「Thermal processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a reversible thermal recording medium having excellent effects on durability for repeated printing, light-resistance and resistance to alcohols, an image processing method and an article using the reversible thermal recording medium.例文帳に追加

繰り返し印字による耐久性、耐光性及び耐アルコール性に優れた効果を有する可逆性感熱記録媒体、画像処理方法及び可逆性感熱記録媒体を用いた物品を提供することを目的とする。 - 特許庁

The device for correcting thermal displacement corrects then the relative position of the tool 5 to the reference point P1 of the workpiece W based on the thermal displacement correcting positions Ob2-Ob7 when processing the prescribed points P2-P7 of the workpiece W by the tool 5.例文帳に追加

そして、ワークＷの所定点Ｐ２〜Ｐ７を工具５により加工する際に、熱変位補正位置Ｏｂ２〜Ｏｂ７に基づいてワークＷの基準点Ｐ１に対する工具５の相対位置を補正する。 - 特許庁

This positioning controller is provided with: a temperature signal processing part for processing a detection signal as the temperature change of a positioning stage; a position detection means; and a position correction processing part for calculating position deviation accompanied with the thermal expansion or thermal contraction of the positioning object as position correction quantity, and configured to perform the positioning control of a motor based on the position correction quantity.例文帳に追加

前記位置決めステージの温度変化である検出信号を処理する温度信号処理部と、前記位置検出手段および前記位置決め対象物の熱膨張または熱収縮に伴う位置ずれを、位置補正量として算出する位置補正処理部とを備え、前記位置補正量に基づいて、前記モータを位置決め制御する。 - 特許庁

This sheet is subjected to the continuous processing by the printer using a thermal transfer recording method, for instance, and thereby the image is formed thereon.例文帳に追加

本発明の長尺感熱転写受像シートは、例えば、感熱転写記録方式を利用したプリンタで連続処理して、画像形成される。 - 特許庁

Using a thermal processing furnace with lamp heaters, a silicon wafer is subjected to first annealing for 45 seconds at 1,150°C under an atmosphere of non-oxidizing gas.例文帳に追加

シリコンウェーハに対して、ランプ式急速加熱炉を用い、非酸化性ガスの雰囲気下、１１５０℃で４５秒間の第１熱処理を施す。 - 特許庁

The progress of the processing of the wafer of which defects have been detected (for example, a heat treatment process, such as rapid thermal anneal) is stopped to prevent damage to the wafer.例文帳に追加

欠陥が検知されたウェーハの処理（例えば、ラピッド・サーマル・アニールのような熱処理工程）の進行を停止し、ウェーハの破損を防止する。 - 特許庁

A printing processing part 21 creates a basic image and an overcoat by a sublimatic method, and creates the scratch part by a thermal transfer method.例文帳に追加

印刷処理部２１が、昇華方式によって基礎画像およびオーバーコートを作成するとともに、熱転写方式によってスクラッチ部を作成する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck device in which an insulating film arranged with a semiconductor element is protected against thermal damage, and to provide a vacuum processing method.例文帳に追加

半導体素子が配置された絶縁性フィルムに熱損傷を与えない静電吸着装置、および真空処理方法を提供する。 - 特許庁

To avoid the thermal runaway of each part such as a processor for controlling various processes performed in an information processing terminal, and to prevent data breakage, etc.例文帳に追加

情報処理端末内にて行われる種々の処理を制御する処理装置等の各部の熱暴走を回避し、データ破壊等を防止する。 - 特許庁

To correct the processing size to the thermal displacement amount corresponding to the variations of the driving condition and the room temperature, in a simple structure and at a low cost.例文帳に追加

簡単な構成で安価にでき、運転条件及び室温の変化にも対応して熱変位量に対する加工寸法を補正する。 - 特許庁

Further, the densification processing temperature for the first insulating film 6a and the second insulating film 7a is made higher than the thermal treatment temperature for transistor activation.例文帳に追加

また、第一の絶縁膜６ａおよび第二の絶縁膜７ａの緻密化処理温度をトランジスタの活性化の熱処理温度よりも高くする。 - 特許庁

To provide an exhaust gas processing unit collecting floating particulate matters exhausted from a diesel engine and the like by using thermal migration phenomenon.例文帳に追加

