「exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(121ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for forming the pattern on a dyed fabric is characterized by including water in the dyed fabric, then bringing the dyed fabric into contact with the ozone gas in a contact bath in the absence of fluid water, then decoloring only the surface layer of the dyed fabric, subsequently shaving off the surface layer of the decolored fabric and thereby exposing deep-color parts in the interior of the fabric.例文帳に追加

染色布帛への模様柄形成方法であって、染色布帛に水分を含有させた後、流動水が存在しない接触槽内でオゾンガスと接触させて、前記染色布帛の表面層のみを脱色した後に、脱色された布帛の表面層を削り取ることによって布帛内部の濃色部分を露出させることを特徴とする模様柄形成方法である。 - 特許庁

This washing device has an anode member 11 which consists of a porous pliable material containing carbon, insulating members 12a and 12b which are mounted through the anode member 11 and cathode members 13a and 13b which are mounted at the insulating members in the state of insulating the members from the anode member 11 and in the state of exposing at least a part thereof to the outside and mainly consist of magnesium.例文帳に追加

炭素を含有する多孔質な柔軟体からなる陽極部材１１と、陽極部材１１を貫通して取り付けられた絶縁部材１２ａ，１２ｂと、陽極部材１１と絶縁された状態で且つ少なくとも一部が外部に露出する状態で絶縁部材に取り付けられた主にマグネシウムからなる陰極部材１３ａ，１３ｂとを有する。 - 特許庁

A method for manufacturing an anti-glare film including a rugged fine pattern comprising discontinuous dots formed on a flexible support comprises at least: a step of supplying photosensitive image forming material onto the flexible support to form a photosensitive layer; and a step of exposing and developing the photosensitive layer with an active light beam to form the rugged fine pattern comprising the discontinuous dots.例文帳に追加

可撓性支持体上に、感光性画像形成材料を供給して感光層を形成する工程と、 前記感光層を活性光線で露光、現像して、不連続なドットからなる凹凸微細パターンを形成する工程と、 を少なくとも有することを特徴とする、可撓性支持体上に不連続なドットからなる凹凸微細パターンが形成されている防眩フィルムの製造方法。 - 特許庁

This method for manufacturing a semiconductor wafer is provided with a process for growing epitaxially an SiGe layer on a surface of a first silicon single crystal wafer, a process for coupling a surface of the SiGe layer with a surface of a second wafer via an oxide film, and a process for thinning the first silicon single crystal wafer coupled with the second wafer and exposing the Si layer including lattice strain.例文帳に追加

第１のシリコン単結晶ウェーハの表面にＳｉＧｅ層をエピタキシャル成長する工程と、該ＳｉＧｅ層の表面と第２のウェーハの表面とを酸化膜を介して結合する工程と、該第２のウェーハと結合された該第１のシリコン単結晶ウェーハを薄膜化して格子歪みを内在するＳｉ層を露出させる工程と、を有するようにした。 - 特許庁

A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

（ア）活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁

A part of a focus lens unit 201 (two projections for adjusting eccentricity 112a and 112b of an AF cover 110) is exposed to the outside of the lens barrel in such a state that the lens barrel is assembled, and the entire focus lens unit 201 is adjusted in terms of eccentricity from the outside through the exposing part while confirming the optical performance all over the optical systems of four groups.例文帳に追加

レンズ鏡筒を組み立てた状態において、フォーカスレンズユニット２０１の一部（ＡＦカバー１１０の２つの偏芯調整用突起１１２ａ，１１２ｂ）がレンズ鏡筒の外部に露出し、４群全ての光学系を通した状態で光学性能を確認しながら、その露出部を介してフォーカスレンズユニット２０１全体を外部から偏芯調整するようにする。 - 特許庁

To make it possible to transmit a large amount of image information with a high speed without exposing a high voltage electrode part outside by connecting a write device with a display medium by setting a mark part of the display medium to a ferromagnetic ring of the write device and thereby facilitating position adjustment and attaching/detaching for connecting the both.例文帳に追加

