「checked pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

It is checked (step 201) whether all the patterns of a term pattern rule 21 are all matched against and when not, the patterns of matching are matched (scanned) in the object document (step 202).例文帳に追加

そして、用語パタンルール２１の全パタンを照合しているかどうか調べ（ステップ２０１）、照合していなければ照合のパタンを対象文書中で照合（走査）する（ステップ２０２）。 - 特許庁

In the imaging apparatus, a color filter is disposed on a light receiving plane of a CCD 16, the color filter where color elements R0, B0 corresponding to R, B and color elements X, Z for G are arrayed in a checked pattern.例文帳に追加

Ｒ，Ｂに応じた色要素Ｒ０、Ｂ０と、Ｇに相関する色要素Ｘ、Ｚとが市松状に配列されたカラーフィルタをＣＣＤ１６の受光面に配置する。 - 特許庁

The insertion circuits 6 and 8 rewrite the identification information added to the path monitoring pattern to unique identification information for specifying the present circuit, when the checked result of the detection circuits 5 and 7 in the preceding stage indicate abnormality and insert the path monitoring pattern to the free time slot of the data.例文帳に追加

挿入回路６，８はその前段の検出回路５，７のチェック結果が異常を示す時にパス監視パターンに付加された識別情報を自回路を特定するユニークな識別情報に書換え、そのパス監視パターンをデータの空きタイムスロットに挿入する。 - 特許庁

Therefore when the switched location of the switching lever 32B of the pattern switching valve 32 is checked, the driver can easily check the switched location of the pattern switching valve 32 by glancing at the switching lever 32B in the driver seat pedestal 22 at the time of riding in a driver seat 23.例文帳に追加

従って、パターン切換弁３２の切換レバー３２Ｂの切換位置を確認する場合には、運転席２３に乗り込むときに運転席台座２２内の切換レバー３２Ｂを見ることにより、パターン切換弁３２の切換位置を容易に確認することができる。 - 特許庁

The solution is algebraically calculated on the basis of the geometric relation by simultaneously setting up the algebraic conditions in each the solution pattern, and accuracy of the calculated solution is geometrically checked (S7-S9).例文帳に追加

そして、当該解パターン毎の代数的制約条件を連立させることにより、幾何的な関係に基づいて、代数的に解を算出し、算出した解の精度を、幾何的にチェックする(S7-S9)。 - 特許庁

Data checked by a first design rule 1 of design data of a pattern to be formed within a semiconductor device is corrected based on a correction guideline 5, and subjected again to the first desiging rule check.例文帳に追加

半導体装置内に形成されるパターンの設計データのうち第１のデザインルール１によるチェックが済んだデータを修正指針５に基づいて修正し、再び第１のデザインルールチェックにかける。 - 特許庁

Consequently, without conveying the mask M out of the pattern drawing apparatus 1, it can be checked, cleaned, and stocked, thereby the contamination and damage of the mask M caused by the conveyance can be prevented.例文帳に追加

このため、マスクＭをパターン描画装置１の外部に搬送することなく検査、洗浄、および収納することができ、これにより、搬送に伴うマスクＭの汚れや損傷を防止することができる。 - 特許庁

Functions or the like of elements at formation of the electron emission part by forming treatment are checked by the pattern of the element electrodes and the conductive thin film formed outside the region forming the electron emission element group.例文帳に追加

この電子放出素子群形成領域の外側に形成した素子電極，導電性薄膜パターンにて、フォーミング処理によって電子放出部を形成した際の素子の機能等をチェックする。 - 特許庁

Counterfeit prevention property is enhanced by disposing an electroluminescence element having a hologram relief pattern and is configured in such a manner that only when a prescribed voltage is applied to the electroluminescence element, a hologram pattern at a prescribed visible light wavelength appears in a space, and thereby, authenticity of the hologram can be visually checked.例文帳に追加

ホログラムレリーフの形状を有するエレクトロルミネッセンス素子を設け、そのエレクトロルミネッセンス素子が、所定の電圧を印加したときのみ、空間にその所定の可視光波長のホログラムが浮き上がり、そのことによって、そのホログラムが真正品であると、目視にて判定可能とし、偽造防止性を高めた。 - 特許庁

Additionally, the recording paper 18 is fed from a paper feeding opening 51 of the maintenance kit 50; a nozzle check pattern is printed by the inkjet heads 10 for the respective colors; and a normal state of the inkjet heads 10 is checked on the spot.例文帳に追加

