「exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(116ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an exposure apparatus having a stage in a split state that facilitates working and transportation and capable of enhancing the connection strength of the stage upon assembling, to provide an exposure apparatus that can be easily assembled and easily adjusted in an assembled portion from the split state even after being assembled, and to provide a method of exposing liquid crystal.例文帳に追加

加工と輸送が容易な分割状態のステージであって、ステージの組立てでの接続強度を強くすることができる露光装置を提供及び容易に組立てができ、あるいは組立て後であっても分割状態から組立てた部位を容易に調整することができる露光装置または液晶露光方法を提供することにある。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor in the image forming method for forming multiple sheets of actual images by repetitively subjecting the surface of the electrophotographic photoreceptor to at least electrostatic charging, image exposing, developing, transferring and cleaning stages is an organic electrophotographic photoreceptor and the brightness change rate of the organic electrophotographic photoreceptor is ≤10%.例文帳に追加

電子写真感光体上に少なくとも、帯電、像露光、現像、転写、及びクリーニング工程を繰り返し、多数枚の実画像を形成する画像形成方法において、該電子写真感光体が有機電子写真感光体であり、該有機電子写真感光体の光沢度変化量が１０％以下であることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

A detection sensor 23 is arranged on the most downstream side in the advancing direction of the intermediate transfer belt 8, and the rotational speed of a driving roller 11 is varied, based on variation of a time difference between the output signal from the sensor and an exposure signal for exposing photoreceptor drums 1a to 1d, whereby the surface speed of the intermediate transfer belt 8 is corrected.例文帳に追加

中間転写ベルト８の進行方向において最下流側には検知センサ２３が配置され、当該センサの出力信号と、感光体ドラム１ａ〜１ｄ上へ露光するための露光信号と、の時間差の変化量に基づいて、駆動ローラ１１の回転速度を変動させることによって、中間転写ベルト８の表面速度を補正する。 - 特許庁

The mask formed by forming phase shift patterns on the flat main surface of a transparent plate and coating the ends of the phase shift patterns with light shielding film patterns of a dielectric substance, high resistor or organic material having the reflectivity smaller than the reflectivity of a metallic film of Cr, etc., is used and the mask patterns are transferred by projection exposing to a photosensitive material formed on the surface of a work piece.例文帳に追加

透明板の平坦な主表面に位相シフトパターンを形成し、この位相シフトパターンの端部をＣｒ等の金属膜よりも反射率の小さい誘電体、高抵抗体、又は有機体の遮光膜パターンで被覆したマスクを用いて、被加工物の表面に形成された感光性膜に対してこのマスクパターンを投影露光して転写する。 - 特許庁

The outer package frame 1 has an opening part 4 exposing a first flat surface 2A and a second flat surface 2B, and is formed by integrally molding with plastic a side frame 6 covering a first side surface 2E and a second side surface 2F of the thin battery 2, a terminal frame 7 covering a terminal surface 2C and a bottom frame 8 covering an end surface.例文帳に追加

外装枠１は、薄型電池２の第１の平坦面２Ａと第２の平坦面２Ｂを表出させる開口部４を有し、かつ薄型電池２の第１の側面２Ｅ及び第２の側面２Ｆを覆う側枠６と、端子面２Ｃを覆う端子枠７と、端面２Ｄを覆う底枠８とをプラスチックで一体成形している。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a step of forming the first metal wiring 12 having the partial film thickness of the entire film thickness of the metal wiring, a step of forming an interlayer dielectric 14 covering the entire upper surface of an underlying insulating film 10 and the first metal wiring, and a step of then exposing the surface of the first metal wring while flattening the surface by cutting the first interlayer dielectric.例文帳に追加

下地絶縁膜１０の上に、メタル配線の全膜厚の一部の膜厚を有する第１メタル配線１２を形成し、下地絶縁膜および第１メタル配線の上全面を覆う第１層間絶縁膜１４を形成した後、第１層間絶縁膜を削ってその表面を平坦化しつつ、第１メタル配線の表面を露出する。 - 特許庁