表示媒体と、これに画像を書き込む書込装置を別体とする場合に、両者の接続の位置合わせが容易となり、表示媒体を書込装置に対して容易に脱着でき、高圧電極部が外部に露出しない構造にでき、大容量の画像情報を高速に転送でき、かつ大型の装置を薄型の表示媒体に搭載する必要がないようにする。 - 特許庁

This method for processing the chopped vegetables comprises washing vegetable foodstuff in flowing water followed by dehydrating, cutting the foodstuff to necessary shape and size to bring to chopped vegetables, imparting the vegetables with strong reduction through exposing for ≥3 min in an anionic atmosphere with anion density of at least ≥300,000/cc in an insulated section, and sealing the vegetables in an impermeable packaging bag.例文帳に追加

野菜食材を流水洗浄のうえ脱水し、所要の形状及び大きさに切断して刻み野菜となしたうえ、絶縁区画内でそのマイナスイオン密度が少なくとも３０万個／ｃｃ以上のマイナスイオン雰囲気中に３分間以上晒して強い還元作用を付与せしめ、且不透水性包装袋に封入させる、鮮度に優れた刻み野菜及びその加工方法の構成。 - 特許庁

The semi-dry adhesion tiling method comprises installing mechanical fixing members by anchors fixed to the external wall surface of the building at predetermined spaces, and then beading an organic adhesive parallel at predetermined spaces to bond the tiles to the mechanical fixing members with the organic adhesive, thus tiling without exposing the mechanical fixing members on the tile surface side.例文帳に追加

半乾式接着タイル張り工法において、建物外壁表面に所定間隔で固定されたアンカーにより機械的固定部材を設置した後、所定間隔で平行に有機系接着剤をビード打ちし、該有機系接着剤によりタイルと機械的固定部材を接着し、前記機械的固定部材がタイル表面側に露出することなくタイルを張り付けることを特徴とする。 - 特許庁

This substrate for the semiconductor package includes: a substrate body; a connection pad group including a plurality of connection pads arranged in parallel at a determined interval on a surface of the substrate body; dummy connection pads arranged on both sides of the connection pad group, respectively; and solder resist patterns covering the substrate body and having openings exposing the dummy connection pads and the connection pad group.例文帳に追加

半導体パッケージ用基板は、基板本体、前記基板本体の表面に指定された間隔で並列配置された複数個の接続パッドを含む接続パッドグループ、前記接続パッドグループの両側にそれぞれ配置されたダミー接続パッド、および、前記基板ボディーを覆って、前記ダミー接続パッドと前記接続パッドグループとを露出させる開口を有するソルダレジストパターンを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the master disk for manufacturing the optical information recording medium has a main constitution such as featured by including processes: to form a resist film on the master disk; to expose the resist film; to develop the resist film; and to smooth micro unevenness of a resist surface by exposing the developed resist film to plasma.例文帳に追加

光情報記録媒体製造用原盤の製造方法であって、原盤上にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜を露光する工程と、レジスト膜を現像する工程と、現像されたレジスト膜をプラズマに曝してレジスト表面の微小凹凸を平滑化する工程とを有する事を特徴とする光情報記録媒体製造用原盤の製造方法を主たる構成にする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter for an image sensor includes steps of: coating a substrate directly or via another layer with a dye-containing photosetting composition and drying to form a coating film; exposing the coating film to light; developing the exposed coating film with an alkali; and irradiating the alkali-developed coating film with UV rays while heating at 20 to 50°C.例文帳に追加

イメージセンサ用カラーフィルタの製造方法が、染料を含む光硬化性組成物を基板上に直接または他の層を介して塗布し、その後乾燥して塗布膜を形成する工程と、前記塗布膜を露光する工程と、露光された塗布膜をアルカリ現像する工程と、アルカリ現像された塗布膜に２０〜５０℃で加熱しながら紫外線を照射する工程と、を含んでいる。 - 特許庁

The insulating layer 5 is selectively prehardened in the surface hardening exposure process only on the surface (top end face 6) of the segments subjected to surface drying and exposing by I rays and the segments not exposed by the I rays are selectively fluidized and inclined by having roundness while the flatness of the top end face 6 is maintained in the heating surfaces and finally the entire part is hardened.例文帳に追加

