「atomic」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

(xxxvii) Among mass spectrometers, capable of measuring ions with a mass of 230 or more expressed in atomic weight units, and capable of differentiating ions with an atomic weight difference less than 2, those falling under any of the following (a) through (f) (excluding those falling under (g)) or ion sources usable with the mass spectrometers 例文帳に追加

三十七　質量分析計であって、原子質量単位で表した質量が二三〇以上のイオンを測定することができ、かつ、原子質量の差が二未満のイオンを区別することができるもののうち、次のイからヘまでのいずれかに該当するもの（トに該当するものを除く。）又は当該質量分析計に用いることができるイオン源 - 日本法令外国語訳データベースシステム

At the time of manufacturing a photoelectric conversion element provided with a semiconductor layer containing n-type impurities and a semiconductor layer containing p-type impurities formed thereon, the semiconductor layer containing n-type impurities is made to contain a first n-type impurity having a relatively small atomic radius and a second n-type impurity having a relatively large atomic radius.例文帳に追加

ｎ型不純物半導体層と、その上に形成されたｐ型不純物半導体層とを備えた光電変換素子を作製するにあたって、ｎ型不純物半導体層に、相対的に小さな原子半径を有する第１のｎ型不純物と、相対的に大きな原子半径を有する第２のｎ型不純物とを含有させる。 - 特許庁

A positive electrode material for lithium secondary batteries comprises secondary particles of a lithium transition metal composite oxide containing boron and/or bismuth, and an atomic ratio of a sum of boron and bismuth to a sum of metallic elements except for lithium, boron and bismuth on the surface part of the secondary particles is 5 or more times nor 70 or less times of an atomic ratio of a sum of the secondary particles.例文帳に追加

ホウ素及び／又はビスマスを含むリチウム遷移金属複合酸化物の二次粒子からなり、二次粒子の表面部分のリチウム、ホウ素及びビスマス以外の金属元素の合計に対するホウ素とビスマスの合計の原子比が、二次粒子全体の該原子比の５倍以上７０倍以下であることを特徴とするリチウム二次電池用正極材料。 - 特許庁

An oxide represented by general formula (1) Co_aX_bO_c (1) (X is chromium or iron; subscripts a, b, and c are each atomic ratio of cobalt, element X and oxygen, when a is 1, b is 0.3-3 and c is a value determined by atomic ratio and valences cobalt and element X and valence of oxygen) is used as a catalyst.例文帳に追加

触媒として一般式（１）： Ｃｏ_aＸ_bＯ_c （１） （式中、Ｘはクロム又は鉄を表し、添字ａ、ｂ及びｃはそれぞれコバルト、元素Ｘ及び酸素の原子比を表し、ａ＝１のとき、ｂ＝０．３〜３であり、ｃはコバルト及び元素Ｘの原子比及び原子価と酸素の原子価により決定される値である）で示される酸化物を用いる。 - 特許庁

The silver alloy thin film contains 0.01 to 0.1 atomic % of one or more kinds of metals selected from Pd and Pt, and, if required, containing one or more kinds of metals selected from Zn, Mg and Cu, and the balance Ag with inevitable impurities.例文帳に追加

上記銀合金薄膜は、PdおよびPtのうちの１種以上を0.01〜0.1原子%、必要によりZn、MgおよびCuのうちの１種以上を0.1〜5原子%含み、残部がAgおよび不可避不純物からなる。 - 特許庁

To provide a method for forming a flat face on an atomic scale in the surface of a metallic substrate by an electrochemical method capable of flattening on an electronic level having a practically requred width.例文帳に追加

実用上必要な広さを有する電子レベルでの平坦化が可能な電気化学的方法による金属基板表面における原子スケールの平坦面の形成方法を提供する。 - 特許庁

This paper for newspaper comprises white carbon and calcium carbonate so as to have the ratio of SiO2 to CaO in an atomic absorption spectroscopy of ash at 550°C defined by JIS P 8128 is 9:1-5:5.例文帳に追加

