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W. A.の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 20163



例文

The water-soluble preparation for a prefilled syringe or an infusion bag comprises 0.006-0.3 w/w% 3-methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 0.001-2 w/w% sodium bisulfite and 0.001-0.1 w/w% disodium edetate as active ingredients and 1-50 mM citrate buffer solution.例文帳に追加

有効成分として3−メチル−1−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン0.006〜0.3W/W%、亜硫酸水素ナトリウム0.001〜2W/W%及びエデト酸2ナトリウム0.001〜0.1W/W%、1〜50mMクエン酸緩衝液を含有することを特徴とするプレフィルドシリンジ用又は輸液バッグ用の水溶性製剤。 - 特許庁

By this, when the actual weight W' and the specific weight W are different by comparison, feedback control is carried out of approximating the actual weight W' to the specific weight W by correcting a present pulse number P to P'=P×W/W' and using f=P/t (t is an initialized discharge time) as the pulse frequency f.例文帳に追加

これにより、実測重量W´と指定重量Wを比較して異なるときは、現在のパルス数PをP´=P×W/W´に修正し、パルス周波数fをf=P/t(t:初期設定された吐出時間)として実測重量W´を指定重量Wに近付けるフィードバック制御を行う。 - 特許庁

The substrate treatment apparatus includes: a spin chuck for horizontally holding a substrate W ; a droplet nozzle 5 for generating droplets of a treatment liquid to be sprayed over a jet region T1 in an upper surface of the substrate W; and a protection liquid nozzle 6 for discharging a protection liquid protective of the substrate W at the upper surface of the substrate W.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Wを水平に保持するスピンチャックと、基板Wの上面内の噴射領域T1に吹き付けられる処理液の液滴を生成する液滴ノズル5と、基板Wを保護する保護液を基板Wの上面に向けて吐出する保護液ノズル6とを含む。 - 特許庁

A coating/developing system 1 includes a positioning apparatus 42 for adjusting a center position of a wafer W, a coating apparatus for coating an upper surface of the wafer W with a polyimide solution, and a wafer transfer apparatus 80 for transferring the wafer W.例文帳に追加

塗布現像処理システム1は、ウェハWの中心位置を調節する位置調節装置42と、ウェハW上にポリイミド溶液を塗布する塗布処理装置と、ウェハWを搬送するウェハ搬送装置80と、を有している。 - 特許庁

例文

Since a wafer W is stored in a cassette C by rotating the wafer W from a direction in which cutting grooves or a modified layer is formed by a prescribed angle, the wafer W can be securely stored without generating a warp on the wafer W.例文帳に追加

ウェーハWを、切削溝、または改質層の形成されている方向より所定の角度回転させてカセットCへ収納することにより、ウェーハWに撓みを生じさせず、安全にウェーハWを収納することが可能となる。 - 特許庁


例文

To provide a manufacturing method for a resin molded product W constituted so that the dimensional shape of the resin molded product W after the reception of heat history becomes a desired shape by forming the resin molded product W into a shape preliminarily considering the heat history due to a use environment in a post process when the resin molded product W is corrected.例文帳に追加

樹脂成形体Wを矯正するに際して、予め後工程での使用環境による熱履歴を考慮した形状に形成することで、熱履歴を受けた後の樹脂成形体Wの寸法形状が、所望する形状となるための樹脂成形体Wの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

A packaging paper feed means 2 feeds the packaging paper W to a push-up path 5 of a product C in a crossing manner, a glue gun 3 deposits a glue G to an undersurface of the packaging paper W in the middle of the feeding operation, and an elevating/lowering means 4 projects up the packaging paper W to fold the packaging paper W around the product C.例文帳に追加

包装紙供給手段2は、製品Cの押上げ経路5に横断状態に包装紙Wを供給し、その供給途上で糊ガン3が糊Gを包装紙Wの下面に付着させ、更に、昇降手段4が包装紙Wを突き上げて、製品Cの周りに包装紙Wを折り付ける。 - 特許庁

Particularly, the inverted crown amount is set so that a nip width coefficient being the ratio W_b/W_a of nip width W_b in the center part in an axial direction to nip width W_a at the end in the axial direction in a nip part 32 may not exceed an upper limit value 0.9.例文帳に追加

特に逆クラウン量は、ニップ部32において軸線方向端部でのニップ幅W_aに対する軸線方向中心部でのニップ幅W_bの比率W_b/W_aであるニップ幅係数が上限値0.9を越えないように設定されたものとする。 - 特許庁

The positions of a work W and a torch 2 are fixed and a slender gas flame is spouted from the torch 2 toward the work W, and after heating the work W for a fixed time with the heat of the spouted gas flame from the torch 2, a brazing filler metal B formed linearly is supplied in a straight line to the work W and melted.例文帳に追加

