「diffracted light」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

The optical system includes a grating element 3 having a light separating function and an fθ lens on which each of rays b1 to b3 from the grating element 3 are made incident and which is arranged so that diffracted rays are converged respectively on position coordinates P1, P2, P3 which are substantially proportional to their angles of incidence.例文帳に追加

この光学系は、分光機能を有するグレーティング素子３と、グレーティング素子からの各回折光ｂ１〜ｂ３が入力し、その入力角に実質的に比例する位置座標Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３に各回折光が焦点を結ぶように配置されたｆθレンズ４と、を含む。 - 特許庁

A measurement beam is projected on a scale (diffraction grating) provided on an upper surface of the moving body, and interference light (intensity I) generated by a plurality of diffracted beams generated through the scale is received to measure position information (a phase ϕ associated with displacement ΔY) of a stage relating to a period direction of the diffraction grating.例文帳に追加

移動体の上面に設けられたスケール（回折格子）に計測ビームを投射し、そのスケールにて発生する複数の回折ビームから生成される干渉光（強度Ｉ）を受光して、回折格子の周期方向に関するステージの位置情報（変位ΔＹに係わる位相φ）を計測する。 - 特許庁

Thus, when an incident direction 81 and a switching direction 83 are in the column direction n, the angle of emitting direction of diffracted light 73a is varied with respect to the incident direction 81, the optical system is arranged in the direction perpendicular to the image.例文帳に追加

これにより、入射方向８１とスイッチング方向８３を列方向ｎにしたときに、入射方向８１に対して、回折光７３ａの出射方向の角度を変えることができるので、画像に対して垂直な方向に光学系を配置することが可能となる。 - 特許庁

To solve the conventional problem that direction of diffracted light beams is discrete and limited only to the direction of predetermined grid points in the conventional diffractive optical element (DOE) in which a unit pattern Y of a prescribed pattern is repeatedly parallelized lengthwise and crosswise and in which calculation is possible rather advantageously by high-speed Fourier transformation.例文帳に追加

従来の回折型光学部品（ＤＯＥ）は一定パターンのユニットパターンΥを縦横に繰り返し並列させたものであり高速フーリエ変換によって計算できるという利点があるが回折光の方向は離散的で予め決まった格子点の方向にしか出ない。 - 特許庁

The center of the light beam of each wavelength diffracted by the spectrometer 11 is led to an imaging surface 12a of the imaging device by a relay optical system 13 consisting of a decenterd lens and the spectral image formed on the spectral imaging surface 14 is re-imaged on the surface 12a of a device 12.例文帳に追加

そして、分光器１１により分光された各波長の光束の中心は偏心レンズであるリレー光学系１３によって撮像装置１２の撮像面１２ａに導かれ、分光結像面１４で結像された分光像は撮像装置１２の撮像面１２ａに再結像される。 - 特許庁

Light outputted from the front end of an optical fiber type collimator 80 is inputted to a first diffraction grating 111 formed on a first surface 110 of a transparent member 10 and is branched by wavelengths by being diffracted in the first diffraction grating 111 by diffraction angles corresponding to wavelengths.例文帳に追加

光ファイバ型コリメータ８０の先端より出力された光は、透明部材１０の第１面１１０に形成された第１回折格子１１１に入力し、この第１回折格子１１１において波長に応じた回折角で回折されることにより波長分岐される。 - 特許庁

A first device condition regarding the angle between the advancing direction of diffracted light L2 and the direction of the optical axis O2 of an optical condenser system 27, and a second device condition regarding the output levels of image signals outputted from an image picking-up means 28, are set to the optimum conditions.例文帳に追加

回折光Ｌ２の進行方向と集光光学系２７の光軸方向Ｏ２との間の角度に関わる第１装置条件、および、撮像手段２８から出力される画像信号の出力レベルに関わる第２装置条件を最適条件に設定する。 - 特許庁

To provide a method which generates an ideal output so that an electromechanical grating device can be operated with a higher frequency by opening a ribbon element of the device so that the quantity of diffracted light may be free from undesired temporary variance caused by resonance of the ribbon element.例文帳に追加