この絶縁層５では、表面硬化露光プロセスにおいて、Ｉ線により表面乾燥露光された部分の表面（上端面６）のみが選択的にプレ硬化されると共に、加熱プロセスにおいて、上端面６の平坦性が維持されたまま、Ｉ線により露光されなかった部分が選択的に流動して丸みを帯びて傾斜したのち、最終的に全体が硬化する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus where toner is surely prevented from intruding into an exposure unit in the case of writing image information on a photoreceptor drum by exposure, and the image information is accurately written on the photoreceptor drum by the exposure by surely preventing soiling by the toner on the optical path of exposing light, and also which is made compact in a horizontal direction.例文帳に追加

画像情報を露光により感光体ドラム上に書き込む際に露光ユニットへのトナーの侵入を確実に防止し、かつ露光される光の光路上でのトナーによる汚染を確実に防止して画像情報を露光により感光体ドラム上に正確に書き込むことができるとともに、水平方向へのコンパクト化を図り得ることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor for the photoelectric conversion material having a semiconductor layer containing at least the semiconductor on the substrate, under the atmospheric pressure or under a pressure in the neighborhood of the atmospheric pressure, the reacting gas for forming the semiconductor is made in a plasma condition, and by exposing the substrate to the reacting gas in the plasma condition, the semiconductor layer has been formed.例文帳に追加

基材上に少なくとも半導体を含有する半導体層を有する光電変換材料用半導体において、大気圧または大気圧近傍の圧力下、半導体を形成するための反応性ガスをプラズマ状態とし、該基材を該プラズマ状態の反応性ガスに晒すことにより該半導体層が形成されていることを特徴とする光電変換材料用半導体。 - 特許庁

The method for printing the image on a substrate by improving printing quality, water and smear fastness, and optical density comprises steps of preparing the composition, jetting the ink composition from an ink-jet pen on the substrate and exposing the ink ink-jetted on the substrate to radiation to exhibit the decrease of pH of the ink-jetted ink followed by the sedimentation of the colorant.例文帳に追加

また印刷品質、水及びスミア堅牢性、並びに光学濃度を改善して、基体上に画像を印刷する方法は、当該組成物を調合し、当該インク組成物をインクジェットペンから基体上に噴射し、基体上のインク噴射されたインクを放射線に曝して、インクジェットインク組成物のｐＨの低下、続いて着色剤の析出を示すステップから成ることができる。 - 特許庁

The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.例文帳に追加

透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁

A catalyst that captures oxygen during the deoxygenation reaction of the GO target captures oxygen during the deoxygenation reaction of the GO target by exposing the GO target to light from a lithographic light source configured to pattern a thin film of graphene oxide having a wavelength between 200-400 nanometers by using the catalyst comprising one or more of nickel, copper, silicon, and magnesium.例文帳に追加

ＧＯ標的物の脱酸素反応中に酸素を捕捉する触媒が、ニッケル、銅、ケイ素およびマグネシウムの１種または複数である触媒を用いて、ＧＯ標的物を、２００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長を有するグラフェン酸化物の薄膜をパターニングするように配置されたリソグラフィー光源からの光に暴露して、ＧＯ標的物の脱酸素反応中に酸素を捕捉する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor capable of stably obtaining a clear image with high density, being free from causing the image unevenness attributable to interference fringes, at the time of repeatedly forming the digital image by exposing coherent light such as razor beams, and free from generating the deterioration of the electrophotographic photoreceptor resulting from excellent cleaning property.例文帳に追加

レーザービーム等のコヒーレント光を露光してデジタル画像を繰り返し形成した際、干渉縞に基ずく画像ムラを生ずることがなく、かつクリーニング特性が優れていて電子写真感光体の劣化を生ずることなく、高濃度鮮明な画像が安定して得られる電子写真感光体及び該電子写真感光体を用いた画像形成装置を提供することにある。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor device, a resist film is formed on a substrate whose surface has steps and has a sticking or penetrated organic removing liquid using the chemically amplified photoresist composition to which a basic compound has been added by 1-100 mmol per 100 g base resin and a resist pattern is formed by exposing a prescribed region of the resist film.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、表面に段差を有するとともに有機剥離液が付着若しくは染み込んだ基板上に、ベース樹脂１００ｇ当たり塩基性化合物を１〜１００ｍｍｏｌ添加した化学増幅型フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を成膜し、前記レジスト膜の所定の領域を露光することによってレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To efficiently remove a discharge product adhering to the surface of an image carrier and to prevent an abnormal image caused by the discharge product in an image forming device where an image is formed by electrifying the image carrier, exposing the electrified image carrier so as to form an electrostatic latent image, making the electrostatic latent image a visible image as a toner image and transferring the toner image to a transfer material.例文帳に追加