ワークWとトーチ2との位置を固定しておき、トーチ2からワークWに向けて細炎形のガス炎を噴出させ、トーチ2から噴出したガス炎の熱でワークWを一定時間加熱した後、線状に形成されたろう材BをワークWに直線的に供給して溶融させる。 - 特許庁

例文

A wafer W comprising a wiring groove 1b and a via hole 1a on its surface is submerged in a plating liquid, and a voltage is applied between the wafer W and an anode 11 to form a plating film 4 on the wafer W.例文帳に追加

まず、表面にビアホール1a及び配線溝1bを有するウェハWをめっき液に浸漬させ、かつウェハWとアノード11との間に電圧を印加して、ウェハW上にめっき膜4を形成する。 - 特許庁

例文

The apparatus for producing a briquette is provided with: a liquid tank 29 for immersing a molding W into a curing liquid; a transport chuck 28 for moving the molding W; and a drier 5 for drying the molding W impregnated with curing curing liquid.例文帳に追加

成形体Wを硬化液に浸漬させるための液槽29と、成形体Wを移動させる搬送チャック28と、硬化液を含浸させた成形体Wを乾燥させる乾燥機5とを備えている。 - 特許庁

The substrate processing equipment comprises a section 1 for containing a hoop F which contains a plurality of sheets of substrate W, a first processing section 3 for processing a plurality of sheets of substrate W collectively, and a second processing section 5 for processing the substrates W sheet by sheet.例文帳に追加

複数枚の基板Wを収納するフープFを収容する収容部1と、複数枚の基板Wを一括して処理する第1処理部3と、基板Wを1枚ずつ処理する第2処理部5とで構成される。 - 特許庁

A wire winding machine is equipped with a forming equipment 14 which forms a wire W round in cross section into the wire W nearly polygonal in cross section, and a winding machine 19 which winds the wire W formed with the forming equipment 14 on a bobbin B through a series of processes.例文帳に追加

丸断面のワイヤWを略多角形断面に成形する成形装置14と、該成形装置14で成形されたワイヤWを一連の工程でボビンBに巻回する巻回装置19とを有する。 - 特許庁

When a width in an axial direction and a thickness in a diametric direction of the round part 231 are assumed as w, h, and a width in an axial direction and a thickness in a diametric direction of the primary wire 22 are asumed as W, H, there are relationships of W/10≤w≤W/3 and H/10≤h≤H/3.例文帳に追加

丸み部231の軸方向幅w及び径方向厚みhは、一次電線22の軸方向幅をW、径方向厚みをHとしたとき、W/10≦w≦W/3及びH/10≦h≦H/3の関係を有している。 - 特許庁

To certainly take out a work W even when the work W is suspended on a support bar 1b at a position inclined from a normal position under a method to fetch the work W suspended on the horizontal support bar 1b by a robot hand 3.例文帳に追加

水平の支持バー1bに吊持されたワークWをロボットハンド3で取出す方法において、ワークWが正規姿勢から傾いた姿勢で支持バー1bに吊持されていても、ワークWを確実に取出せるようにする。 - 特許庁

A fluid driving device (D) is so constituted that it drives a rotational shaft (W), the rotational shaft (W) is located at a turning axis (A) of a turnable part (V), and the rotational shaft (W) is connected to the turnable part (V) in a state incapable of being pivoted.例文帳に追加

流体駆動装置(D)が回転軸(W)を駆動するようになっており、該回転軸が旋回可能な部分(V)の旋回軸線(A)に位置していて、旋回可能な部分(V)に回動不能に結合されている。 - 特許庁

In a state wherein a lower surface of a shield plate 4 is opposed to an upper surface of a substrate W, a processing liquid is supplied to between the substrate W and shield plate 4 to create a liquid dense state between the substrate W and shield plate 4 with the processing liquid.例文帳に追加

基板Wの上面に遮断板4の下面を対向させた状態で、基板Wと遮断板4との間に処理液を供給して、基板Wと遮断板4との間を処理液によって液密にする。 - 特許庁

The type argument is a pointer to a null-terminated string which must be either "r" for reading or "w" for writing. 例文帳に追加

type引き数は、NULL 終端さらた文字列へのポインタで、読み込みの場合には "r"、書き込みの場合には "w" を指定する。 これ以外は指定できない。 - JM

The possible file open modes are "r" (read), "w" (write, clears the file first) and "a" (append to the end). 例文帳に追加

