「electron current」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a structure allowing the formation of a thin-film transistor on a support board for imparting a current-limiter to an electron source array comprising fine particles of an electron emission material and to provide a cold-cathode light source and a thin image formation device capable of X-Y matrix drive.例文帳に追加

電子放出材料の微粒子からなる電子源アレイに電流制限機構を付与するために支持基板上の薄膜トランジスタの形成を可能にした構成を提供すると共に、ＸＹマトリクス駆動可能な冷陰極光源及び薄型画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the aging step, a current density of electrons emitted from each electron emission element, and drive time for driving each electron emission device are adjusted such that the lower initial discharge gas rate in degassing given to the phosphor when irradiated with electrons having the same current density immediately before the aging step, the smaller total amount of electrons with which the phosphor is to be irradiated.例文帳に追加

エージング工程では、エージング工程の直前に同じ大きさの電流密度で電子を照射した場合に得られる脱ガスの初期の放出ガスレートが小さい蛍光体ほど、照射される電子の総量が少なくなるように、各々の電子放出素子から放出される電子の電流密度と、各々の電子放出素子を駆動する駆動時間と、を調整する。 - 特許庁

In this length measuring method by the scanning electron microscope, the scanning electron microscope is auto-focused with a measuring point, using an output from a sensor for detecting a distance from an objective lens to the sample, and a change of a sample signal emitted from the sample is monitored while changing an excitation current of the objective lens, to detect the excitation current ΔIobj of the objective lens corresponding to a focus shift.例文帳に追加

本発明の走査形電子顕微鏡による測長方法は、対物レンズから試料までの距離を検出するセンサの出力を用いて走査形電子顕微鏡を測定ポイントにオートフォーカスさせ、対物レンズの励磁電流を変化させながら試料から放出された試料信号の変化をモニターしてフォーカスずれに相当する対物レンズの励磁電流ΔIobjを検出する。 - 特許庁

This ion implanting device includes an ion source 100 for generating an ion beam 50, an electron beam source Gn for emitting an electron beam 138 scanned in the Y direction to generate plasma 12, a power source 114 for the electron beam source, an ion beam monitor 80 for measuring the Y direction beam current density distribution of the ion beam 50 in the vicinity of the implanting position, and a control device 90.例文帳に追加

このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、Ｙ方向に走査される電子ビーム１３８を放出してプラズマ１２４を生成する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。 - 特許庁

The ion beam machining system, where the focused ion beam 2 is radiated onto the semiconductor device 9 to be machined in its predetermined region, while preventing charge-up with the electron shower 19 supplied from an electron shower gun 20 comprises a controllable power supply 21 for applying a bias to the sample stage 10 and an ammeter 22 for detecting the sample current, without being affected by the electron shower 19.例文帳に追加

集束されたイオンビーム２を半導体装置９上に照射し、電子シャワー銃２０から供給される電子シャワー１９によりチャージアップを防止しつつ、所定の領域を加工するイオンビーム加工装置において、調整電源２１により試料ステージ１０にバイアス印加を行い、電子シャワー１９による影響を受けずに電流計２２で試料電流を検出する。 - 特許庁

Since a conductor or a semiconductor coated with an insulating film is used as the current detecting component 11a, the dose of the electron beam outputted from the EB tube 1 can be measured precisely, without being affected by a suspended electric charge near the current detecting component 11a.例文帳に追加

電流検出部１１ａとして絶縁被膜がコーティングされた導体又は半導体を用いているので、電流検出部１１ａ近傍の浮遊電荷に影響されることなく、ＥＢ管１から出力される電子線量を正確に測定することができる。 - 特許庁

Electron beams are sequential irradiated on a plurality of preset small region Q, ranging over the entire wafer sample, and when the electronic beams are irradiated in each small region Q, an absorbing current flowing in a wafer sample 4 is detected by a current amplifier 16 to amplify.例文帳に追加