像担持体を帯電し、帯電後の像担持体を露光して静電潜像を形成し、その静電潜像をトナー像として可視像化し、該トナー像を転写材に転写して画像形成を行う画像形成装置において、像担持体表面に付着した放電生成物を効率よく除去し、その放電生成物に基因する異常画像の発生を防止する。 - 特許庁

The charged particle beam drawing method for exposing a pattern comprising a plurality of pixels on a substrate by scanning with charged particle beams has a step for generating an instruction value so that the exposure time of a pixel located at the edge of the pattern becomes smaller than that of other pixels, and a step for correcting the instruction value based on the instruction value of the pixel immediately before.例文帳に追加

【解決手段】 荷電粒子線を走査して基板上の複数のピクセルからなるパターンを露光する荷電粒子線描画方法において、前記パターンのエッジに位置するピクセルの露光時間が他のピクセルの露光時間よりも小さくなるように指令値を生成する生成ステップと、前記指令値を直前のピクセルの指令値に基づいて補正する補正ステップとを有する。 - 特許庁

(1) An anti-erosive material 1 having high anti-erosion against oil is applied to a part exposing from an electromagnet 6 of the heat conductive material 2, in the solenoid driven valve in which the heat conductive material 2 having filler dispersed in resin has the electromagnet sealed between a coil 6 and cores 7 and 8 for storing the coil and an electromagnetic force of the electromagnet drives the valve 19.例文帳に追加

（１） フィラーを樹脂に分散させた熱伝導材２がコイル６と該コイルを収容するコア７、８との間に封止された電磁石を備え、該電磁石の電磁力によりバルブ１９を駆動する電磁駆動バルブにおいて、熱伝導材２の電磁石６から露出する部分にオイルに対する耐壊食性の高い耐壊食材料１を被覆した電磁駆動バルブ。 - 特許庁

The method includes steps of: forming an underlay film 2 on a film 1 to be processed; forming a silicon-containing intermediate film 3 having a protecting group that deblocks by an acid on the underlay film 2; forming a resist film 4 on the silicon-containing intermediate film 3; exposing a predetermined area of the resist film 4; and developing the resist film by using a developing solution.例文帳に追加

被加工膜１上に下層膜２を形成する工程と、下層膜２上に、酸により脱保護する保護基を含むシリコン含有中間膜３を形成する工程と、シリコン含有中間膜３上にレジスト膜４を形成する工程と、レジスト膜４の所定領域を露光する工程と、現像液を用いて前記レジスト膜を現像する工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a method wherein various kinds of adjustment is enabled while displaying an image on a photosensitive film without exposing and a prescribed zone can be precisely drawn at high speed without being influenced by hysteresis, regarding a drawing method, a display method and a display/drawing method wherein drawing and display are performed by scanning the photosensitive film with the beam spot of electrically-charged particles.例文帳に追加

本発明は、感光性膜を荷電粒子のビームスポットで走査して描画および表示する描画方法、表示方法、および表示・描画方法に関し、感光性膜上の画像を感光させずに表示して各種調整を可能にすると共に、ヒステリシスなどの影響を受けずに所定区画を正確かつ高速に描画可能にすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a concentrating method for a sample liquid, permitting accurate quantitative analysis in a short time and is capable of preventing danger exposing a worker to an organic substance or a toxic substance, in place of a conventional concentration method due to spraying of nitrogen, in a field requiring the accurate quantitative analysis of a very small amount of an object to be analyzed, such as analysis of an environmental sample.例文帳に追加