回折光量がリボン素子の共鳴によって生じる望まれない一時的な変動を一切含まないように電気機械格子装置のリボン素子を作動させ、よって装置がより高い周波数で作動できるようにより理想的な出力を生成する方法を提供すること。 - 特許庁

The space intensity distribution of the diffracted and scattered light obtained by irradiating the dust collecting electrode 4 with laser beam is measured, whereby the particle size distribution of the floating particulate matter P can be measured with high resolution in a wide particle size range on the basis of laser diffraction and scattering method.例文帳に追加

また、その集塵電極４に対してレーザ光を照射して得られる回折・散乱光の空間強度分布を測定することにより、レーザ回折・散乱法に基づいて浮遊粒子状物質Ｐの粒度分布を広い粒径範囲で高分解能のもとに測定することを可能とする。 - 特許庁

This optical pickup apparatus includes: a light emitting element for generating three beams having different wavelengths respectively; a multiplex hologram optical element on which three hologram patterns are formed so as to receive beams reflected from an optical disk to respectively diffract the received beams in accordance with the wavelengths of the received beams; and a light receiving element for receiving each of the beams diffracted by the multiplex hologram optical element.例文帳に追加

それぞれ異なる波長をもつ３本のビームを発生させる発光素子と、光ディスクから反射されたビームを受信してビームの波長に応じてそれぞれ回折させるように３つのホログラムパターンが形成された多重ホログラム光学素子と、前記多重ホログラム光学素子によって回折されたそれぞれのビームを受信する受光素子とを含んでなる。 - 特許庁

In a spectrum analyzer comprising a diffraction grating 7 diffracting incident light and an order dispersing element 4 further dispersing the diffracted light by the grating 7 every diffraction order, the grating 7 is placed in a diffraction face 14 and rotatably with a straight line 16 vertical to an inscribing line of the channel of the grating 7 as an axis.例文帳に追加

入射した光を回折する回折格子７と、回折格子７により回折された光をさらに回折次数毎に分散する次数分散素子４とからなる分光分析装置において、回折格子７は、回折格子７の回折面１４内にあり、かつ、回折格子７の溝の刻線に垂直な直線１６を軸として、回転可能に設けられている。 - 特許庁

To detect defects in a minute wiring pattern formed on a sample with high sensitivity, by improving the contrast of an optical image of the sample formed by the interference between the 0-th and higher-order diffracted lights of reflected light, arising from illuminating light reflected by the sample surface, in a defects detection optical system which detects defects in a pattern formed on the sample surface.例文帳に追加

試料表面に形成したパターンの欠陥を検出する欠陥検出光学系において、照明光により試料表面で反射した反射光の０次光と高次回折光の干渉により形成される試料の光学像のコントラストを向上させることにより、試料上に形成された微細な配線パターンの欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁

A color pattern layer devised to prevent reflected light on the interface between the relief hologram and the reflective thin film formed on the relief hologram from being strong, as well as, being diffracted to become return light is provided between the relief hologram and the reflective thin film and at a position facing the cholesteric liquid crystal; and thereby the visibility of the cholesteric liquid crystal is improved and the precision of authenticity determination is improved.例文帳に追加

レリーフホログラムとそのレリーフホログラム上に形成されている反射性薄膜との間であって、コレステリック液晶と相対する位置に、その界面での反射光が強く且つ回折して戻り光とならないよう工夫した着色パターン層を設けることにより、コレステリック液晶の視認性を改善するとともに、真正性判定の精度を向上させる。 - 特許庁

The reflected X-ray measuring means 6 is moved along the track obtained by setting an emitted X-ray vector in the same direction as the incident vector of incident X-rays to a reference point (zero point) to rotate the same centering around the normal line T from the center of the surface of the measuring sample to detect the diffracted light from the surface of the sample.例文帳に追加

入射Ｘ線の入射ベクトルと同方向の射出Ｘ線ベクトルを基準点（０点）として、前記測定試料表面の中心からの法線Ｔの周りに前記射出ベクトルを回転して得た軌跡に沿って、前記反射Ｘ線測定手段６を移動し、試料表面からの回折光を検出する。 - 特許庁