ホワイトカーボンと炭酸カルシウムとをＪＩＳ Ｐ ８１２８に規定の５５０℃の灰分の原子吸光分析におけるＳｉＯ_2とＣａＯとの割合が９：１〜５：５となるように含有させる。 - 特許庁

To reduce process-step counts and to simplify the apparatus by enabling precise removal at an atomic or molecular level, without generating affected layer by realizing a process using an optical catalyzer.例文帳に追加

光触媒による加工を実現して、原子分子レベルの精密な除去加工を可能とし、加工変質層を生じることなく、加工工程数を低減し、装置も単純化する。 - 特許庁

To provide a flame type atomic absorption spectro-photometer provided with a means for confirming a normal operation of a delay means when stopping auxiliary fuel gas, and enhanced remarkably in safety compared with a conventional one.例文帳に追加

助燃ガス停止時の遅延手段が正常に動作することを確認する手段を備えた、従来よりも一段と安全性の高いフレーム式原子吸光光度計を提供する。 - 特許庁

To achieve a satisfactory charge/discharge cycle characteristics in a battery using a negative electrode active material containing Si and O wherein the atomic ratio x of O to Si is expressed as 0<x<2.例文帳に追加

ＳｉとＯとを含み、Ｓｉに対するＯの原子比ｘが０＜ｘ＜２で表される負極活物質をもちいた電池において、良好な充放電サイクル性能を得る。 - 特許庁

In this alloy sheet, the outermost surface layer part of about 3 Å in a passive film deposited on the surface of an Fe-Ni alloy sheet has a compositional ratio satisfying ≤0.6 by the atomic ratio of Fe/(Fe+Ni).例文帳に追加

Fe−Ni合金板の表面に形成されている不動態皮膜中の３Å程度である最表層部がFe／ (Fe＋Ni) の原子比で0.6 以下の組成比を有する合金板。 - 特許庁

To enable the sharing of molecular information by enabling the providing of high precise information without depending on the format of an atomic row notation from a terminal device.例文帳に追加

端末装置からの原子列表記のフォーマットに依存せず、高精度な情報の提供を可能とすることで分子情報の共有を可能とする、分子情報提供を提供する。 - 特許庁

To provide an electric deionizing device efficiently performing a desalt treatment for water to be treated being rich in a cation component and being mostly suited to a secondary system of water treatment in especially a pressurized water type atomic power plant.例文帳に追加

カチオン成分リッチの被処理水を効率よく脱塩処理でき、とくに加圧水型原子力発電所における二次系の水処理に最適な電気脱イオン装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical system of an atomic oscillator that detects total variation of light emitted by a coherent light source in real time and controls power of the coherent light source to be constant.例文帳に追加

コヒーレント光源から出射した光の総合的な変動をリアルタイムに検出してコヒーレント光源のパワーを一定に制御することができる原子発振器の光学系を提供する。 - 特許庁

To characterize the tip of a probe for machining, to additionally machine a diamond probe, and to remove a machined waste deposited on the probe in a physical default removal device utilizing an atomic force microscope.例文帳に追加

原子間力顕微鏡を用いた物理的な欠陥除去装置で加工探針先端キャラクタリゼーションとダイヤモンド探針追加工と探針に付着した加工屑除去を可能にする。 - 特許庁

The Cr-base heat-resisting alloy has a composition composed essentially of Cr and containing 1-40 atomic % of either of Re and W or a mixture thereof.例文帳に追加

Ｃｒを主成分とし、ＲｅまたはＷのうちの１種あるいは両方の混合物を１原子％以上４０原子％以下含有するＣｒ基耐熱合金とする。 - 特許庁

An atomic flux divergence AFDgen of each element is calculated by using the distribution and the constant (S306) of the physical property of a material being determined by an acceleration test in advance (S308).例文帳に追加

各要素の原子流束発散ＡＦＤ_genは、これらの分布と前もって加速試験により決定される材料物性の定数（Ｓ３０６）を用いることにより計算される（Ｓ３０８）。 - 特許庁