ウエハ試料上全体に亘り予め設定された複数の小領域Ｑに順次電子ビームを照射し、各小領域Ｑの電子ビーム照射時、ウエハ試料４に流れる吸収電流を電流増幅器１６にて検出して増幅する。 - 特許庁

To reduce affection of noise overlaying a long transmitting path when measuring a feeble beam current in high precision in an electron beam drawing apparatus, and to provide technique to efficiently measure the feeble beam current in high precision in a multiple beam drawing apparatus.例文帳に追加

電子ビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に計測する際、長い伝送経路に重畳するノイズの影響を低減し、また、マルチビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に効率よく計測する技術を提供する。 - 特許庁

In ion beam processing using ion beams 3 for processing an optical element material 5, a current density measuring means 6 having an opening member formed of an insulating material is first irradiated with the ion beams 3 and electron beams 8 to measure the current density distribution of the ion beams 3.例文帳に追加

イオンビーム３によって光学素子材料５を加工するイオンビーム加工において、まず、絶縁性材料からなる開口部材を有する電流密度測定手段６に、イオンビーム３と電子ビーム８を照射してイオンビーム３の電流密度分布を測定する。 - 特許庁

A wiring structure is formed, a background (temperature, current density) is solved by a finite element method, and a diffusion analysis is carried out by the use of an electron wind power proportional to a current density and diffusion coefficients (lattice, grain boundary, interface, surface) related to crystal structures, to obtain void density.例文帳に追加

配線の構造を作成し、背景場（温度、電流密度）を有限要素法で解き、電流密度に比例した電子風力と各結晶構造に関わる拡散係数（格子、粒界、界面、表面）を用いて拡散解析を行い、空孔濃度を求める。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a graphite nanofiber, which can form graphite nanofibers in vertical orientation with high density and uniformly; to provide a graphite nanofiber electron source with a high output current density; and to provide a field emission display apparatus which has high current density, high brightness and large capacity.例文帳に追加

垂直配向のグラファイトナノファイバを高密度かつ均一に形成可能なグラファイトナノファイバの製造方法、高出力電流密度のグラファイトナノファイバ電子源、高電流密度で高輝、大容量を有するフィールドエミッションディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

The organic electron function material is made of a kind of tris-(arylamino)benzene expressed by the formula (1), of which, deviation of 50 times of peak current of a cyclic curve at a sweeping speed of 20 mV/sec. at cyclic voltammetry is within ±10% of the mean value of a peak current.例文帳に追加

下記一般式（Ｉ）で表されるトリス（アリールアミノ）ベンゼン類からなり、サイクリックボルタングラムにおいて、掃引速度２０ｍＶ／秒での５０回のサイクリック曲線のピーク電流の偏差がピーク電流の平均値の±１０％以内である有機電子機能材料。 - 特許庁

Although it is difficult to balance prevention of the fragmentation of the cluster with a practical beam current by ionization by a conventional electron impact method, the practical beam current can be provided while preventing the fragmentation of the cluster by this application.例文帳に追加

従来の電子衝撃法によるイオン化ではクラスターのフラグメント化防止と実用的なビーム電流を両立することは困難であるが、本発明を用いることによって、クラスターのフラグメント化を防止しながら、実用的なビーム電流を得ることができる。 - 特許庁

To reduce influence of noise superimposed on a long transmission path, when highly precisely measuring a feeble beam current, in an electron beam drawing device, and to provide technology to highly precisely and efficiently measure the feeble current in a multiple beam drawing apparatus.例文帳に追加

電子ビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に計測する際、長い伝送経路に重畳するノイズの影響を低減し、また、マルチビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に効率よく計測する技術を提供する。 - 特許庁

The electron type breaker 1 includes a power supply line 2, a contact part 31, an electric current detecting part 4, a trip part 32, an abnormality judging part 33, a first energy supply mechanism 5, and a second energy supply mechanism 6.例文帳に追加

電子式ブレーカ１は、電源ライン２と、接点部３１と、電流検出部４と、トリップ部３２と、異常判断部３３と、第１のエネルギ供給機構５と、第２のエネルギ供給機構６と、を備える。 - 特許庁