環境試料分析などのように、ごく微量の分析対象物を正確に定量分析する必要がある分野において、従来の窒素吹き付けによる濃縮法に代わる、短時間で正確な定量分析が可能で、且つ作業者の有機溶媒や有毒物質への曝露の危険性をも防ぐことのできる試料液の濃縮法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the conductive path or the electrode includes steps of forming a photoresist layer on a metal fine particle dispersion layer formed on a support, exposing, developing, then simultaneously removing an unexposed metal fine particle dispersion layer when the unexposed photoresist layer is removed, and postheating the metal fine particle dispersion layer retained in a resist image-like state to heat and fusion-bond the metal fine particles.例文帳に追加

支持体上に形成された金属微粒子分散層上にフォトレジスト層を形成した後、露光、現像し、未露光部のフォトレジスト層を除去する際に、未露光部の金属微粒子分散層も同時に除去した後、レジスト像様に残存する金属微粒子分散層を後加熱して金属微粒子を加熱融着することを特徴とする導電路又は電極の形成方法。 - 特許庁

In the magneto-optic recording material provided with the magneto-optic recording layer on the substrate surface, the magneto-optic recording layer is formed by impressing voltage between opposed electrodes under pressure at atmosphere pressure or in the vicinity of the atmosphere pressure, making reactive gas into a plasma state by discharging the voltage between both poles and exposing the substrate surface to the reactive gas at the plasma state.例文帳に追加

基材上に光磁気記録層が設けられた光磁気記録材料において、光磁気記録層を、大気圧または大気圧近傍の圧力下において対向する電極間に電圧を印加し、両極間に放電させることにより反応性ガスをプラズマ状態とし、前記プラズマ状態の反応性ガスに前記基材を晒すことにより形成する。 - 特許庁

The exposing means is formed in a unit to expose two or more photoreceptors, i.e. recording mediums so as not to correct the predicted position depending on the measured temperature, and the holder of the above unit is supported by the sideboard holding each photoreceptor with its one end fixed and its other end held free to move in the transfer direction.例文帳に追加

温度結果に応じた予測位置ずれ補正を実行することがないよう、記録媒体である複数個の感光体に露光するための露光手段が１つのユニットで形成され、前記ユニットを保持する部材が、各感光体を保持している側板で支持され、前記ユニットの保持部材は、搬送方向に対して一端が固定され、他端は搬送方向に自由に稼動可能ように保持されている - 特許庁

The color filter comprises a polymeric film formed in steps of exposing a photosensitive resin composition containing at least a binder resin, a monomer and a photopolymerization initiator to UV rays and then heating.例文帳に追加

少なくともバインダー樹脂とモノマーと光重合開始剤とを含む感光性樹脂組成物を紫外線露光し加熱工程を経てポリマー膜としたカラーフィルタであって、前記カラーフィルタの前記ポリマー膜に含まれる未反応光重合開始剤の前記ポリマーに対する残留比Ｘと、未反応モノマーの前記ポリマーに対する残留比Ｙが、下記の式（１）および式（２）を満たすことを特徴とする。 - 特許庁

This liquid immersion exposure device 1 contains an immersion liquid L between a wafer W with a photosensitizing agent applied and an exposure lens 10 and has a preprocessor 30 for immersing a surface of the wafer W in ozone water or exposing it to ozone irradiation or ultraviolet ray before containing the immersion liquid L between the wafer W and the exposure lens 10.例文帳に追加

本発明は、感光剤の塗布されたウェハＷと露光用のレンズ１０との間に液侵液Ｌを介在させて露光を行う液侵露光装置１において、ウェハＷとレンズ１０との間に液侵液Ｌを介在させる前に、ウェハＷの表面にオゾン水を浸す、もしくはオゾンを照射する、もしくは紫外線を照射する前処理部３０を備えているものである。 - 特許庁

The electrostatic discharge protection device comprises a low-temperature co-fire ceramic film including a first patterned conductor electrode material layer, a second patterned conductor electrode material layer, and at least one via hole for exposing both a part of the first patterned conductor electrode material layer and a part of the second patterned conductor electrode material.例文帳に追加

上記静電放電保護装置は、第１のパターン化された導体電極材料層と、第２のパターン化された導体電極材料層と、上記第１のパターン化された導体電極材料層の一部及び上記第２のパターン化された導体電極材料層の一部をともに露出させる少なくとも一つのビアホールとを有する低温共焼結セラミックフィルムを備えている。 - 特許庁

