effectively suppress thermal expansion of a sheet film and to conduct a processing of the sheet film, for example optical processing (for instance optical transfer and exposure or the like of an image) with high accuracy, by taking measures so that a calorific value of a driving motor of a heat generating source may be effectively reduced.例文帳に追加

発熱源である駆動モータの発熱量を有効に低減するようにして、シートフイルムの熱膨張を効果的に抑制することができ、シートフイルムへの例えば光学的な処理(例えば画像の光学的な転写や露光等)を高精度に行う。 - 特許庁


例文

In this method, an impurity injection activation processing device 26 where a reduced- pressure RTP(Rapid Thermal Processing) device 1 and an ion implantation device 2 are connected with a wafer transfer chamber 28 is used, and the silicon substrate is subjected to a series of treatments composed of pre-treatment, ion implantation, and annealing.例文帳に追加

本方法では、減圧型RTP装置1とイオン注入装置2がウェハ搬送室28で連結された不純物注入活性化処理装置26を用い、シリコン基板を大気に触れさせることなく、前処理、イオン注入、アニールの一貫処理を行う。 - 特許庁

To provide a high-melting point wax to be added to a thermoplastic resin to be subjected to molding processing at a high temperature, hardly causing thermal degradation when carrying out the molding processing of the thermoplastic resin, and capable of imparting excellent lubricity and mold-releasability to the composition.例文帳に追加

高い温度で成形加工する熱可塑性樹脂に添加されるもので、その熱可塑性樹脂の組成物を成形加工する際に熱分解せず、その組成物に優れた滑性と離型性とを付与することができる高融点ワックスを提供する。 - 特許庁

A plurality of antennas 2 for receiving the radio wave, the IC portion 1 for signal-processing the received radio wave, and thermal fuses 3 arranged in connection portions between the antenna 2 and the IC portion 1 each are provided.例文帳に追加

電波を受信するための複数のアンテナ2と、受信した電波を信号処理するためのIC部1と、アンテナ2とIC部1との接続部にそれぞれ配置された温度ヒューズ3と、を備える。 - 特許庁

To provide a laminate having heat fusibility, excellent in antistatic capacity and transparency even under low humidity environment, and a package produced by the thermal fusion processing of the laminate.例文帳に追加

熱融着性を有し、低湿度環境下においても帯電防止性能及び透明性の優れた積層体を提供すること、及び該積層体を熱融着加工して製造した包装体を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a heating device and a heating method in which uneven temperature is not caused in a subject surface of a subject article to restrict unnecessary thermal deformation of the subject article and improve heat processing precision.例文帳に追加

被加熱物の被加熱面に温度むらを生じさせずに加熱することで、被加熱物の不要な熱変形を抑えることができ、熱加工精度を向上させる加熱装置と加熱方法の提供。 - 特許庁

例文

When locking of a polygon motor and that of a main motor are simultaneously released (S2:N, S8:N), it is determined that a thermal shutdown circuit is operated and jam processing is executed with a lapse of three seconds (S10).例文帳に追加

ポリゴンモータのロックとメインモータのロックとが同時に外れた場合に(S2:N,S8:N)、サーマルシャットダウン回路が動作したと判断し、3秒待機することによりジャム処理を実行させている(S10)。 - 特許庁

Silicon oxide films 10a, 10b, 20a, 20b are formed at a thickness of23 [nm] by thermal oxidation processing and an LP-CVD method along the internal surface of the element isolation grooves 9, 19.例文帳に追加

素子分離溝9、19の内面に沿って、それぞれ熱酸化処理、LP−CVD法によって23[nm]以上の膜厚でシリコン酸化膜10a、10b、20a、20bが形成されている。 - 特許庁

To make it possible to reduce the thermal deterioration of a pressure roller, reduce power consumption and shorten a FPOT ( First Print Out Time) at the initial using stage of a fixing apparatus by minimizing the execution of a processing for preventing toner-soiling.例文帳に追加