To provide a method for monitoring the state of a pattern drawing apparatus, precisely discriminating a pattern change production place from the contrast caused by the difference in the quantity of diffracted light in a pattern having periodicity, and also monitoring the state of the pattern drawing apparatus by simply leading out the change production period of the pattern change production place.例文帳に追加

周期性のあるパターンにおいて、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってパターン描画装置の状態監視を実施できるパターン描画装置の状態監視方法を提供する。 - 特許庁

This reflective exposure method comprises for the reflective mask the steps of selecting a specified pattern, e.g., a pattern having a minimum dimension, computing the electromagnetic field near the mask with respect to the pattern, and obtaining the propagation direction having a maximum intensity in the distribution of diffracted light acquired from the computed electromagnetic field near the mask.例文帳に追加

反射型露光方法は、反射型マスクにおいて、特定のパターン、例えば、最も寸法の小さいパターンを選択するステップと、該パターンについてマスク近傍の電磁界を計算するステップと、計算されたマスク近傍の電磁界から求まる回折光の分布から最も強度が強い伝播方向を求めるステップを含む。 - 特許庁

A body casing 4 is provided with a sample liquid circulation system 1 having a dispersion bath 11 connected to a flow cell 15 through a circulating passage 14 and a measuring system 2 for emitting laser beam to a sample liquid carried in the flow cell 15 to measure the particle size distribution of the sample on the basis of the diffracted light pattern at that time.例文帳に追加

分散バス１１とフローセル１５とを循環流路１４を介して接続した試料液循環系１と、フローセル１５内を流れる試料液に対してレーザ光を照射し、そのときの回折光パターンに基づいて試料の粒度分布を測定する測定系２とを本体筐体４に設ける。 - 特許庁

To provide a substrate inspection device for enhancing flaw detecting sensitivity with respect to a flaw being unstable in flaw detecting sensitivity by an observation direction of a focus matching defective flaw or the like in the observation of the diffracted light of a substrate wherein any one side of a substrate pattern is parallel to a feed direction, and a substrate inspection program.例文帳に追加

基板パターンの何れか一辺が搬送方向と平行となっている基板の回折光観察において、合焦不良欠陥などの観察方向によって欠陥検出感度が不安定である欠陥に対して、欠陥検出感度を向上させるための基板検査装置および基板検査プログラムを提供すること。 - 特許庁

Also, reflected luminous flux from the recording surface is transmitted through the objective lens 5 and the 1/4 wavelength plate 4, made converged luminous flux of a direction being orthogonal to a forward path, after it is transmitted through the coupling lens 3 and made converged luminous flux, diffracted by the polarization diffraction lattice 10 of the optical element 2 and made incident on a light receiving element 7.例文帳に追加

また記録面からの反射光束は、対物レンズ５と１／４波長板４を透過して、往路とは直交する方向の直線偏光とされて、カップリングレンズ３を透過して集光光束となった後、光学素子２の偏光性回折格子１０で回折されて受光素子７に入射する。 - 特許庁

A semiconductor layer 103 is covered with a gate electrode 104 and a second shading part 106, so as to be completely shaded from light 117 diffracted at the end of a third shading layer 108, with a TFT being capable of avoiding variations in the characteristics, and realizing a superior display image.例文帳に追加

第３の遮光層１０８の端部で回折した光１１７を完全に遮光するため、半導体層１０３をゲート電極１０４と第２の遮光部１０６とで覆うことによって、回折した光の照射を防止し、ＴＦＴ特性の変動を回避でき、良好な表示画像を得る事ができる。 - 特許庁

This measuring instrument for measuring a parameter of fine structure on a substrate is provided with a supercontinuum light source constituted to generate a measurement beam, an optical system constituted to emit the measurement beam onto the substrate, and a sensor for detecting radiation reflected and/or diffracted by the structure.例文帳に追加