This drying method is an IPA(isopropyl alcohol) drying method for exposing only the object to be processed or the object to be processed and a dummy member in the saturated vapor of an organic solvent, and the exposure time in the saturated vapor is constituted of the recovery time of the saturated steam and the additional time and is fixed, regardless of the fluctuations in the capacity of the object to be processed.例文帳に追加

(1)被処理物のみ、または被処理物およびダミー部材を有機溶剤の飽和蒸気中に曝すＩＰＡ乾燥法であって、飽和蒸気中の暴露時間が飽和蒸気のリカバリータイムとその付加時間とで構成され、かつ被処理物の容量の変動に拘わらず一定であることを特徴とする半導体基板の乾燥方法。 - 特許庁

To provide a method for exposing a flexographic plate material in which the top face of the water-developable synthetic rubber-base photosensitive resin layer of the flexographic plate material comprising a substrate and the photosensitive resin layer is coated with a plastic transparent film having 1-50 μm thickness and ≥9.8 MPa modulus of elasticity in tension and the plate material is imagewise exposed from the top face of the transparent film.例文帳に追加

本発明は、基体と水現像可能な合成ゴム系感光性樹脂層を有するフレキソ版材の該感光性樹脂層の上面に、厚さ１〜５０μｍで透明かつ引張弾性係数が９．８ＭＰａ以上であるプラスチック透明フィルムを被覆せしめ、この透明フィルムの上から画像露光することを特徴とするフレキソ版材の露光方法。 - 特許庁

The method for producing a heat-shrinkable oxygen-absorbing film comprises a series of processes of (i) a process for forming an oxygen absorbing composition to start oxygen absorption by exposure to radiation to a sheet, (ii) a process for exposing the sheet to at least 2 kilogray radiation and (iii) a process for stretching and processing the sheet obtained by the process (ii) to form a film.例文帳に追加

（ｉ）放射線に暴露することにより酸素吸収を開始する酸素吸収性組成物をシート状に成形する工程、（ｉｉ）上記シートを少なくとも２キログレイの放射線に曝す工程、（ｉｉｉ）上記（ｉｉ）の工程を経たシートを延伸加工することにより、フィルム状に成形する工程、の順に一連の工程を行う。 - 特許庁

The writing-in connector 440 (external equipment connection terminal) for rewriting the setting of a control circuit mounted while being connected to the external equipment is arranged in the main circuit substrate 400 and the opening 22c for the connector for exposing the writing-in connector 440 in the accommodating part 21 is formed in the partitioning wall 22 of the accommodating part 21 for accommodating the battery 330.例文帳に追加

主回路基板４００には、外部機器を接続して搭載された制御回路の設定を書き換えるための書き込みコネクタ(外部機器接続端子)４４０が設けられ、バッテリー３３０を収納する収容部２１の隔壁２２には、書き込みコネクタ４４０を収容部２１内で露出させるためのコネクタ用開口２２ｃが形成されている。 - 特許庁

The end of the terminal 11 on the battery 4 side is exposed from the housing 12, and configures an extension 14 extending to exceed an end 21 of the housing 12 in a direction substantially perpendicular to the exposing direction, and a battery connection 15 which comes into contact with the battery 4 is formed at a part of the extension 14 exceeding the end 21 of the housing 12.例文帳に追加

端子１１のバッテリ４側の端部は、ハウジング１２から露出し、当該露出方向に対して略直角方向にハウジング１２の端部２１を超えるように延出する延出部１４を構成し、当該延出部１４のハウジング１２の端部２１を超える部分に、バッテリ４と接触するバッテリ接続部１５が形成されている。 - 特許庁