To measure an electrical impedance along the surface rugged shape by bringing a distance between a sample and a probe close to a level common to an atomic force microscope or bringing them into contact with each other.例文帳に追加

試料・探針間の距離を原子間力顕微鏡で一般的なレベルまで接近あるいは接触させて、表面凹凸に沿った電気インピーダンスの測定を可能とする。 - 特許庁

In addition, a relationship of a≥50, a+b≥80, a+b+c=100 and d≥90 is satisfied, where atomic ratios of Al, Cr, M and N are a, b, c and d, respectively.例文帳に追加

また、Ａｌ、Ｃｒ、ＭおよびＮの原子比をそれぞれａ、ｂ、ｃおよびｄと表した時に、ａ≧５０、ａ＋ｂ≧８０、ａ＋ｂ＋ｃ＝１００、およびｄ≧９０の関係を満たす。 - 特許庁

This polybenzazole fiber is characterized by having an uneven fiber surface and having a fiber surface area rate of ≥1.03 in an AFM (atomic force microscope) observation visual field range of 1×1 μm^2.例文帳に追加

繊維表面に凹凸を有し、当該繊維表面のＡＦＭ観察視野範囲１×１μｍ^2における表面積率が１．０３以上であることを特徴とするポリベンザゾール繊維。 - 特許庁

A second ferroelectric film 13 is formed on the first ferroelectric film 12 by an atomic layer deposition method so as to bury the recessed parts 15 on the surface of the first ferroelectric film 12.例文帳に追加

第１強誘電体膜１２の表面の凹部１５を埋め込むように、第１強誘電体膜１２の上に、原子層堆積法により第２強誘電体膜１３を形成する。 - 特許庁

This film 13 is a layer constituted by laminating atomic layers, which respectively comprise 15 to 23 pieces or thereabouts of atoms, and is formed using O2 gas or an O2 gas plasma, an atmospheric plasma or a CVD(Chemical Vapor Deposition) method or the like.例文帳に追加

この酸化膜１３は、１５〜２３個程度の原子の積層によって構成された層であり、Ｏ_2 ガス、またはＯ_3 ガスプラズマ、大気圧プラズマ、あるいはＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）等にて形成する。 - 特許庁

To suppress occurrence of deposits deposited inside an apparatus, relating to an atomic layer deposition apparatus for forming an alumina film which is based on the premise of low temperature treatment around 300°C.例文帳に追加

高々３００℃程度の低温処理を前提とされたアルミナ膜を形成する原子層成長装置において、装置内部に堆積する堆積物の発生が抑制できるようにする。 - 特許庁

Further, the oxide consisting essentially of Zn in which the Zn/Al ratio is ≥4 preferably comprises Fe by 1 to 50at% as the Fe atomic concentration defined by Fe/(Zn+Fe).例文帳に追加

さらに、前記Ｚｎ/Ａｌ比が４以上のＺｎ主体の酸化物は、Ｆｅを、Ｆｅ/（Ｚｎ＋Ｆｅ）で定義されるＦｅ原子濃度として、１〜５０ａｔ％を含むことが好ましい。 - 特許庁

Alternatively, inclination of the scanning plane and the mask surface is corrected by a biaxial tilt stage provided in an atomic force microscope scanner system to process the mask, while the mask surface is kept parallel to the scanning plane.例文帳に追加

もしくはスキャン面とマスク面の傾きを原子間力顕微鏡スキャナー側に設けた2軸チルトステージで補正してスキャン面とマスク面が平行になる状態で加工を行う。 - 特許庁

The deposition temperature in the first process can be made lower than the deposition temperature in the second process, as the vapor phase deposition technology, for example, an atomic layer deposition method is used.例文帳に追加

第１の工程における成膜温度を、第２の工程における成膜温度より低い温度とすることができ、気相成膜技術としては、例えば原子層堆積法を用いる。 - 特許庁

To provide an apparatus for decomposing and removing harmful gas, capable of suppressing or preventing the recombination of atomic decomposed components of harmful gas without using a consumable adsorbent.例文帳に追加