The fluorescent substance emits a green light when excited by an electron beam having an acceleration voltage of ≤15 kV and a current density of ≥1 μA/cm^2, and is suitable for use as a green fluorescent substance for the FED.例文帳に追加

この蛍光体は、加速電圧が１５ｋＶ以下でかつ電流密度が１μＡ／ｃｍ^２以上の電子線で励起されて緑色に発光し、ＦＥＤ用緑色蛍光体として適する。 - 特許庁

The electron beams are radiated to an interlayer insulating film F on the substrate W in such a state that the values of the distance D, the moving speed and the current are adjusted to the values corresponding to each substrate W.例文帳に追加

このように距離Ｄ、移動速度および電流値が基板Ｗに対応して調整された状態で電子ビーム照射が基板Ｗ上の層間絶縁膜Ｆに対して行われる。 - 特許庁

The reason why large current density is realized is that the p doped region and the p+ doped region work as a material of negative electron affinity when they contact the metal of low work function.例文帳に追加

高電流密度が可能となるのは、ｐドーピング領域およびｐ＋ドーピングされた領域が、低い仕事関数の金属に接したときに、負の電子親和力の材料として動作するからである。 - 特許庁

As a result, free Ba (source of thermoelectron radiation) is generated according to the diffusion of reductive element (for example, Zr) from the base body 1 to the electron emitting substance layer 2, and a stable cathode current is obtained.例文帳に追加

この結果、基体１から電子放射物質層２への還元性元素（例えば、Ｚｒ）の拡散に伴う遊離Ｂａ（熱電子の放射源）の生成が維持され、安定したカソード電流が得られる。 - 特許庁

A gain G_1 and an offset F_1 at which the backscattered electron signal intensity at arbitrary acceleration voltage V_1 and emission current I_1 is set equal to that at V_0 and I_0 are obtained and corrected.例文帳に追加

任意の加速電圧Ｖ_１と照射電流値Ｉ_１のときの反射電子信号強度がＶ_０，Ｉ_０のときの反射電子信号強度に等しくなる増幅率Ｇ_１とオフセットＦ_１を求め補正する。 - 特許庁

In the case of deflection of upper or lower side of the screen, controlling a current flowing through the correction coils L1, L2 can adjust a deflection amount of electron beams by the correction coils L1, L2.例文帳に追加

画面の上側または下側に偏向する際に補正コイルＬ１，Ｌ２に流れる電流を制御することにより、補正コイルＬ１，Ｌ２による電子ビームの偏向量を調整することができる。 - 特許庁

The detection meter also has detection means 3 which: lights the filament by applying electricity thereto through the filament power source so as to allow the filament to emit a thermal electron; and measures emission current between the filament and the grid.例文帳に追加

フィラメント用の電源によりフィラメントに通電してこのフィラメントを点灯させて熱電子を放出させ、フィラメントとグリッドとの間でのエミッション電流を測定する検出手段３を更に備える。 - 特許庁

To provide, for use in an electrically detected electron spin resonance process, a sample holder structure that enables current noise attributable to contact resistance or the like to be reduced and a manufacturing method for the same.例文帳に追加

本発明は、電気検出電子スピン共鳴法において、接触抵抗等に由来する電流ノイズを低減可能とする試料ホルダの構造、及びその製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a structure of a sample holder for reducing a current noise derived from an electromagnetic induction, in an electrically-detecting electron spin resonance method, and to provide a manufacturing method for the sample holder.例文帳に追加

本発明は、電気検出電子スピン共鳴法において、電磁誘導等に由来する電流ノイズを低減可能とする試料ホルダの構造、及びその製造方法を提供するものである。 - 特許庁

At the same time, reflected electrons 7 are generated from the wafer 6 and the resist, these reflected electrons 7 is made incident on an electrode plate 8a, and the current value I_r thereof is detected by a reflected electron detector 8.例文帳に追加