The antenna 11 is formed of an internal conductor 12, an insulating body 13 provided at the outer periphery of the body 13, an external conductor 14 provided at the outer periphery of the body 13 and having plural annular projections 14a consecutive in a longitudinal direction, and plural slots 15 formed at the projections 14a and exposing the body 13 from the conductor 14, which is smooth and cylindrical.例文帳に追加

内部導体１２と、内部導体１２の外周に設けられた絶縁体１３と、絶縁体１３の外周に設けられ、長さ方向に連続する複数の環状突起１４ａを有する外部導体１４と、環状突起１４ａに形成され、外部導体１４から絶縁体１３が露出する複数のスロット１５とを備えたアンテナ１１とする。 - 特許庁

The miniaturization of the radiator is realized by making the effective diffusion of the Joule's heat be possible by using a heat slinger exposing inside a suction air stream by utilizing a suction air of the internal combustion engine as a forced cooling air blow, further, the wires are shortened by making the electronic device be possible to be mounted at the surroundings of the internal combustion engine which radiates heat around it.例文帳に追加

内燃機関の吸入空気を強制冷却風として利用し、吸入空気流中に露出する放熱板により効率的なジュール熱の放散を可能とすることにより放熱器の小型化を実現し、かつ、周囲に熱を発散する内燃機関の近傍への電子装置の設置を可能として諸配線を短縮する。 - 特許庁

The light exposing apparatus 62 which irradiates a photo-conductor 58 with a light to write a latent image, has an LED array 90 consisting of a plurality of LEDs 88 aligned and arranged, and an adjusting means 98 for adjusting the relative angle between the photo-conductor 58 and the LED array 90 in accordance with the length in the main scanning direction of this LED array 90.例文帳に追加

感光体５８に光を照射して潜像を書き込む露光装置６２であって、整列配置された複数のＬＥＤ８８からなるＬＥＤアレイ９０と、このＬＥＤアレイ９０の主走査方向の長さ変動に応じて感光体５８とＬＥＤアレイ９０との相対角度を調整する調整手段９８とを有する。 - 特許庁

In the thin film deposition method, discharge gas is introduced in a discharge space and excited under atmospheric pressure or the pressure close to atmospheric pressure, the excited discharge gas is mixed with thin film deposition gas containing a raw material outside the discharge space to form secondary excitation gas, and a thin film is deposited on a base material by exposing the secondary excitation gas to the base material.例文帳に追加

大気圧または大気圧近傍の圧力下で、放電ガスを放電空間に導入して励起し、該励起した放電ガスと、原料を含む薄膜形成ガスとを、放電空間外で混合させて二次励起ガスとし、該二次励起ガスを基材に晒すことにより、該基材上に薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。 - 特許庁

The mobile information terminal 1 includes: the terminal main body 2; the cover 3 movable between a first position for covering a first principal face of the terminal main body 2 and a second position for exposing the first primary face; and a slide mechanism 4 for fitting the cover 3 to the terminal main body 2 in a slidable way between the first and second positions.例文帳に追加

携帯情報端末装置１は、装置本体部２と、装置本体部２の第１の主面側を覆う第１の位置と該第１の主面を露出させる第２の位置の間で移動可能な蓋部３と、蓋部３を装置本体部２に対して前記第１の位置と第２の位置の間でスライド移動可能に取り付けているスライド機構４と、を備えている。 - 特許庁

A method for forming a Cu wiring film on a TiN film for diffusion barrier, after the TiN is formed, includes an annealing step of heating a base film to a temperature of 200-500°C in a vacuum state without exposing the base film to the atmosphere after a step of forming the base film between the steps of forming the TiN film and the Cu wiring film.例文帳に追加

このＣｕ配線膜形成方法は、拡散バリア用ＴｉＮ膜を成膜し、ＴｉＮ膜の上にＣｕ配線膜を成膜する方法であり、ＴｉＮ膜の成膜工程とＣｕ配線膜の成膜工程の間に下地膜の成膜工程後大気にさらすことなく真空一貫の状態で２００〜５００℃の温度で加熱するアニール工程を設ける。 - 特許庁