ディーゼルエンジンなどから排出される浮遊性粒子状物質を熱泳動現象を利用して捕集する排気ガス処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for controlling the wafer temperature such that uniform processing results can be attained by making thermal conduction constant between a wafer and a lower electrode.例文帳に追加

ウェハと下部電極との間の熱伝導を一定にし、均一なプロセス結果が得られるようなウェハ温度の制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal storage type gas treatment furnace which suppresses an excessive rise of the temperature of a combustion chamber without lowering a processing amount and hardly causes troubles.例文帳に追加

処理量を低下させず、燃焼室の温度の過度の上昇を抑制でき、故障の少ない蓄熱式ガス処理炉を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal recording material which has surface strength and water resistance suitable for printing processing, and is excellent in solvent barrier properties.例文帳に追加

本発明は、印刷加工に適した表面強度及び耐水性を有し、且つ溶剤バリア性に優れた感熱記録材料を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus, a method of manufacturing a semiconductor device, and a method of manufacturing a substrate capable of suppressing the occurrence of explosion etc.例文帳に追加

爆発等の発生を抑制することができる熱処理装置、半導体装置の製造方法、及び、基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This invention proposes that a thermal peelable material or a photosetting material is employed as a sealing material needed for the etching processing.例文帳に追加

エッチング処理時に必要となるシール材について、本発明では熱剥離性材料または光硬化型材料を採用することを提案する。 - 特許庁

The high strain point glass can prevent panel distortion due to compaction/shrinkage during thermal processing subsequent to manufacturing of the glass.例文帳に追加

歪み点が高いガラスは、熱処理およびそれに続くガラス製造の間の圧縮／収縮に起因するパネルの歪みを妨げることができる。 - 特許庁

Then, a metal film M1 is deposited on the main surface f1 of the silicon substrate 1 and thermal processing is performed, thereby forming the metal silicide film sc.例文帳に追加

その後、シリコン基板１の主面ｆ１上に金属膜Ｍ１を堆積し、熱処理を施すことで、金属シリサイド膜ｓｃを形成する。 - 特許庁

After the thermal processing, the substrate W is received by the conveyance arm 86 and moved from the hot plate 60 to the cool plate 70.例文帳に追加

加熱処理が終了した後、基板Ｗは搬送アーム８６によって受け取られホットプレート６０からクールプレート７０まで移動される。 - 特許庁

METHOD EXECUTED BY COMPUTER GENERATING SOFTWARE THERMAL PROFILE FOR APPLICATION IN SIMULATED ENVIRONMENT, DATA PROCESSING SYSTEM, AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

シミュレートされた環境でのアプリケーション用のソフトウェア熱プロファイル生成のコンピュータによって実施する方法、データ処理システム、およびコンピュータ・プログラム - 特許庁

COMPUTER IMPLEMENTED METHOD WHICH CARRIES OUT SCHEDULING USING SOFTWARE AND HARDWARE THERMAL PROFILES, DATA PROCESSING SYSTEM, AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

ソフトウェア熱プロファイルおよびハードウェア熱プロファイルを使用してスケジューリングする、コンピュータによって実施する方法、データ処理システム、およびコンピュータ・プログラム - 特許庁

To provide a polyolefin resin composition excellent in resistance to discoloring, thermal stability and processing characteristics and a molded article obtained by using the composition.例文帳に追加

耐着色性、熱安定性、加工性に優れるポリオレフィン系樹脂組成物、その樹脂組成物を用いて得られる成形体を提供する。 - 特許庁

To enable strong bonding through short-time processing even if the materials are different in coefficient of thermal expansion, when packaging an MEMS device.例文帳に追加

ＭＥＭＳデバイス用パッケージングにおいて、熱膨張率の異なる材料であっても、短時間の処理で強固な接合を可能とすること。 - 特許庁

The thermal information processing system 10 has: a portable telephone 100 for processing a game, call, or E-mail at least; and a ring 200 for transmitting information to a user by using the change of heat.例文帳に追加

熱情報処理システム１０は、ゲーム、通話又は電子メールの少なくともいずれかの処理が可能な携帯電話１００と、熱の高低によりユーザに情報を伝達する指輪２００と、を有する。 - 特許庁