それと共に、ウエハ６とレジストからは、反射電子７が発生するが、この反射電子７が電極板８ａに入射し、その電流値Ｉ_ｒが反射電子検出器８で検出される。 - 特許庁

By restraining arcing, the drive voltage to an anode electrode is increased in comparison with the conventional voltage and, accordingly, a high electron emissive current can be obtained, and this leads to an FED of high luminance being obtained.例文帳に追加

アーキングの抑制によりアノード電極に対して駆動電圧を従来に比べて高められ、従って高い電子放出電流を得て、結果的に高い輝度のＦＥＤを得られるに至る。 - 特許庁

To provide an electron beam device capable of evaluating a sample with high throughput by a large beam current at an operating point of a large opening angle by using an object lens having a small aberration.例文帳に追加

、収差の小さい対物レンズを用いて、大きい開口角の動作点で大きなビーム電流により高スループットで試料の評価を行うことが可能な電子線装置を提供すること。 - 特許庁

Faults or impurities existing at the region near the surface of a semiconductor can be evaluated with high sensitivity, by conducting current detection electron spin resonance measurement using this p-n junction diode for evaluation.例文帳に追加

この評価用ｐｎ接合ダイオ−ドを用いて電流検知電子スピン共鳴測定を行うことによって、半導体表面付近に存在する欠陥や不純物の高感度な評価が可能になる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for inspection, using an electron beam whereby hole-like objects such as CHs formed in the manufacturing process of a semiconductor device at a high accuracy can be inspected, using an absorbed current.例文帳に追加

吸収電流を用い、高い精度で半導体デバイス製造過程で形成されたＣＨなどのホール状の検査を行うことができる電子ビーム検査方法および装置を実現する。 - 特許庁

It also corrects the substrate current value while considering an influence of electric charge distribution produced adjacent to the thin film 34 by the irradiation of the electron beam or the shape of the substrate surface adjacent thereto.例文帳に追加

膜厚測定装置１８は、電子ビームの照射により薄膜３４近傍に発生した電荷分布の影響、または薄膜３４近傍の基板表面形状を考慮して、基板電流値を補正する。 - 特許庁

By adjusting an exciting current of the CM 2, an incident angle α at which the hollow conical electron beam is incident on a sample 3 can be set to a desired angle.例文帳に追加

このＣＭ２は、励磁電流を調整することによって空洞円錐状の電子ビームが試料３に入射するときの入射角αを所望の角度に設定することができるようになされている。 - 特許庁

Thereby, it is possible to reach the electric force lines throughout a wide range of the surface of the cold cathode electron emission source 25, and field emission current is increased, and high-output microwaves can be generated.例文帳に追加

これにより、冷陰極電子放出源２５の表面の広い範囲に亘って電気力線を到達させることが可能となり、電界放出電流が増加し、高出力のマイクロ波を発生できる。 - 特許庁

To provide an EBAC (Electron Beam Absorbed Current) analyzing method which prevents an EBAC reaction from a front-stage net located at the front stage to an analysis subject net with a high analysis hit rate, and to provide an apparatus applicable to the analyzing method.例文帳に追加

解析対象ネットに対して前段に位置する前段ネットからのＥＢＡＣ反応を防止した解析ヒット率の高いＥＢＡＣ解析方法及びそれに好適な装置を提供する - 特許庁

To provide a normally-off type nitride semiconductor device with a small gate leakage current that is promising as a high-output high-frequency device semiconductor and is for practical use of a high electron mobility transistor (HEMT).例文帳に追加

高出力の高周波デバイス半導体として有望であり、高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）の実用化のため、ゲートリーク電流の少ないノーマリオフ型の窒化物半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-sensitized solar cell equipped with a semiconductor electrode with improved electron conductivity and with excellent photoelectric conversion efficiency, especially, with short-circuit current improved.例文帳に追加