An A room 1 has an aligner for exposing a wafer W1 inside and is filled with a pressure-reduced atmosphere of expensive helium and when a gate valve 1a is opened in order to carry the wafer W1 in the A room 1, helium is introduced into a load lock room 3 from a helium source 7a after the load lock room 3 is evacuated through a 1st discharge line 4.例文帳に追加

Ａ室１は、ウエハＷ_1 を露光するための露光装置を内蔵し、高価なヘリウムの減圧雰囲気によって満たされており、ウエハＷ_1 をＡ室１に搬入するためにゲートバルブ１ａを開くときは、第１の排気ライン４によってロードロック室３を真空排気したうえで、ヘリウム源７ａからロードロック室３にヘリウムを導入する。 - 特許庁

To provide a method for measuring the quantity of light of LEDs of an LED print head for exposing a photosensitive body mounted to an image forming device and capable of reducing exposure variations in the surface of the photosensitive body even when a set current value of each LED is regulated directly according to a measured value of the acquired quantity of light of each LED.例文帳に追加

画像形成装置に搭載される感光体露光用としてのＬＥＤプリントヘッドのＬＥＤについて、得られた各ＬＥＤ光量の測定値にそのまま従って、各ＬＥＤの設定電流値が調整されたとしても、感光体表面の露光量のばらつきの低減が可能な光量測定方法を提供する。 - 特許庁

The method is characterized in that after the photo-polymerizable ink composition comprising a polymerization initiating system with a molar absorptivity coefficient of ≥1,000 M^-1cm^-1 in a light wave region of 400 nm-700 nm and a polymerization initiator is delivered on a substrate, the delivered ink is polymerized and cured by light-exposing by a light source of ≤1,000 W.例文帳に追加

支持体上に、４００ｎｍ〜７００ｎｍの光波長領域におけるモル吸光係数が、１０００Ｍ^−１ｃｍ^−１以上の重合開始系及び重合開始剤を含有する光重合型インク組成物を打滴した後、１０００Ｗ以下の光源で露光により打滴されたインクを重合、硬化することを特徴とする。 - 特許庁

This fraudulent unlocking operation preventive metal fitting 1 to a thumb-turn 7 of a door 6, is composed of a plate part 11 having a property of not easily opening a hole by a boring tool such as a drill, and forming a thumb-turn exposing hole part 13, and a rising wall-shaped thumb-turn surrounding part 12 continuously formed in the plate part.例文帳に追加

ドア６のサムターン７に対する不正開錠操作防止用金具１を、ドリルなどの穴あけ工具では簡単に穴が開けられることのない性状を有してサムターン露出用の穴部１３を形成したプレート部１１、および当該プレート部に連続して形成された起立壁状のサムターン囲み部１２などで構成する。 - 特許庁

The control board 8 equipped with an electronic component controlling a game, a board side connector 82 to which an outer connector is connected, and a printed wiring 83 is housed in a board case comprising a case body 12 and a case lid body 13 closing the case body 12, and an opening portion 131 exposing the board side connector 82 is formed in the case lid body 13.例文帳に追加

遊技を制御する電子部品、外部コネクタが接続される基板側コネクタ８２及びプリント配線８３を設けた制御基板８を、ケース本体１２とケース本体１２を閉塞するケース蓋体１３とから成る基板ケース内に収容するとともに、ケース蓋体１３に、基板側コネクタ８２を露出させる開口部１３１を設ける。 - 特許庁

A lower electrode 31 and the piezoelectric layer (PZT thin film) 32 are formed on the entire surface of one surface side of a support substrate (single-crystal MgO substrate) 1 before patterning, and an opening 4a partially exposing the piezoelectric layer 32 and an insulating layer 4 including an etching hole 5 are formed at one surface side of the support substrate 1, and then an upper electrode 33 is formed.例文帳に追加