また、メンテナンスキット５０の給紙口５１から記録用紙１８を供給し、各色のインクジェットヘッド１０によってノズルチェックパターンを印写し、その場でインクジェットヘッド１０の正常状態を確認する。 - 特許庁

To solve a problem that, when a fuel supply anomaly is checked with respect to an arbitrary cylinder in a multicylinder internal combustion engine for which a plurality of fuel supply patterns have been set, it cannot be determined accurately except with a specific fuel supply pattern.例文帳に追加

複数の燃料供給パターンが設定された多気筒内燃機関の任意の気筒に関する燃料の供給異常を判定する場合、特定の燃料供給パターン以外では正確に判定できない。 - 特許庁

It is checked whether no water exists within the device exceeding a specific value, no air is leaked, no background peak exceeding a preset value exists, and the mass spectrum of a standard substance matches with a determined pattern within the range of an error (24).例文帳に追加

装置内の水分が既定値以上に存在せず、空気漏れがなく、既定値以上のバックグランドピークが存在せず、かつ標準物質の質量スペクトルが定められているパターンと誤差の範囲内で一致していることをチェックする（２４）。 - 特許庁

To provide a method of checking a mask used in a lithography process of forming the circuit pattern of a semiconductor device, which is superior in throughput and capable of improving the reliability of the mask because even extremely small defects are checked.例文帳に追加

半導体装置の回路パターン形成のためのリソグラフィ工程で用いるマスクの検査方法であって、微細な欠陥も検査するためマスクの信頼性が非常に高くなるとともに、スループットが速いマスク検査方法を提供する。 - 特許庁

The dimension is determined, in such a way that concerning a calibrate pattern which is formed on the wafer and already checked in dimension, a data base is created by finding a polarized state parameter, and the database is searched for on the basis of a polarizing parameter of a test portion.例文帳に追加

ウェハ上に形成された、寸法が確認されている較正パターンについて、偏光状態パラメータを求めてデータベースを作成し、測定試料の偏光パラメータにもとづいてデータベースを検索し、寸法を求める。 - 特許庁

To provide a transferring device, in which the positional discrepancy (the lateral discrepancy) between a mold and a piece to be molded can be checked small when a minute indented pattern molded on the surface of the mold by lithographic technique is transferred to the surface of the piece to be molded, and its method.例文帳に追加

リソグラフィ技術を用いて型の表面に形成された微細な凹凸パターンを被成形品の表面に転写するとき、型と被成形品の位置ずれ（横ずれ）を小さく抑えることのできる転写装置及び方法を提供する。 - 特許庁

When positional relation between the mark electrodes 24m, 25m and 26m and the rectangular hole 43 is checked after the piezoelectric actuator is laid fixedly onto the cavity plate, positional shift can be detected directly and easily without printing a test pattern.例文帳に追加

このため、圧電アクチュエータをキャビティープレートに積層固定した後、マーク電極２４ｍ，２５ｍ，２６ｍと角孔４３との位置関係を調べれば、テストパターンを印刷しなくても、上記位置ずれ量を容易にかつ直接正確に検出することができる。 - 特許庁

The repair mechanism 20 includes a beam irradiator for irradiating the repair site of the wiring pattern with a convergence ion beam and a local vacuum mirror cylinder connected to the to top end of the beam irradiator, and locally made vacuum by covering an object to be checked.例文帳に追加

リペア機構部２０は、集束イオンビームを形成し配線パターンの補修部位に照射するビーム照射部と、ビーム照射部の先端部に接続され、検査対象物を覆って局部的に真空とする局部的真空鏡筒を有する。 - 特許庁

The security level of the terminal is detected by an access pattern, whether the security level reaches a predetermined level is checked, and when it is determined that the security level of the terminal does not reach the predetermined level, the access permitting range of the terminal is changed.例文帳に追加

アクセスパターンによって端末のセキュリティレベルを検出して、前記セキュリティレベルが所定のレベルに達しているか否かを判定し、前記端末のセキュリティレベルが所定のレベルに達していないと判定された場合に、当該端末のアクセス許可範囲を変更する。 - 特許庁

In performing the check, the gradations of pixels at an end of the captured image are checked to see if there is a pattern including consecutive black-like gradations of pixels at an end of the image, thereby checking if vertical synchronization and horizontal synchronization are abnormal.例文帳に追加

チェックする際には、撮像した画像の画像端におけるピクセルの階調を調べて、画像端におけるピクセルの階調で黒に近いものが連続するパターンがあるか否かを調べることにより、垂直同期・水平同期に異常があるか否かをチェックする。 - 特許庁