The method comprises a step for protecting functional groups present on polymerizable monomers with photoactive groups to form protected monomers, a step for polymerizing the protected monomers to form a protected polymer and a step for exposing the protected polymer to an ultraviolet light of wavelength that removes the photoactive groups from the functional groups, thereby forming the functionalized latex particles.例文帳に追加

当該方法は、光活性基により重合性モノマー上の官能基を保護し保護されたモノマーを形成するステップと、前記保護されたモノマーを重合させて保護されたポリマーを形成するステップと、官能基から光活性基を脱離させる紫外波長光に前記保護されたポリマーさらし、それによって官能基化されたラテックス粒子を形成するステップとを包含する。 - 特許庁

In the method for making a lithographic printing plate by exposing and developing a photographic material having a silver halide emulsion layer and then subjecting the material to the treatment to impart oleophilic property to selectively change the undeveloped silver halide image part into oleophilic and ink receptive, the plate after the development and before the oleophilic treatment is treated with a treating liquid containing a dimercapto compound and triazinetrithiol.例文帳に追加

ハロゲン化銀乳剤層を有する写真材料を露光、現像処理後、親油化処理を施し、未現像のハロゲン化銀像部を選択的に親油化し、インキ受容性にする平版印刷版の作成方法において、現像処理後、親油化処理前にジメルカプト化合物とトリアジントリチオールを含有する処理液で処理することを特徴とする平版印刷版の作成方法。 - 特許庁

The field effect transistor includes: a first semiconductor layer 14 made of a first group III-V nitride; a second semiconductor layer 15 formed on the first semiconductor layer 14, made of a second group III-V nitride and having a gate recess 16 for exposing the first semiconductor layer 14; and a gate electrode 18 formed on the gate recess 16 in the first semiconductor layer 14.例文帳に追加

電界効果トランジスタは、第１のIII−Ｖ族窒化物からなる第１の半導体層１４と、第１の半導体層１４の上に形成された第２のIII−Ｖ族窒化物からなり、第１の半導体層１４を露出するゲートリセス部１６を有する第２の半導体層１５と、第１の半導体層１４におけるゲートリセス部１６の上に形成されたゲート電極１８とを備えている。 - 特許庁

When the door of the truck is opened, an opening part exposing the nearly whole height of the bag is formed on the truck.例文帳に追加

発酵処理槽で生成された処理物の排出口と、前記処理物を前記排出口より排出する攪拌手段とを有する処理装置に於いて、前記排出口より排出された処理物を着脱可能な袋に直接排出すると共に、前記袋を移動可能な台車に着脱可能に設置し、前記台車の扉を開した時、前記袋のほぼ全高が露出する開口部を前記台車に形成する。 - 特許庁

Next, a first metal layer 112 is formed in an N-channel MOSFET forming region 106 and the P-channel MOSFET forming region 107 and the first metal layer 112 and the first mask 111 are removed from the P-channel MOSFET forming region 107, thereby exposing the gate insulating film 110B formed in the P-channel MOSFET forming region 107.例文帳に追加

次に、ＮチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域１０６およびＰチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域１０７に第一金属層１１２を形成し、ＰチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域１０７から第一金属層１１２および第一マスク１１１を除去することにより、ＰチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域１０７に形成されたゲート絶縁膜１１０Ｂを露出させる。 - 特許庁

The resin opening method includes in this order: a step of laminating a photosensitive resin layer on a substrate having an opening; a step of totally exposing the photosensitive resin layer on condition that a contrast forming substance that affects photosensitivity of the photosensitive resin layer is present inside the opening; and a step of removing the photosensitive resin layer of the opening by wet treatment.例文帳に追加

開口部を有する基材に感光性樹脂層をラミネートするラミネート工程、開口部内に感光性樹脂層の感光性に影響を与えるコントラスト形成物質が存在する状況で感光性樹脂層を全面露光する全面露光工程、湿式処理により開口部の感光性樹脂層の除去を行う感光性樹脂層除去工程をこの順で含む樹脂開口方法。 - 特許庁