トナー汚れの防止のための処理の実行を必要最小限に抑えて、定着装置の使用の初期段階では加圧ローラの熱劣化や消費電力の低減、FPOT短縮を図る。 - 特許庁

When processing to the card 50 is not accompanied by printing by the thermal head 13, the card 50 is not inverted by the inversion mechanism 30 regardless of whether the both side of the card 50 are faced to correct or wrong directions.例文帳に追加

カード50に対する処理がサーマルヘッド13による印刷を伴わない処理である場合は、カード50の表裏の正誤にかかわらず、反転機構30によるカード50の反転を行わない。 - 特許庁

To provide a method for initializing a ferroelectric memory device, which resets imprint phenomenon of capacitors caused by past thermal history, and reduces effects of imprint phenomenon that may be caused by subsequent processing.例文帳に追加

過去の熱履歴等によるキャパシタのインプリント現象をリセットし、また、以降の処理によるインプリント現象の影響を低減することができる強誘電体記憶装置の初期化方法を提供する。 - 特許庁

The electric response of the piezoelectric/pyroelectric element 1 is inputted through the electrode 2 to the signal processing circuit 11 based on distortion accompanied with vibration or thermal expansion due to impact or heat applied to the glass board 4.例文帳に追加

ガラス板4に与えられた衝撃や熱に起因する振動や熱膨張に伴う歪によって、圧電・焦電素子1の電気的応答が電極2を介して信号処理回路11に入力される。 - 特許庁

Efficient degassing processing of the electron gun 20 is realized in a method of raising the temperature of the Wehnelt part 5 by causing the thermal electrons discharged from the electron discharge part 12 to collide against the Wehnelt part 5.例文帳に追加

電子放出部12から放出される熱電子をウェネルト5に衝突させて、ウェネルト5の温度を上昇させる方法に従い、効率の良い電子銃20の脱ガス処理を実現する。 - 特許庁

A processing temperature required for this low-temperature solid phase epitaxial growth method is about 450°C-650°C, the thermal diffusion of the impurities into the semiconductor film 9 is suppressed, and an initial steep step profile can be maintained.例文帳に追加

この低温固相エピタキシャル成長法に要する処理温度は450℃〜650℃程度であり、半導体膜9内への不純物の熱拡散は抑えられ、初期の急峻なステッププロファイルが維持される。 - 特許庁

Subsequently, an external controller delivers a temperature correction value to a CPU 7 based on the output from a thermal head temperature measurement sensor 12 an ambient temperature sensor 13 in order to take account of temperature correction in the processing conditions.例文帳に追加

この後、外部制御装置6がサーマルヘッド温度計測センサー12、周囲温度計測センサー13からの出力にもとづき温度補正値をCPU7に送り、処理条件に温度補正を加味する。 - 特許庁

In a second silicidation processing, all layers of the gate electrode 5 having a surface covered with the upper silicide film 33 react to the second metal film by the thermal treatment, to silicide the gate electrode 5 fully.例文帳に追加

上層シリサイド膜33で表面が覆われたゲート電極5の全層を熱処理によって第2金属膜と反応させる第2回目のシリサイド化を行い、ゲート電極5をフルシリサイド化させる。 - 特許庁

An infrared ray thermal image unit 1 captures an object, a projector 3 receives infrared ray image data obtained by color coordination by an image processing unit 2 in real time and projects the data by a front face projection system.例文帳に追加

被写体を赤外線熱画像装置1でとらえ、画像処理装置2で配色して得られた赤外線画像データをリアルタイムでプロジェクター3に入力しこれを前面投射方式で投射する。 - 特許庁

Thermal calibration, patrol seek, alternation sector processing as non-normality operation performed by the HDD 40 without accompanying record or reproduction is controlled by not the CPU 28 of the HDD 40 but the CPU 14 of the host 20.例文帳に追加