To provide a thermal treatment device which does not require a loading area or a lift mechanism below a processing vessel, can be reduced in height, made simple in structure, and improved in processing.例文帳に追加

処理容器の下方にローディングエリアや昇降機構を設ける必要がなく、装置高さを低くすることができると共に、構造の単純化やプロセス性能の向上が図れる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

The surfaces of glass fibers are preliminarily coated with a fluoroplastic resin and the coated glass fibers are woven and, thereafter, the thermal bonding processing of the fluoroplastic resin and the adhesion processing of a heat insulating material are applied to the woven one to obtain the composite film material.例文帳に追加

あらかじめガラス繊維の表面にフッ素樹脂をコーティングし、その後製織加工し、次いでフッ素樹脂の熱接着加工および断熱材の接着加工して複合膜材を得る。 - 特許庁

The heating part 12 is provided with a first insertion port 22, and the printing original plate 1 necessitating the thermal processing is inserted to the inside of the processing device 10 from the first port 22 after it is exposed.例文帳に追加

加熱部１２には第一挿入口２２が設けられており、加熱処理が必要な印刷原版１は露光された後、この第一挿入口２２から処理装置１０内に挿入される。 - 特許庁

To provide a laser processing device which can reduce thermal influence by reducing a pulse width of pulse laser beam and adjust pulse width and peak output of pulse laser beam in accordance with a processing object.例文帳に追加

パルスレーザ光のパルス幅を短くして熱影響を少なくし、また、加工対象に応じてパルスレーザ光のパルス幅やピーク出力を調整することが可能なレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing device using a focusing charged particle beam which can cool a test piece rapidly and can improve processing precision by reducing thermal drift.例文帳に追加

本発明は上記状況に鑑み、試料を迅速に冷却することができ、熱ドリフトを軽減して加工精度を向上させることが可能な集束荷電粒子ビームを用いた加工装置の提供。 - 特許庁

The apparatus for the thermal processing of a substrate surface involves irradiating the substrate surface 32 with first and second images 150, 250 to process regions of the substrate surface 32 at a substantially uniform peak processing temperature along a scan path.例文帳に追加

通常基板表面３２を第１および第２像１５０，２５０で照射して基板表面３２の領域をスキャンパスに沿って実質的に均一なピーク処理温度で処理することを含む。 - 特許庁

After a bent hole 31 is formed on a diaphragm 30, the diaphragm 30 is applied with a thermal aging processing (for one to two minutes at 260°C) so that the diameter of the bent hole 31 does not change, even after reflow processing.例文帳に追加

ダイヤフラム３０にベントホール３１を形成した後に、このダイヤフラム３０に熱エージング処理（２６０℃で１〜２分）を施し、リフロ処理した後でもベントホール３１の径が変わらないようにする。 - 特許庁

To provide a device for plasma-processing and a method of plasma-processing for improving both a thermal conductivity from a gas shower head or target to a high-frequency or DC electrode and a gas distribution below the gas shower head.例文帳に追加

ガスシャワーヘッドまたはターゲットから高周波または直流電極への熱伝導性とガスシャワーヘッド下方のガス分布とを改善できるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

In a plasma processing method which performs plasma processing, placing a semiconductor wafer 4 on a lower electrode 3 within a processing chamber 2, the plasma processing is performed in condition that the edge of the semiconductor wafer 4 fixed by the resin sheet 4a having a larger thermal expansion coefficient than the thermal expansion coefficient of the semiconductor wafer 4 is pressed against the surface of a lower electrode 3 by means of a board pressing means 5.例文帳に追加

処理室２内にの下部電極３上に半導体ウェハ４を載置してプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、半導体ウェハ４の熱膨張係数よりも大きい熱膨張係数を有する樹脂シート４ａによって固定された状態の半導体ウェハ４の縁部を基板押さえ部材５によって下部電極３の表面に押さえ付けた状態でプラズマ処理を行う。 - 特許庁

To obtain a rewritable recorder for reversible thermal recording medium, a record erasing method and a reversible thermal recording medium, in which print/ erasure can be repeated by thermally forming a color developing state or a discoloring state reversibly in the thermal layer of the reversible thermal recording medium, and occurrence of waving or irregularities in the reversible thermal recording medium is prevented at the time of discoloring/coloring processing.例文帳に追加