基板上の微細構造のパラメータを測定する計測装置であって、測定ビームを生成するように構成されたスーパコンティニューム光源と、測定ビームを基板上に送るように構成された光学系と、構造によって反射された、かつ／又は、回折された放射を検出するセンサとを備える計測装置。 - 特許庁

Then, two luminous fluxes L04 and L40 having different frequencies are made incident on the mark WM at prescribed incident angles which are different from those of the luminous fluxes L03 and L30 and the ±4th order diffracted light generated from the mark WM is detected by means of the photoelectric detector 33.例文帳に追加

次に、２光束Ｌ０３及びＬ３０の入射角とは異なる所定の入射角で、互いに周波数が異なる２光束Ｌ０４及びＬ４０を回折格子状マークＷＭに対して入射させ、回折格子状マークから発生する±４次回折光を光電検出器３３により検出する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern that can solve problems of short-circuit or breaking of word lines and data line ends caused by interference of diffracted light produced at a pattern end on a boundary part between a memory array and a sub-word driver or sense amplifier when fine word lines and data lines having linewidth smaller than a wavelength are patterned on a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the optical master disk for forming projecting and recessed patterns by developing an exposed photoresist, the photoresist layer is irradiated with the second harmonic of solid laser as reference beam in the development and the developing process is finished based on the level of a diffracted light in the projecting and recessed pattern.例文帳に追加

露光されたフォトレジスト層を現像し凹凸パターンを形成する光ディスク原盤の製造方法において、上記現像の際にフォトレジスト層に対して固体レーザの第２高調波を参照光として照射し、上記凹凸パターンにおける回折光のレベルに基づいて現像工程を終了させる。 - 特許庁

This is a method to move particles 10 by using a device furnished with a substrate 4, a waveguide 2 and a diffraction grating 6 formed on this waveguide, light having wavelength λ is introduced to the inside of the waveguide; and the light transmitted through the waveguide is diffracted toward a medium 14 with the particles arranged on it and having an index of refraction (nsuper).例文帳に追加

本発明は、下層（４）と導波路（２）とこの導波路上に形成された回折格子（６）とを具備してなるデバイスを使用して粒子（１０）を移動させるための方法に関するものであって、−波長（λ）を有した光を、導波路内へと導入し；−導波路を通して伝達された光を、粒子が配置されているとともに屈折率（ｎｓｕｐｅｒ）を有した媒質（１４）に向けて、回折させる。 - 特許庁

To improve the incident accuracy of each incident spot to each optical sensor when a light from a laser diode is diffracted by a diffraction grating and plural incident spots are generated from plural diffraction of lights, and the incident spots are respectively projected to tracks sequentially arrayed in the radial direction of an optical disk so as to make reflected light incident on corresponding optical sensors.例文帳に追加

レーザダイオード11からの光を回折格子板13において回折し、複数の次数の回折光から複数個の入射スポット47M，E，F，G，Hを生成し、各入射スポット47M，E，F，G，Hを光ディスク23の半径方向へ順に並ぶトラック43へに照射して、対応の反射光による入射スポット47M，E，F，G，Hを対応の光センサ40M，E，F，G，Hへ入射させるにおいて、各光センサ40M，E，F，G，Hへの各入射スポット47M，E，F，G，Hの入射精度を改善する。 - 特許庁

To provide a hologram recording device and a hologram recording method in which it can be prevented that light transmitted or reflected by a spatial light modulator and diffracted changes incident quantity to an objective lens holding a following property for a hologram recording medium of a laser beam without providing new driving mechanism, thereby accuracy of recording can be improved, in tracking servo control when data recording is performed for a hologram recording medium.例文帳に追加

ホログラム記録媒体ヘのデータ記録の際に行うトラッキングサーボ制御において、新たな駆動機構を設けず、レーザ光のホログラム記録媒体のトラックヘの追従性を保ったままで、空間光変調器を透過又は反射し、回折した光の対物レンズヘの入射量を変化させないようにすることができ、これにより記録の精度を向上させることができるホログラム記録装置及びホログラム記録方法を提供することにある。 - 特許庁