HDD40が、AVデータの記録または再生を伴わずに行う非定常動作としてのサーマルキャリブレーション、パトロールシーク、交替セクタ処理は、HDD40のCPU28ではなく、ホスト20のCPU14により管理制御される。 - 特許庁

To provide an aliphatic polyester film which exhibits a good handleability in its production step, is free form printing displacement, wrinkles, etc., in the processing step and can be strongly bonded to a sealant film by specifying its refractive index, surface roughness, the number of projections and thermal shrinkage.例文帳に追加

製造段階でのハンドリング性が良好で、印刷やラミネート等の加工処理時に印刷ずれやしわ等を発生せず、しかも、良好な接着性の脂肪族ポリエステル系フィルムを提供する。 - 特許庁

When a card detecting means detects the insertion of a rewritable card or when it receives an instruction signal for thermal erasure/ printing processing from a host device, it energizes an erasing head and starts to heat.例文帳に追加

カード検出手段がリライタブルカードの挿入を検出したとき、あるいは上位装置からサーマル消去/印字処理の命令信号を受けたときに、消去ヘッドに通電して加熱を開始する。 - 特許庁

To provide a computer implemented method which uses software and hardware thermal profiles to schedule the execution of applications, and to provide data processing system, and computer usable code.例文帳に追加

ソフトウェア熱プロファイルおよびハードウェア熱プロファイルを使用して、アプリケーションの実行をスケジューリングするために、コンピュータによって実施する方法、データ処理システム、およびコンピュータ使用可能コードを提供する。 - 特許庁

In the heat insulation plate 22, a coating film 2202 is formed which is dissolved by thermal processing to block the infiltration of water on its overall surface including a front 24A, a back 24B and side face 24C.例文帳に追加

断熱板22は、その正面24A、背面24B、側面24Cを含む表面の全域に、熱加工により溶解されることで水の浸入の阻止する皮膜2202が形成されている。 - 特許庁

To provide a compact and simple temperature control device capable of directly controlling the temperature of an object in a vacuum chamber, and high in thermal efficiency, and to provide a vacuum processing device including the same.例文帳に追加

真空チャンバ内で対象物を直接に温度制御でき、熱効率が高く、かつ小型で簡易的な温度制御装置、およびこの温度制御装置を備えた真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a drying machine capable of reducing a processing cost by enhancing thermal efficiency by effectively discharging drain in a heat transfer means into a shaft to reduce drain remaining in the heat transfer means.例文帳に追加

伝熱手段内でのドレンを効果的に軸中に排出し、伝熱手段内に残留するドレンを少なくして熱効率を高める等、処理コストを低減可能な乾燥機を提供する。 - 特許庁

To obtain a polyester-based raw yarn for false twisting, which has excellent post-processing properties, by controlling a degree of swelling and a thermal decomposition ratio to be applied to a yarn by a finishing oil to be attached to a polyester yarn to be subjected to false twisting.例文帳に追加

仮撚加工するポリエステル繊維に付着させる油剤で、糸に与える膨潤度と熱分解率を規制することにより、後加工性の良好なポリエステル系仮撚用原糸を提供する。 - 特許庁

To provide the method for developing a heat developable image recording material, having a stable thermal developing performance capable of obtaining an image free from processing irregularities, excellent in carrying performance and without causing any scratches.例文帳に追加

処理ムラのない画像が得られ、搬送性が良好で擦り傷の発生がない安定な熱現像処理適性を有する熱現像画像記録材料の現像処理方法を提供すること。 - 特許庁

To improve a transcribing accuracy by regulating the temperature of a mask efficiently, and by preventing the mask from the distortion caused by its thermal expansion, in an exposure apparatus so interrupted from the outside air as to perform its exposure processing under the condition of a fixed atmospheric pressure.例文帳に追加