使用できるオープンモードは "r" (読み込み)、"w" (書き込み、最初にファイルをクリアする)そして "a" (追記) のいずれかです。 - PEAR

President George W. Bush said, "Recovery is going to be a long process. It's going to take a lot of hard work and patience." 例文帳に追加

ジョージ・W・ブッシュ大統領は「復興には長時間かかるだろう。多くの重労働や忍耐が必要になる。」と語った。 - 浜島書店 Catch a Wave

I remember the 2006 World Cup in Germany well because it was my first World Cup and I scored a goal in a match against Brazil. 例文帳に追加

2006年のW杯ドイツ大会は,僕にとっては初めてのW杯でしたし,ブラジル戦でゴールを決めたこともあってよく覚えています。 - 浜島書店 Catch a Wave

A W type ferrite magnet of a high residual magnetic flux density (Br) can be obtained by applying the method to the W type ferrite magnet.例文帳に追加

本発明をW型フェライト磁石に適用することで、残留磁束密度(Br)の高いW型フェライト磁石を得ることができる。 - 特許庁

Prescribed liquid for forming a dam in an outer edge part of a wafer W is supplied before resist solution is supplied to the wafer W.例文帳に追加

ウェハWにレジスト液が供給される前に,ウェハWの外縁部に堰を形成するための所定の液体を供給する。 - 特許庁

This multi-layer packing pad 5 is arranged between a semiconductor wafer W and a chuck 1 vacuum sucking this semiconductor wafer W.例文帳に追加

半導体ウエハWと、この半導体ウエハWを真空吸着するチャック1との間に配設する多層バッキングパッド5である。 - 特許庁

The substrate treatment apparatus rotates a substrate W by an electric motor 6 while holding the substrate W on a spin-chuck 1.例文帳に追加

基板処理装置はスピンチャック1に基板Wを保持した状態で、電動モーター6により基板Wを回転させる。 - 特許庁

A chuck 2, supporting a substrate W, has multiple projections 4 which are formed on the surface to support the substrate W.例文帳に追加

基板Wを支持するチャック2は、基板Wを支持するその表面上に形成された複数の突起4を有する。 - 特許庁

The vaccine preparation for chicken is a W/O/W-type emulsion containing an antigen derived from Salmonella and a hydrophilic oily adjuvant.例文帳に追加

サルモネラ由来抗原および親水性油性アジュバントを含む水中油中水滴型エマルションを作製し、鶏用ワクチン製剤とする。 - 特許庁

A personal computer side tool 210 divides new F/W 291 and the F/W before update embedded in the embedded devices in a specific block size.例文帳に追加

パソコン側ツール210は、新しいF/W291と組み込み機器に組み込まれている更新前F/Wとを特定のブロックサイズで分割する。 - 特許庁

A resist solution is supplied to the wafer W where the dam D is formed, and a resist film R is formed on the wafer W.例文帳に追加

堰Dが形成されたウェハWにレジスト液が供給され,ウェハW上にレジスト膜Rが形成される。 - 特許庁

The volume of the water Vw in a pure water tank is primed (step 11), and compared with a prescribed determining volume V_0 (step 12).例文帳に追加

純水タンク内の水量V_Wを呼び込み(ステップ11)、この水量V_Wを所定の判断値V_0と比較する(ステップ12)。 - 特許庁

The emitter gap 41 is formed by mounting a round furrow having predetermined width W and depth H by etching on the lower part substrate 80 where a cell is formed.例文帳に追加

セルが形成された下部基板80に、所定の幅W及び深さHを有する丸い溝をエッチングにより設け、エミッタ間隙41を形成する。 - 特許庁

In this case, a length L of the slot is made almost equal to half-wavelength λ/2, and it is desired that a relation between width W and wavelength λ be expressed as W<<λ.例文帳に追加

こゝに、スロットの長さLは半波長λ/2にほゞ等しい長さであり、巾Wは波長λに対してW<<λの関係が望ましい。 - 特許庁

A holding plate 51 of the local transfer robot LHU can move closely to the substantially whole surface of the bottom of a substrate W to hold the substrate W.例文帳に追加

ローカル搬送ロボットLHUの保持プレート51は、基板Wの下面のほぼ全面に近接してその基板Wを保持することができる。 - 特許庁

The array antenna assembly 100 comprises m_0 variable directivity antenna elements AN-m, a wireless receiver R-m, an adaptive controller C1, a multiplier W-m, and an adder p1.例文帳に追加

アレーアンテナ装置100は、m_0個の指向性可変アンテナ素子AN-m、無線受信機R-m、適応制御コントローラC1、乗算器W-m及び加算器p1とを備える。 - 特許庁

A function W=f(j) representing the relation between the gradation level (j) and display pulse width W is a function which is downward convex.例文帳に追加