In retrieval in the optical information recording/reproducing device which reproduces the optical information recording medium recorded by angle multiplex recording, the medium is irradiated with a desired information as signal light, and the desired information is searched from the multiplex recorded information by using intensity of a plurality of diffracted rays having a different emission angle with respect to the medium.例文帳に追加

角度多重で記録された光情報記録媒体を再生する光情報記録再生装置での検索処理において、所望の情報を信号光として媒体に照射し、媒体との出射角度の異なる複数の回折光の強度を用いて多重記録された情報の中から該当情報を探し出すことで解決する。 - 特許庁

In a diffracted optical element composed of a structure in which a first region and second region 6 and 7 each having different temperature dependency in the refractive index with each other are arranged alternatively, the element temperature at which diffraction efficiency for incident light in a specific polarization direction becomes minimal is set within the limits of 25 to 70 degrees C.例文帳に追加

屈折率異方性及び屈折率の温度依存性がそれぞれ互いに異なる第１の領域と第２の領域６，７とが交互に配列された構造を有し、特定の偏光方位の入射光に対する回折効率が極小値をとる素子温度が、摂氏２５度以上摂氏７０度以下の範囲内であることとした。 - 特許庁

The information recording medium 1 having an information recording part 10 wherein a plurality of phase diffraction gratings 20 are disposed with a two-dimensional pattern corresponding to the information to be recorded, is irradiated with linear laser beams emitted from a two-dimensional semiconductor laser array 71, then the diffracted light generated in the information recording part 10 is detected by a CCD array 76.例文帳に追加

記録する情報に応じた２次元パターンで複数の位相回折格子２０が配設された情報記録部１０を有する情報記録媒体１に対して、２次元半導体レーザアレイ７１から出射した直線状のレーザ光を照射し、情報記録部１０で生じた回折光をＣＣＤアレイ７６によって検出する。 - 特許庁

To provide an optical system having a diffraction optical device which can be applied to the optical system for which extremely high image-forming performance is required such as the projection optical system of a projection aligner for manufacturing a semiconductor especially by minimizing influence exerted on image-forming by generated unnecessary diffracted light in the optical system using a diffraction optical device.例文帳に追加

回折光学素子が使われている光学系において、発生する不要回折光が結像に与える影響を最小限にすることができ、従って特に半導体製造用投影露光装置の投影光学系など極めて高い結像性能を要求される光学系に適用することができる回折光学素子を有する光学系を提供する。 - 特許庁

To provide an objective lens which can suppress fluctuation of diffraction efficiency due to a change of a using wavelength to a minimum, in an objective lens for an optical pickup device which collects diffracted light generated by an optical path difference giving structure onto the information recording surface of an optical information recording medium as a spot, and to provide an optical pickup device using such an objective lens.例文帳に追加

光路差付与構造によって生じる回折光を、光情報記録媒体の情報記録面にスポットとして集光する光ピックアップ装置用の対物レンズにおいて、使用波長の変化による回折効率の変動を小さく抑えることができる対物レンズ及びそれを用いた光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁

When a voltage is applied to the electrodes 28a and 28b, sample components 58 are drawn to the electrodes by dielectrophoresis along a line 54 of electric force acting between the electrodes 28a and 28b, they enter the electric field intensification area 52, a refractive index changes, and the sample component is detected by change of intensity of zero-order diffracted light 50b.例文帳に追加

電極２８ａ，２８ｂに電圧を印加すると、電極２８ａと２８ｂの間に働く電気力線５４に沿って誘電泳動により試料成分５８が電極に引き寄せられて電場増強領域５２に入ってきて屈折率が変化し、０次回折光５０ｂの強度が変化することによって試料成分が検出される。 - 特許庁

Objective lens 16 has at least two diffraction surfaces, and has image-forming performance of substantially diffraction limit by the diffracted light beams of the same order with respect to two optical disks 20, having different kinds of thicknesses for cover glasses and two different wavelengths respectively corresponding to the disks, so that the aberration can be sufficiently compensated with respect to the different wavelengths and different kinds of thicknesses for the base plates.例文帳に追加