支持基板（単結晶ＭｇＯ基板）１の一表面側の全面に下部電極３１、圧電層（ＰＺＴ薄膜）３２を形成した後にそれぞれをパターニングし、支持基板１の上記一表面側に圧電層３２の一部を露出させる開孔部４ａおよびエッチングホール５を有する絶縁層４を形成してから、上部電極３３を形成する。 - 特許庁

The cover 27 includes a cover body 41 surrounding the rotary body 25 and the tip structure 26 and having an opening part 51 of exposing the tip structure 26 to an external part of the cover 27 in an area opposed to the tip structure 26, and a cover 52 detachably installed on the cover body 41 and covering the opening part 51.例文帳に追加

カバー２７は、回転体２５および先端構造物２６を取り囲むとともに、先端構造物２６に対向する領域に先端構造物２６を当該カバー２７の外部に露出させる開口部５１を備えたカバー本体４１と、カバー本体４１に脱着自在に取り付けられて開口部５１を覆う蓋５２とを備える。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device comprises the steps of forming an antireflection film made of a two-layer film of a lower layer as a reflection film and an upper layer as an interference film to an exposure light on the substrate, emitting a pattern inspecting light via the antireflection film in the case of exposing a desired pattern on a photosensitive thin film coating the antireflection film, thereby aligning a photomask with the substrate.例文帳に追加

露光光に対して下層は反射膜であり、上層は干渉膜である二層膜からなる反射防止膜を基板上に形成し、その反射防止膜上に塗布した感光性薄膜に所望のパターンを露光する際に、反射防止膜を介してパターン検出光を照射することにより、ホトマスクと基板とのアライメントを行う。 - 特許庁

To realize an exposure device whose structure is simple and which is inexpensive by constituting a device for exposing a digital signal on a photosensitive material, of a light source part at which plural sets of LEDs are arrayed by setting three colors of the LEDs as one set, and an exposure head executing straight motion and a driving mechanism thereof and an optical fiber connected between the exposure head and a light source.例文帳に追加

デジタル信号を感光材料上に露光する装置を、三色のＬＥＤを１組としてそれを複数組配列した光源部と、直動運動を行なう露光ヘッドおよびその駆動機構と、露光ヘッドと光源との間に接続された光学繊維とによって構成することにより、簡単な構造で安価な露光装置を実現する。 - 特許庁

The method for reconstituting the insertion comprises exposing the paper treated with the caustic agent into an acidic chemical gas atmosphere to treat by oxidation reaction, wherein the insertion is discolored by mistreating the paper having at least one insertion of letters and patterns, written with the ink, with the caustic agent in treatment for keeping.例文帳に追加

文字、記号および絵柄の少なくとも１つのインク書き込み情報を有する紙をその保存のために塩基性薬品で処理することにより前記書き込み情報が退色したときにその書き込み情報を復元する方法であって、前記処理後の紙を酸性薬品ガスの雰囲気に曝してその紙に対して酸化反応を施すことを特徴とする。 - 特許庁

The phosphor-powder application process of the light-emitting diode comprises the steps of providing a chip, forming a photoresist layer so as to cover the chip, exposing a phosphor powder application area on the chip by patterning the photoresist by the optical lithography process, and filling phosphor powder containing resin to the area.例文帳に追加

チップを提供するステップと、前記チップを覆うようにフォトレジストの層を形成するステップと、光リソグラフ処理によって、前記フォトレジストをパターン化して、前記チップ上に蛍光粉を塗布する区域を露出させるステップと、蛍光粉入り樹脂を前記区域に充填するステップと、を備える発光ダイオードの蛍光粉塗布工程を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic charge image developing toner in which changes in the charge amount of the toner due to environmental changes are prevented by suppressing a colorant, wax or the like from exposing to the toner surface, the wax is appropriately finely dispersed in the toner, consequently the fixing property of the toner is improved and which therefore stably provides a favorable image.例文帳に追加