The texts of the description of a patent are read sentence by sentence from a database 200, in which the text data of the description of a patent are stored (S210), and whether the sentence has a sentence pattern, from which it is possible to extract the 'industrial application field' or the like is checked by using an extraction table (S250).例文帳に追加

特許の明細書等のテキスト・データが格納されているデータベース２００から、明細書の文章を１文ずつ読み出して（Ｓ２１０）、抽出テーブルを用いて、「産業上の利用分野」等を抽出することができる文型であるかを調べる（Ｓ２５０）。 - 特許庁

To provide a mask data creation method by which what kind of OPC (optical proximity correction) process is performed can be easily read out and removal of an OPC pattern in an inhibited region can be easily checked, and to provide a mask manufacturing apparatus, a mask, a program and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

どの種類のＯＰＣ処理が行われているかを容易に読み取れ、かつ禁止領域でＯＰＣパターンが除去されていることが容易に確認できるマスクデータ作成方法、マスク製造装置、マスク、プログラム及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A first interior panel 21 and a second interior panel 22 include: panel bodies 23 and 33 that have the light transmission of the grain pattern etc., and are provided with an opaque colored layer that can be visually checked from the surface; and an inorganic EL light emission film that is integrated with the back side of the panel bodies 23 and 33.例文帳に追加

第１インテリアパネル21および第２インテリアパネル22は、木目柄などの光透過性を有するとともに不透明の着色層を表面から視認可能に設けたパネル本体23，33と、これらのパネル本体23，33の裏面に一体化した無機ＥＬ発光フィルムとを具備している。 - 特許庁

The disconnection and appearance defect of a wiring pattern in a printed circuit board 1 enabling multiple semiconductor devices 5 to be mounted are checked, and then a defect recognition mark 2 that can be identified by image recognition is added to a semiconductor device mount area corresponding to the defect location on the printed circuit board 1.例文帳に追加

複数の半導体素子５が搭載可能なプリント基板１の配線パターンの断線および外観不良のチェックを行い、プリント基板１の不良箇所に対応して該当する半導体素子搭載領域に画像認識などによって識別可能な不良認識マーク２を付与する。 - 特許庁

By outputting visual display, sound or an oscillation pattern corresponding to the number of times of touch with the coordinate input device 2 or the holding state of contact in operation, whether or not tap operation or drag operation is performed on the basis of user's intention can be checked.例文帳に追加

操作時における座標入力装置２への接触回数や接触の持続状態に応じた視覚的表示又は音声若しくは振動パターンを出力することにより、タップ操作やドラッグ操作がユーザの意図通りに行われたどうかを確認できるように構成した。 - 特許庁

To provide a forgery prevention structure, which is hardly forged and has a concealed pattern that is hardly recognized with a usual visible light source and can be checked by an extremely simple verification method without using a specified polarization film or a specified verification device or the like, and to provide a forgery prevention sheet using the structure and a method for determining authenticity of the structure.例文帳に追加

偽造がされ難く、通常の可視光源下では判り難く、特定の偏光フィルムや特定の検証機等を使わずに、極簡単な検証方法で、隠しパターンを確認出来る偽造防止構造体及びそれを用いた偽造防止枚葉体並びにその真偽判定方法の提供にある。 - 特許庁

A source ID selected as input is identified in a step S401, and whether the input source (or the combination thereof) is viewed in the past, that is, whether it is present in a viewing pattern history data base, is checked on the basis of the attribute data of the selected input source in the next step S402.例文帳に追加

ステップＳ４０１で、入力として選択されたソースＩＤの識別を行い、次のステップＳ４０２で、選択された入力ソースの属性データに基づき、その入力ソース（またはその組合せ）が過去に視聴されているか否か、すなわち視聴パターン履歴データベースに存在するかをチェックする。 - 特許庁

This method for checking the electronic image of the pattern of a mask 30 is provided to expose an electronic image by irradiating a sample 100 to check with an electron beam transmitted through the mask, and to detect the electronic image on the sample 100 to check to form image data, and to compare the normal image data with the checked image data to detect defects.例文帳に追加

マスク３０のパターンの電子像を検査する方法であって、マスクを通過した電子ビームを検査用試料１００に照射して電子像を露光し、検査用試料１００上の電子像を検出して検査画像データを形成し、正規画像データと検査画像データを比較して欠陥を検出する。 - 特許庁