消耗する吸着剤などを用いることなく有害ガスの原子状分解成分の再結合を抑制あるいは防止可能な有害ガスの分解除去装置を提供すること。 - 特許庁

The panel is allowed to track the sun so as to make the panel face the sun by setting a required inclination by moving a worm wheel in accordance with the movement of the earth using the standard time acquired by an atomic radio-controlled clock.例文帳に追加

そして電波時計を規準時として地球の動きに合わせて太陽に直面するように、ウオームホイールを動かして傾斜をつけ、太陽を追尾するようにする。 - 特許庁

When the instruction which can be exported is supported, the atomic update process is exported to a center location.例文帳に追加

FETCHADD命令が実行され、WBに設定された属性のページにあるメモリ位置がアクセスされると、ＣＰＵはそのメモリ位置を含むキャッシュラインの排他的使用を得ることによりFECHADDを原子的に実行する。 - 特許庁

substances, materials, mixtures, elements or products of any kind, as well as the modification of their physical chemical properties and the relevant processes for obtainment or modification, when resulting from the transformation of the atomic nucleus; and 例文帳に追加

原子核変換から生じる全ての種類の物質，材料，混合物，元素又は製品，及びその物理化学的属性の変態，並びにそれらの取得又は変態のための方法 - 特許庁

The surface treatment of a carbon material is performed by coating the carbon material with a fullerene derivative having exohedrally atomic groups containing an 8-30C alkyl or fluoroalkyl group.例文帳に追加

炭素材料を、炭素数８〜３０のアルキル基またはフルオロアルキル基を含む原子団を外表面に有するフラーレン誘導体で被覆することにより炭素材料の表面処理を行う。 - 特許庁

HYDRIDE METAL COMPLEX AND LOW ATOMIC VALENCE METAL COMPLEX, AND METHOD OF DRAWING OUT ELECTRON FROM HYDROGEN MOLECULE USING THESE, METHOD OF HYDROGENATING SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING HYDROGEN FROM DEUTERIUM例文帳に追加

ヒドリド金属錯体および低原子価金属錯体、並びにそれらを用いて、水素分子から電子を取り出す方法、基質を水素化する方法、および重水素から水素を製造する方法 - 特許庁

Furthermore, as for the composition in atomic ratio of the recording layer 4 is represented by general formula in (Ib)a(IIIb)b(Sb)x(Te)1-a-b-x, a, b and x satisfy an inequality: 0.72≤x+2a+7b/6≤0.82.例文帳に追加

さらに、記録層４の原子比率での組成を(Ｉｂ)_a(IIIｂ)_b(Ｓｂ)_x(Ｔｅ)_1-a-b-x で表す一般式において、ａ，ｂ，ｘが０．７２≦ｘ＋２ａ＋７ｂ／６≦０．８２である。 - 特許庁

The write-once type optical recording medium is provided with a recording layer containing at least Bi, B and O on a substrate, and the atomic ratio of Bi to B in the recording layer is 3/7≤Bi/B≤8.例文帳に追加

基板上に、少なくとも、Ｂｉ、Ｂ及びＯを含有する記録層を備え、記録層におけるＢｉとＢの原子比が３／７≦Ｂｉ／Ｂ≦８である追記型光記録媒体である。 - 特許庁

On the other hand, a probe shape creating means 213 creates the atomic arrangement data of a probe, and a probe surface height calculating means 214 calculates the height on the probe surface mesh by mesh.例文帳に追加

一方、探針形状生成手段２１３は探針の原子配列データを生成し、探針表面高さ算出手段２１４はメッシュ毎の探針表面の高さを算出する。 - 特許庁

To provide an atomic-layer deposition apparatus which reliably purges precursors remaining in a reaction space, and stably and uniformly supplies a gas of the respective precursors onto a substrate.例文帳に追加