外気と遮断され一定の気圧条件下で露光処理を行う露光装置において、効率よくマスクを温度調節してマスクの熱膨張による歪を防ぎ、転写精度を高めるる。 - 特許庁

To provide a polyolefin molded product for radiation sterilization which has good thermal stability on processing, and controls the generation of discoloration and an odor with sterilization treatment by irradiation with radiation to a low level.例文帳に追加

加工時の良好な熱安定性を有し、放射線照射滅菌処理に伴う着色や臭気の発生が極めて低水準に抑制された放射線滅菌用ポリオレフィン成形体を提供する。 - 特許庁

In another embodiment, the chamber is one of a chemical vapor deposition chamber, a load lock chamber, a metrology chamber, a thermal processing chamber, or a physical vapor deposition chamber, a load lock chamber, a substrate transfer chamber or a vacuum chamber.例文帳に追加

他の実施形態において、チャンバは、化学気相成長チャンバ、ロードロックチャンバ、計測チャンバ、熱処理チャンバ、又は物理気相成長チャンバ、ロードロックチャンバ、基板搬送チャンバ、又は真空チャンバの1つである。 - 特許庁

To provide a method for processing woven or knitted fabric composed of thermal fusion bonding yarns having high strength, enabling development of goods having an arbitrary shape and capable of being inexpensively produced in a short time.例文帳に追加

強度が高くて、任意の形状の商品展開を可能とし、また、高価な金型を使用しないため、安価で短時間に製造できる熱溶着性繊維から成る織編物の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser crystallization method capable of enhancing the processing efficiency of substrates while suppressing the thermal damage on the substrate, and to provide a laser irradiator employing a laser crystallization method.例文帳に追加

基板処理の効率を高めることができ、また基板への熱的ダメージを抑えることができるレーザー結晶化法、及び該レーザー結晶化法を用いたレーザー照射装置の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a polypropylene composition superior in any evaluation on a stability against heat oxidation, a hue, a thermal deformation temperature, a flexural modulus, the resistance to NOx, a processing stability and a surface smoothness.例文帳に追加

熱酸化に対する安定性、色相、熱変形温度、曲げ弾性率、耐NOx性、加工安定性及び表面平滑性のいずれの評価についても優れるポリプロピレン組成物を提供する。 - 特許庁

To reduce or compensate thermal stresses in a semiconductor element, which arise as a result of temperature changes during processing and during operation and on account of different expansion coefficients of a semiconductor and a carrier substrate.例文帳に追加

プロセシング中及び作動中の温度変化によって、及び、半導体及び支持体基板の種々異なる膨張係数に基づいて生じる構成素子内の熱応力を低減乃至補償する。 - 特許庁

To provide a method for producing filter material which enables pleating processing which retains the pleated shape even when affected by the mechanical and/or thermal load and is provided with a spacer with high stability.例文帳に追加

機械的及び/又は熱的な負荷の影響を受けても、その形状を保持し、高い安定性を示すスペーサを備えるプリーツ加工可能なフィルター材料を製造する方法を提供する。 - 特許庁

Further, the inside of the reflector is coated with any one of gold, platinum and rhodium, and the outside of the reflector is subjected to a processing for improving thermal emissivity and, in particular, is subjected to infrared radiating coating as a means therefor.例文帳に追加

また、リフレクタの内面は、金、白金またはロジウムのいずれかで被覆し、リフレクタの外面には、放射率を向上させる加工がなされ、その手段として赤外線放射塗装が施されている。 - 特許庁

To provide a method for preserving safety and flavor as a food by preventing oxidation deterioration of mushroom by oxygen from thermal processing to storage and by maintaining mushrooms as a desired favorable food.例文帳に追加

キノコを熱加工から保管まで、酸素による酸化劣化を防止し、かつ、所望する好ましい食品として維持させることによって、安全かつ食品としての風味を保持する方法を提供する。 - 特許庁

When there is no request for heat generation by the heat storage material 6 for warming the catalyst 3 and no request for heat absorption by the heat storage material 6 for cooling the catalyst 3, thermal control preparation processing is executed.例文帳に追加