また、階調レベルjと表示パルス幅Wとの関係を表す関数W=f(j)を、下に凸の関数とする。 - 特許庁

Width W of the ridge optical waveguide 14 is set at a dimension satisfying a high-order propagating mode cut-off condition, with respect to the wavelength converted light.例文帳に追加

このリッジ型光導波路14の幅Wは、被波長変換光に対して高次伝播モードカットオフ条件を満たす寸法に形成されている。 - 特許庁

When cooling water W is supplied to the cold water tank 12, a funnel is fixed in place of a cap 35 and cooling water W is poured.例文帳に追加

冷水タンク12へ冷却用水Wを補給する場合は、キャップ35に代えて漏斗を付け、冷却用水Wを注入する。 - 特許庁

As a result, variations in the thickness of a silicon wafer W can be reduced, and flatness of the wafer W can be improved.例文帳に追加

その結果、シリコンウェーハWの厚さのバラツキを低減させることができるとともに、このウェーハWの平坦度も高められる。 - 特許庁

The semiconductor wafer W having a circumferential part is put on a table 201, and the protective film 109 is stuck on the surface of the semiconductor wafer W.例文帳に追加

円周部を有する半導体ウェハWをテーブル201に載せて半導体ウェハWの表面に保護フィルム109を貼付する。 - 特許庁

To provide a cosmetic preparation and a dermatological preparation in the form of an O/W emulsion comprising an amino-substituted hydroxybenzophenone.例文帳に追加

本発明は、アミノ置換ヒドロキシベンゾフェノンを含むO/W型エマルションの形態の化粧用製剤および皮膚用製剤に関する。 - 特許庁

A pulse width W_L is made long when the measured temperature is relatively low, and a pulse width W_H is made short when the measured temperature is high.例文帳に追加

測定温度が比較的に低いときにはパルス幅W_L を長くし、測定温度が高いときにはパルス幅W_H を短くする。 - 特許庁

The symmetric axis As and a rotary axis Ar when the substrate W is rotated are shifted in a direction parallel to the rotary face of the substrate W.例文帳に追加

そして、その対称軸Asと基板Wを回転させる際の回転軸Arとが、基板Wの回転面と平行な方向にずらされている。 - 特許庁

To prepare a W/O/W multiple emulsion which prevents deterioration of a cobalamin sealed in an inner water phase and has stability with time.例文帳に追加

内水相に封入したコバラミン類が劣化するのを防止し、経時的に安定なW/O/W型複合エマルションを提供すること。 - 特許庁

A W plug is formed as a contact or via plug on the W nucleus film by the CVD method.例文帳に追加

そして、CVD法によりW核付け膜上にコンタクトプラグまたはビアプラグとしてWプラグを形成する。 - 特許庁

In the vapor phase cleaning section, hydrofluoric acid steam is supplied onto the substrate W while the substrate W is rotated at a low speed, being kept at a prescribed temperature.例文帳に追加

気相洗浄処理部は、基板Wを所定の温度に維持しつつ低速回転させながら、基板Wにフッ酸蒸気を供給する。 - 特許庁

An evaporation sheet 11 is immersed in sewage W in a septic tank 2 by operating a winch 24 to allow the evaporation sheet 11 to absorb the sewage W in the septic tank 2.例文帳に追加

巻取機24を駆動して蒸発用シート11を汚水槽2の汚水Wに浸漬し、蒸発用シート11で汚水槽2の汚水Wを吸収する。 - 特許庁

The chuck 1 has a seating face 1a on which a workpiece W is seated, and can grip the workpiece W by opening and closing the chuck 1.例文帳に追加

チャック1は、ワークWが着座する着座面1aを有し、開閉してワークWを把持可能なものである。 - 特許庁

The sleeve 3 is formed with a through-hole 31 for inserting the wire W and a slit 32 for inserting the wire W from the side face.例文帳に追加

スリーブ3には、ワイヤーWが挿通される貫通孔31、及び、ワイヤーWが側面より差し込まれるスリット32が形成されている。 - 特許庁

A work W is coated by a coating spray gun 3 with the coating material flowing on the surface of the screen 5 in the work W side in this way.例文帳に追加

このようにしてワークW側のスクリーン5の表面に塗料を流しながら、塗装スプレーガン3によってワークWの塗装を行う。 - 特許庁

例文

The circular saw 13 draws a circular arc moving locus and abuts on a square pipe W from obliquely above the square pipe to start cutting of the square pipe W.例文帳に追加

丸鋸13は円弧状の移動軌跡を描いて角パイプWの斜め上方から当接して、角パイプWの切断が開始される。 - 特許庁

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