対物レンズ１６は、少なくとも２面の回折面を有し、カバーガラス厚の異なる２つの光ディスク２０と、それぞれに対応する２つの異なる波長に対し、同じ次数の回折光によって、ほぼ回折限界の結像性能を有するので、異なる波長と異なる基板厚に対し収差を良好に補正できる。 - 特許庁

The master disk for the optical recording medium is manufacturing by exposing and developing a photoresist 11 on a substrate 11 to form rugged patterns 12 and 13, regulating the photoresist 11 to a glass transition point or above by performing post baking and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the rugged patterns 13 of the photoresist 11 with the laser beam in the post baking process step.例文帳に追加

基板１０上のフォトレジスト１１を露光現像して凹凸パターン１２，１３を形成し、ポストベークを行ってフォトレジスト１１をガラス転移点以上とし、ポストベーク工程において、フォトレジスト１１の凹凸パターン１３にレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。 - 特許庁

To provide an optical recording apparatus which multiplexes the radiation angles of diffracted beams through the use of a one-dimensional diffractive light modulator at the time of recording data on a holographic recording medium or the like, so that the occurrence of errors associated with a high addressing rate and spatial location for data recording is prevented, thus making a separate correction circuit and an additional device for compensating for errors unnecessary.例文帳に追加

ホログラフィック記録媒質などへのデータ記録の際、１次元回折型光変調器により回折ビームの照射角を多重化して、高速アドレッシングタイムとデータ記録の空間的位置に対するエラー発生を防止することにより、エラーを補償するための別途の補正回路および装置などを不要にする光記録装置を提供する。 - 特許庁

By using this sheet type optical element with a transmission type polarizing hologram 21 and a nearly 1/4 wavelength plate 22 integrally laminated, linear polarization luminous flux 23, 24 from two laser beam sources having different wavelengths are diffracted and transmitted, thereby the optical recording medium is irradiated while aligning optical axes and the reflected return light is transmitted without diffraction and can be guided to the photodetector.例文帳に追加

透過型偏光ホログラム２１と略１／４波長板２２とが積層一体化されている本願発明の平板型光学素子を用いると、波長が異なる２つのレーザー光源からの直線偏光光束２３、２４を回折透過し、光軸を一致させて光記録媒体に照射し、反射された戻り光を回折させずに透過させて受光素子に導びくことができる。 - 特許庁

To provide an unevenness inspection device, an unevenness inspection method and an unevenness determination method capable of precisely discriminating a pattern change production place from the contrast caused by the difference in the quantity of diffracted light in a pattern having periodicity, especially a substrate like an LCD manufacturing photomask, and also performing an unevenness inspection by simply leading out the change production period thereof.例文帳に追加

周期性のあるパターン、特に、ＬＣＤ製造用フォトマスクのような基板において、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによって、むら検査を実施することができるむら検査装置、むら検査方法およびむら判定方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In a particle diameter measuring device using a laser diffraction method, spatial resolution of interference fringe measurement is enhanced by using a CCD element 6a as a detector for acquiring an interference fringe, and an interference fringe in a dynamic range of the CCD element 6a can be measured by providing a 0-order diffracted light shielding plate 5 between a Fourier transform lens 3 and the CCD element 6a.例文帳に追加

レーザ回折法を用いた粒子径測定装置において、干渉縞を得るためのディテクタとしてＣＣＤ素子６ａを使用することにより、干渉縞計測の空間分解能を高め、かつ、フーリエ変換レンズ３と、ＣＣＤ素子６ａとの間に０次回折光遮蔽板５を設けることにより、ＣＣＤ素子６ａのダイナミックレンジ内での干渉縞の計測を可能とする。 - 特許庁

To provide a high-reliability and low-cost optical modulating element driving system which can obtain a desired reflection direction and preferably diffracted light, perform analog control (or modulation) and line driving, improve the stability of luminance and signal synchronism against internal and external factors (temperature, voltage, and deterioration with time), and take safety measures in case of an abnormal state.例文帳に追加