着色剤やワックス等がトナーの表面に露出するのを抑制して、環境変動等によりトナーの帯電量が変動するのを防止すると共に、ワックスがトナー中に適切に微分散されるようにして、トナーの定着性を向上させ、良好な画像が安定して得られる静電荷像現像用トナーを提供する。 - 特許庁

The electronic equipment includes a heat source; a container for storing the heat source in the inside and having a radiating and transmitting region for transmitting radiation from the heat source; a casing for storing the container and having an opening exposing the radiating and transmitting region to the outside; and a sensor for detecting the radiation emitted from the opening and reflected by the outside obstruction.例文帳に追加

熱源と、熱源を内部に収容しかつ前記熱源からの輻射を透過させる輻射透過領域を有する容器と、容器を収容しかつ輻射透過領域を外部に露出させる開口を有する筐体と、開口から放出され外部の障害物により反射された輻射を検出するセンサとを備える電子機器である。 - 特許庁

A forming method of a semiconductor layer has a process for forming a mask 3 with an opening part 2 for exposing the surface of a base layer 1 on the base layer 1 and a process for forming a semiconductor layer by performing selective crystal growth for a semiconductor 4 by a catalytic CVD method on the surface of the exposed base layer 1 inside the opening part 2 of the mask 3.例文帳に追加

基層１上に、基層１表面を露出させる開口部２を有したマスク３を形成する工程と、マスク３の開口部２内にて露出した基層１表面上に、触媒ＣＶＤ法により選択的に半導体４を結晶成長させて半導体層を形成する工程と、を備えた半導体層の形成方法。 - 特許庁

The photographic printing system includes a calibration processing part for performing processes of sequentially specifying the plurality of printing paper magazines by the selection of an overall calibration mode, cutting printing paper from the specified printing paper magazine into a print size, feeding it to an exposure unit, and exposing calibration data indicating a middle position for exposure in a main scanning direction, for all the printing paper magazines.例文帳に追加

全較正モードを選択することにより、複数の印画紙マガジンを順次指定し、指定した印画紙マガジンからの印画紙をプリントサイズに切断して露光ユニットに送り込み、主走査方向での露光中央位置を示す較正用データの露光を行う処理を複数の印画紙マガジンの全てについて連続的に行う較正処理部を備えた。 - 特許庁

To provide a garbage case capable of storing a plurality of garbage bags, effectively utilizing garbage classification bags, and easily performing garbage treatment in a garbage case, eliminating the needs of mounting a garbage storage device in a covered garbage and cutting in a garbage case body, and providing an excellent appearance without partly exposing the storage device and the garbage bag to the outside of the garbage case.例文帳に追加

ごみ箱内で、複数のごみ袋が収納でき、ごみの分別袋の有効利用と、ごみ処理が簡単にできる、また蓋付きごみ箱のごみ袋収納器具取り付け、ごみ箱本体への切り込み等を不要とし、ごみ箱の外側へ収納器具、ごみ袋の一部分が露出する事なく、外観がスッキリとしたごみ箱を提供する。 - 特許庁

In the forming method of the three dimensional body comprising plural cured layers bonded to each other by exposing a continuous material layer to a curing stimulating beam, the amount of the curing stimulating beam during a term not-exposed is reduced to not more than 50% of a level at an exposure by changing a wave length of a selected curing stimulating beam.例文帳に追加

連続する材料層を硬化刺激ビームに露出することにより複数の密着した硬化層から成る３次元物体を造形する方法において、選択した硬化刺激ビームの波長を変換することによりビームの量を変化させ、非露出中は硬化刺激ビームの量を露出時の水準の５０％以下に削減する。 - 特許庁

To provide a system for reading a radiation image conversion panel, the system free from cracks in a radiation image conversion panel and from peeling of a phosphor or image irregularities in the process of placing a radiation image conversion panel in a conveyable container, exposing the panel to X-rays and reading the panel by a reading system which bends and conveys the panel.例文帳に追加