The exposing means restarts the exposure of the sample to the pattern from an unexposed subfield based on the return signal.例文帳に追加

請求項１の荷電粒子線露光装置は、複数のサブフィールドが設けられた試料に、パターンを露光する露光手段と、外部磁界の変動が予め定められた値より小さくなる場合に、復帰信号を出力する復帰信号出力手段とを有する荷電粒子線露光装置であって、前記露光手段は、前記復帰信号に基づいて、未露光の前記サブフィールドから前記パターンの露光を再開することを特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor device and its manufacturing method are provided with an accurate positioning mark by having a semiconductor board 4 providing a circuit element, an insulation layer 1 provided on the semiconductor board 4 and having an opening part 2, and positioning marks 3, 5 provided in the insulation layer 1, exposing the upper face on the opening part 2 and covered by the insulation layer other than the upper face.例文帳に追加

回路素子が設けられた半導体基板４と、前記半導体基板４上に設けられ、開口部２を有する絶縁層１と、前記絶縁層１中に設けられ、前記開口部２にその上面が露出し、上面以外は前記絶縁層で被覆された位置合わせマーク３，５とを有することで、高精度な位置合わせマークを備えた半導体装置及びその製造方法。 - 特許庁

In the method of suppressing the production of the alkali gas in the concrete by neutralizing the surface layer part of the concrete after the concrete is placed in the indoor, a neutralization means includes at least: a step of filling a concrete neutralizing gas in a space in contact with the surface layer part of the concrete; and a step of exposing the surface layer part to the filled concrete neutralizing gas.例文帳に追加

屋内でコンクリートが打設された後に当該コンクリートの表層部分を中性化することで、コンクリート内のアルカリガスの発生を抑制する方法であって、中性化の手段として、少なくとも、コンクリートの表層部分に接する空間にコンクリート中性化ガスを充填する行程と、その表層部分を、充填したコンクリート中性化ガスに暴露する行程とを含む - 特許庁

In a maskless lithographic system having a space light modulator (SLM), the method of forming the gray scale comprises the processes of: forming a pattern by exposing the above-mentioned object with light; and forming the region of the gray scale level on the object, by modulating the exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

This card peripheral device consists of a circuit board 12, a connector 14 having plural contacts for connecting the circuit board 12 with another device, and a hollow card box 16 with an opening 30 for exposing the contact point 18 against another device which can house and fix the circuit board 12 together with a connector 14 to slide.例文帳に追加

回路基板１２と、装着対象機器に回路基板１２を接続するための複数のコンタクトを備えたコネクタ部１４と、各コンタクトの装着対象機器側接点１８を露出するための開口部３０を有し、且つ回路基板１２を固定して収容すると共にコネクタ部１４を摺動可能に収容する中空カード形の筐体１６とを備えて成るカード形周辺装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises the steps of machining the {0001} plane of silicon carbide, etching the surface of the silicon carbide by plasma of a material containing at least a halogen after the machining step, and exposing the surface of the silicon carbide to a plasma of a material not containing a halogen and containing at least oxygen after the etching step.例文帳に追加

炭化珪素の｛０００１｝面を、機械加工する機械加工工程と、前記機械加工工程後に、前記炭化珪素の表面を、少なくともハロゲンを含有する物質のプラズマによりエッチングする工程と、前記エッチング工程後に、前記炭化珪素の表面を、ハロゲンを含有せず、なおかつ少なくとも酸素を含有する物質のプラズマに曝露する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

An exposing device carries out exposure where a photoreceptor belt is wound around an accurately positioned driving roller to prevent the exposure position on the photoreceptor belt from vibrating, and a one-sidedness correcting means for the photoreceptor belt is provided nearby a driven roller shaft on a slaking side of the photoreceptor belt to reduce the rotational load on the photoreceptor belt.例文帳に追加

位置決めが正確になされている駆動ローラに感光体ベルトが捲き掛かっている位置で露光装置から露光される構成とすることで、感光体ベルト上の露光位置の振動等を防止し、さらに、感光体ベルトの緩み側となる従動ローラ軸付近に感光体ベルトの片寄り矯正手段を設けることで、感光体ベルトの回転負荷を低減する。 - 特許庁