本発明は加熱により可逆的感熱記録媒体の感熱層を可逆的に発色状態・消色状態を形成することにより繰り返し印字・消去が可能とした可逆的感熱記録媒体用リライタブル記録装置及び記録消去方法及び可逆的感熱記録媒体に関し、消色／発色処理時において可逆的感熱記録媒体に波打ちや凹凸が発生することを防止することを課題とする。 - 特許庁

To provide an image data generating apparatus which can carry out transfer of dots superior in stability and reproducibility while effects or the like of adjacent dots due to thermal storage are avoided, and to provide an image data generation processing program and a thermal recorder, etc.例文帳に追加

蓄熱による隣接ドットの影響等を回避しつつ、安定性、再現性に優れたドットの転移を行うことが可能な画像データ生成装置、画像データ生成処理プログラム、及び感熱記録装置等を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition having both thermal conductivity and insulation at high levels and hardly expressing the anisotropy of thermal conductivity even during processing under shearing such as injection molding, and to provide a method of producing the same.例文帳に追加

熱伝導性と絶縁性とを高水準で兼ね備え、さらに、射出成形などのせん断下での加工においても熱伝導率の異方性が発現しにくい樹脂組成物およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition which is excellent in thermal coloration resistance and thermal deterioration resistance under high temperature in a molded article obtained by processing an engineering plastic produced by adding especially a graft copolymer to a thermoplastic resin.例文帳に追加

熱可塑性樹脂、特にグラフト共重合体が添加されたエンジニアリングプラスチックを加工して得られた成形品において、高温下における耐熱着色性や耐熱劣化性に優れた熱可塑性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a ceramics cooling plate that has a heat emission property to keep a wafer at constant temperature and prevent thermal deformation during exposure as well as high rigidity and low thermal expansion factor for high processing accuracy.例文帳に追加

露光処理時などにおいて、ウェハの温度を一定にして熱歪みを防ぐための排熱性と、高い処理精度を実現するための高剛性および低熱膨張性をいずれも兼ね備えるセラミックス製冷却プレートを提供する。 - 特許庁

To prevent the deterioration of processing accuracy by thermal expansion of an oscillating body 82, a material with a linear expansion coefficient of 6×10^-6 is used.例文帳に追加

振動体８２の熱伸張によって加工精度が低下することを防止するため、線膨張係数が６×１０^−６以下の材料を用いている。 - 特許庁

An activation thermal processing parameter may be calculated instead of the injection parameter, and the thickness of the alteration layer may be estimated from dry-etching conditions (S107).例文帳に追加

注入パラメータの代わりに活性化熱処理パラメータを算出してもよく、変質層の厚さをドライエッチング条件から推定（Ｓ１０７）してもよい。 - 特許庁

To obtain a rubber-containing styrenic thermoplastic resin composition that has well-balanced transparency, chemical resistance, color tone stability, and thermal stability on processing.例文帳に追加

透明性、耐薬品性、色調安定性および加工時の熱安定性が均衡して優れたゴム含有スチレン系熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a dimensional error of a work (w) after processing and quality lowering of surface roughness of a grinding surface caused by thermal deformation of the work (w).例文帳に追加

ワークｗの熱変形に起因して、加工後のワークｗの寸法誤差とか被研削面の表面粗さの品質低下が発生するのを阻止する。 - 特許庁

A heating element is arranged between two ceramic base bodies, and thermal expansion rate, thickness, and void rate of a sealing part is adjusted after processing the resistance of the heater in an intended resistance.例文帳に追加

２つのセラミック基体の間に発熱抵抗体を形成し、所望の抵抗値に加工したのち、封止部の熱膨張率と厚み、ボイド率を調整する。 - 特許庁

A control part 50 of a thermal processing apparatus 1 controls the apparatus so as to deposit SiO_2 films on semiconductor wafers W, and determines whether or not the SiO_2 films satisfy an in-plane uniformity.例文帳に追加

熱処理装置１の制御部５０は、半導体ウエハＷにＳｉＯ_２膜を成膜し、ＳｉＯ_２膜が面内均一性を満たすか否かを判別する。 - 特許庁