所望の反射方向又は回折光が得られ、アナログ制御（又は変調）及びライン駆動が可能であり、輝度や信号同期の安定度を内外要因（温度、電圧、経時劣化）に対して向上させ、また異常事態が発生した場合の安全措置も施せる高信頼性、低コストの光変調素子駆動システム、及びこれを用いる投映システムを提供すること。 - 特許庁

Since the absolute value of the longitudinal spherical aberration SA1 of diffracted light whose diffraction efficiency is the highest out of luminous flux emitted from a first semiconductor laser 111 and passing through the peripheral area of the objective 20 is restrained to be lower than 0.005 mm, the information is appropriately recorded and/or reproduced on/from a DVD as shown by figure 2 (a).例文帳に追加

第１の半導体レーザ１１１から出射され、対物レンズ２０の周辺領域を通過した光束のうち最も回折効率が高い回折光の縦球面収差ＳＡ１の絶対値が、０．００５ｍｍを下回るように抑えられるので、図２（ａ）に示すように、ＤＶＤに対して情報の記録及び／又は再生を適切に行うことができる。 - 特許庁

The master disk for the optical recording medium is manufactured by exposing and developing the photoresist on the substrate to form the first rugged patterns, subjecting the substrate to dry etching using the photoresist as a mask to form the second rugged patterns, removing the photoresist remaining on the substrate and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the second rugged patterns of the substrate with the laser beam in the dry etching process step.例文帳に追加

また、基板上のフォトレジストを露光現像して第１の凹凸パターンを形成し、フォトレジストをマスクとして基板に対してドライエッチングを行って第２の凹凸パターンを形成して、基板上に残ったフォトレジストを除去し、ドライエッチング工程において、基板の第２の凹凸パターンにレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。 - 特許庁

The diffraction grating display body 30 is provided with a diffraction grating 2" having a characteristic of diffracting diffracted light in a specified linear direction obliquely to a display surface in an area corresponding to each pixel at a position obtained by widening an interval between pixels of a two-dimensional set of fine pixels representing a meaningful pattern of a character etc., to be displayed by a specified distance in the specified linear direction.例文帳に追加

表示すべき文字等の意味のあるパターンを微細な画素の２次元的集合で表したとき、その２次元的集合の画素間の間隔を特定の１次元方向に所定距離だけ広げた位置の各画素７に対応領域に、その１次元方向であって表示面に対して斜めの方向に回折光を回折する特性の回折格子２”が設けられてなる回折格子表示体３０。 - 特許庁

To cope with recording on a DVD-R disk while detecting a servo signal by generating prescribed three beams for both DVD and CD, without generating unnecessary diffracted light, even when an oscillation wavelength changes due to a temperature change in a semiconductor laser section in an optical pickup device configured to have a diffraction grating for generating three beams arranged in a common optical path for optical beams of DVD and CD.例文帳に追加

ＤＶＤとＣＤの光ビームの共通光路に３ビーム生成用回折格子を配置した構成をとる光ピックアップ装置において、半導体レーザ部の温度が変化して発振波長が変わった場合でも、不要な回折光を発生させずにＤＶＤとＣＤともに所定の３ビームを生成してサーボ信号を検出可能とするとともに、ＤＶＤ−Ｒディスクなどの記録に対応できるようにする。 - 特許庁

The position sensor includes a radiation source for irradiating a radiation beam, a first lattice for diffracting the radiation beam in a first diffraction direction so as to diffract to at least one primary irradiation beam, and a second lattice, disposed in a light path of the primary diffraction beam, for diffracting the primary diffraction beam diffracted by the first lattice in a second diffraction direction actually vertical to the first diffraction direction.例文帳に追加

位置センサは、放射ビームを照射するように構成された放射源と、放射ビームを第１の回折方向に少なくとも１つの１次放射ビームに回折するように構成された第１の格子と、１次回折ビームの光路内に配置され、第１の格子で回折された１次回折ビームを、第１の回折方向に実質的に垂直な第２の回折方向に回折するように構成された第２の格子とを含む。 - 特許庁