原子層堆積装置による反応空間内に残存する前躯体のパージが確実に行われ、各前躯体のガスが安定的に且つ均等に基板に対して供給されるようにする。 - 特許庁

A metallic sputtering target has a composition substantially expressed by the formula of M_100-zFe_z (M is at least one kind of element selected from Ti, Nb and Ta; and 10≤z≤50 atomic%).例文帳に追加

金属系スパッタリングターゲットは、Ｍ_100-zＦｅ_z（ＭはＴｉ、ＮｂおよびＴａから選ばれる少なくとも1種の元素、10≦ｚ≦50原子％）の式で実質的に表される組成を有する。 - 特許庁

The multiple oxide solid soln. having a triclinic structure is an oxide ion conductor whose atomic compsn. is represented by the formula Bi46M8O89 (where M is V and As, P and S, or V, P and S).例文帳に追加

原子組成がＢｉ_46Ｍ_8 Ｏ_89（Ｍは、ＶとＡｓ，ＰとＳ，またはＶとＰとＳを示す）で表される酸化物イオン伝導体である三斜晶系構造の複酸化物固溶体。 - 特許庁

To solve the problem that a technology for implementing an atomic compare and swap instruction is required for a CELL processor where a first processor and a second processor have different sized register lines.例文帳に追加

第１のプロセッサと第２のプロセッサとが異なるサイズのレジスタ・ラインを持つＣＥＬＬプロセッサにおいて、アトミックなコンペア・アンド・スワップ命令を実行するための技術が必要である。 - 特許庁

SrRuO3 (SRO) is used for at least a part of electrodes 10, 12 of a ferroelectric capacitor C, the Ru/Sr ratio (atomic) of the SRO is set in a range of 1.01-1.10.例文帳に追加

本発明は、強誘電体キャパシタＣの電極１０、１２の少なくとも一部にＳｒＲｕＯ_3 （ＳＲＯ）を用い、このＳＲＯのＲｕ／Ｓｒ比（原子）を１．０１〜１．１０の範囲にする。 - 特許庁

The sputtering target contains, by atomic%, 20 to 40% Ga, 0.05 to 2% Na and 0.025 to 1.0% S, and the balance comprising Cu and inevitable impurities.例文帳に追加

Ｇａ：２０〜４０ａｔ％を含有し、 さらに、Ｎａ：０．０５〜２ａｔ％およびＳ：０．０２５〜１．０ａｔ％を含有し、残部がＣｕ及び不可避不純物からなる成分組成を有する。 - 特許庁

To obtain a positionally uniform and continuous effect for a long period of inhibiting relaxation of atomic spin of a medium sealed into a cell equipped in a measurement device using optical pumping.例文帳に追加

光ポンピングを利用した測定装置が備えるセルに封入された媒体の原子スピンの緩和を抑制する効果を、場所によって均一に、かつ長期間継続して得ること。 - 特許庁

In the PLLA used here, a remaining amount of polymerization catalyst used upon melt-polymerization of L-lactide is removed to an extent not detected by the atomic absorption method.例文帳に追加

ここで用いるポリ乳酸（ＰＬＬＡ）は、L−ラクタイドを溶融重合する際に用いられた重合触媒の残存料が原子吸光法により検出されない範囲まで除去されている。 - 特許庁

To provide a method for preparing a metal-containing layer having uniform, conformal thickness and smooth surfaces by ALD (atomic layer deposition) process using specific metal precursors.例文帳に追加

特定の金属先駆物質を用いたＡＬＤ法により、基板表面に、均一で共形的な厚さと平滑な表面とを有する金属含有皮膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

The Si alloy for lithium secondary battery negative electrode material consists of A1: 15-40% and Ti: 1-20% in terms of atomic%, and the remainder being Si and unavoidable impurities.例文帳に追加

原子％で、Ａｌ：１５〜４０％、Ｔｉ：１〜２０％を含み、残部Ｓｉおよび不可避的不純物よりなることを特徴とするリチウム二次電池負極物質用Ｓｉ合金。 - 特許庁