電子伝導性を向上させた半導体電極を有し、光電変換効率の優れた色素増感型太陽電池を提供し、特に短絡電流が改善された色素増感型太陽電池を提供する。 - 特許庁

The corona discharge device 32 is constituted so as to apply a high voltgage current of high frequency to one set of electrodes 32a to excite electron energy to generate corona discharge toward the substrate 17.例文帳に追加

コロナ放電器３２は、一組の電極３２ａに高周波の高電圧電流を印加することで電子エネルギーを励起して、コロナ放電を発生するものであり、基板１７に向けて放電される。 - 特許庁

Magnetic field is made generated inside the vacuum vessel 1vc by supplying the deflection coils 1ci, 1CI with periodically fluctuating current, and electron flow is deflected toward the direction vertical to a tube axis Z.例文帳に追加

偏向コイル１ｃｉ，１ＣＩに、周期的に変動する電流を供給することによって、真空容器１ｖｃ内部に磁界を発生させ、管軸Ｚに垂直な方向に電子流を偏向する。 - 特許庁

To provide an electron gun for vapor deposition that can obtain an electric power amount necessary for evaporation of a vapor deposition material by outputting a high emission current by a lower acceleration voltage.例文帳に追加

より低い加速電圧により高いエミッション電流を出力することによって、蒸着材料の蒸発に必要な電力量を得ることができる蒸着用電子銃を実現する。 - 特許庁

To provide a short-arc type discharge lamp with high reliability, of which the inner lead rod and the current collecting disc can be connected tightly by a welding method that uses laser beam irradiation or electron beam irradiation.例文帳に追加

レーザービーム照射又は電子ビーム照射による溶接法によって、内部リード棒と集電円板とを強固に接合でき、信頼性の高いショートアーク型放電ランプを提供すること。 - 特許庁

The accelration potential of the electron current is locally controlled in linear direction, improving irradiation accuracy at a high speed, geometric-optically and dynamically by uniforming thermal stress.例文帳に追加

電子流の加速電位を線状方向に局所的に制御することにより、幾何光学的に、且つ、熱応力の一様化により力学的に照射精度を高速度に向上させることができる。 - 特許庁

To enhance resolution in an entire beam current region by preventing an electron emitted from a cathode from colliding with a cathode structure, in a cathode ray tube device using a field emission type cathode.例文帳に追加

電界放出型陰極を用いた陰極線管装置において、陰極から放出された電子が陰極構体に射突するのを防止して、全ビーム電流域において解像度を向上する。 - 特許庁

Test signal adding circuits 55L and 55R add current detection signals into input signals to detect the relationship between the input signals and the beam currents in electron guns 31L and 31R.例文帳に追加

テスト信号追加回路５５Ｌ．５５Ｒは、入力信号と電子銃３１Ｌ．３１Ｒにおけるビーム電流との関係を検出するための電流検出用信号を入力信号中に追加する。 - 特許庁

To provide a high electron mobility transistor in a so-called normally-off operation wherein no current flows between the source electrode S and the drain electrode D when no voltage is applied to the gate electrode G.例文帳に追加

ゲート電極Ｇに電圧を加えていない状態では、ソース電極Ｓとドレイン電極Ｄ間に電流が流れないいわゆるノーマリーオフの動作する高電子移動度トランジスタの実現を目的とする。 - 特許庁

Electrons optically released from negative ion in the plasma 10 by irradiating are collected by the probe 3, and a density of the negative ion is measured by measuring the collected optically released electron current.例文帳に追加

照射によってプラズマ１０中の負イオンから光離脱した電子を、プローブ３によって捕集し、捕集した光離脱電子電流を計測することによって、負イオンの密度を計測する。 - 特許庁

Additionally, the distance between the target 28 and the lens center is reduced so as to decrease the focusing diameter, thus preventing a decrease in the utilization rate of the electron beams and maintaining the target current.例文帳に追加

しかも、ターゲット２８とレンズ中心との距離を短くすることで集束径の縮小化を図るため、電子ビーム利用率の低下を防止することができ、ターゲット電流を維持することが可能になる。 - 特許庁