そして、触媒3の加温のための蓄熱材6の発熱の要求、及び触媒3の冷却のための蓄熱材6の吸熱の要求がないときには、熱制御準備処理が実行される。 - 特許庁

A control portion 9 of a thermal printer 1 performs CMYK-CMY conversion processing for deleting a K (black) component of input CMYK image data 3, and subsequently, performs resolution conversion and gradation conversion.例文帳に追加

サーマルプリンタ1の制御部9は、入力されたCMYK画像データ3のK(ブラック)成分を削除するCMYK−CMY変換処理を行い、その後、解像度変換、階調変換を行う。 - 特許庁

Processing of polygonal shape by die punching is realized easily by using a glass fabric epoxy layer as the surroundings of the thermosetting resin composition filled with the thermal conductive inorganic filler.例文帳に追加

また熱伝導性無機フィラーを充填した熱硬化性樹脂組成物の周囲をガラス布エポキシ層とすることで、金型打ち抜きによる多角形状の外形加工を容易に実現することが可能となった。 - 特許庁

A rapid thermal processing (RTP) system 110 includes a transmission pyrometer 12 for monitoring the temperature dependent absorption of a silicon wafer 32 for radiation from a RTP lamp 46 at a reduced power level.例文帳に追加

急速熱処理(RTP)システム110は、減じた電力レベルでのRTPランプ46からの放射線に対するシリコンウエハ32の温度依存性吸収を監視する透過型パイロメータ12を含む。 - 特許庁

A grain size of polycrystalline semiconductor is made larger than that of the conventional semiconductors by forming a protective diode with a polycrystalline semiconductor which is obtained by crystallizing an amorphous semiconductor by thermal processing.例文帳に追加

非晶質半導体を熱処理によって結晶化した多結晶半導体で保護ダイオードを形成することによって、当該多結晶半導体のグレインサイズを従来と比べて大きくする。 - 特許庁

According to the head temperature and the ambient temperature, the image processing part and a head control part 41 refer to the selected look-up table and determine the number of printing pulses corresponding to image data to control the thermal head.例文帳に追加

そして、画像処理部およびヘッド制御部41はヘッド温度および環境温度に応じて選択ルックアップテーブルを参照して、画像データに応じた印画パルスの数を決定してサーマルヘッドを制御する。 - 特許庁

To provide a masking tool, wherein the number of steps for processing a coating film after thermal spraying can be reduced and the cost for a coating treatment of an annular member having chamfered parts can be suppressed, and to provide a coating method of the annular member.例文帳に追加

溶射後の皮膜の加工工数を低減し、面取り部を有する環状部材の被覆処理の処理コストを抑制することが可能なマスキング治具および環状部材の被覆方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a large-scale diamond substrate and a substrate produced by the method suitable for semiconductor lithography processing and large-scale optical parts, semiconductor materials, thermal-release substrates or the like.例文帳に追加

半導体リソグラフィープロセスや大型光学部品、半導体材料、放熱基板等に好適な大型ダイヤモンド基板の製造方法及びその方法を用いて製造した基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetic head and a magnetic head manufactured with the same method that can eliminate the processing deformation of magnetic core after cutting the chip without giving a thermal damage on the magnetic gap.例文帳に追加

磁気ギャップへの熱的ダメージを与えることなく、チップ切断後の磁気コアの加工変質層を取り除くことができる磁気ヘッドの製造方法及びこれを用いて製造した磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁

例文

Inasmuch as the separation material 93 is interposed between the stamp material and the transparent film 91, the stamp material and transparent film bonded together during the period of thermal bonding or processing operation can be separated easily.例文帳に追加

印材と透明フィルム91との間に剥離材93が介在しているために、熱接着時または製版時に接着された印材と透光性フィルムとを容易に剥離することができる。 - 特許庁




  
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