放射線画像変換パネルを可搬性容器に配置し、Ｘ線を曝射し、放射線画像変換パネルを曲げて搬送する読み取りシステムにより読み取りを行った場合、放射線画像変換パネルの割れ、蛍光体の剥離或いは画像ムラの発生のない、放射線画像変換パネルの読み取りシステム及び放射線画像変換パネルを提供する。 - 特許庁

An electrically insulating substrate 10, a photosensitive layer 12 laminated on the surface of the substrate 10, a heat generating resistor 14 embedded in a linear groove part 13 formed by exposing the photosensitive layer 12, and a plurality of electrodes 15, 16 provided in contact with the heat generating resistor 14 on the photosensitive layer 12 surface in the heat generating resistor 14 elongation direction, are provided.例文帳に追加

電気絶縁性の基板10と、基板10の表面に積層された感光体層12と、感光体層12を露光することにより形成された線状溝部13に埋設された発熱抵抗体14と、感光体層12の表面に発熱抵抗体14と接触して発熱抵抗体14の延在方向に設けられた複数の電極15,16 とを有してなる。 - 特許庁

In a manufacturing method for a spread system metallic honeycomb, a release agent 1 to be applied while exposing textures 5 in striation shapes on a base material 2 is constituted by containing ceramics powder whose particle diameter is 5 μm or below, having a contend of 5-60 wt.%, binder and a solvent having a content of 30-94 wt.%.例文帳に追加

展張方式の金属ハニカムの製造方法において、母材２に条線状に地肌５を残しつつ塗布される離型剤１が、含有率５重量％以上で６０重量％以下の粒径５μｍ以下のセラミックス粉末と、バインダーと、含有率３０重量％以上で９４重量％以下の溶剤と、を含有してなる。 - 特許庁

The method for cleaning the plate surface of the planographic printing plate is characterized by using an emulsion type plate surface cleaner containing a soy polysaccharide for cleaning the plate surface of the planographic printing plate obtained by image exposing the positive-working infrared ray sensitive planographic printing plate having an image forming layer containing an infrared ray absorbing dye with an infrared ray and developing it.例文帳に追加

赤外線吸収染料を含有する画像形成層を有するポジ型赤外線感光性平版印刷版を赤外線画像露光し、現像した後、得られた平版印刷版の版面洗浄に、大豆多糖類を含有する乳化型版面洗浄剤を用いることを特徴とする平版印刷版の版面洗浄方法。 - 特許庁

Photographic processes are carried out by using a first mask (transfer photomask) 1 having a first pattern 2 for transfer, and a second mask (correction photomask) 3 having a second pattern 4 for correction to make the influence of local flare caused during exposure through the first mask uniform in the entire exposure region, and by exposing through the masks in a random order.例文帳に追加

転写用の第１のパターン２が形成されてなる第１のマスク（転写用フォトマスク）１と、第１のマスクにより露光する際に生じるローカルフレアの影響を、露光領域全体で均一化する補正用の第２のパターン４が形成されてなる第２のマスク（補正用フォトマスク）３とを用い、両者により順不同で露光し、フォトリソグラフィーを行う。 - 特許庁

The method for cleaning the plate surface of the planographic printing plate is characterized by using an emulsion type plate surface cleaner containing a soy polysaccharide for cleaning the plate surface of the planographic printing plate obtained by image exposing the negative-working infrared ray sensitive planographic printing plate having an image forming layer containing an infrared ray absorbing dye with an infrared ray and developing it.例文帳に追加

赤外線吸収染料を含有する画像形成層を有するネガ型赤外線感光性平版印刷版を赤外線画像露光し、現像した後、得られた平版印刷版の版面洗浄に、大豆多糖類を含有する乳化型版面洗浄剤を用いることを特徴とする平版印刷版の版面洗浄方法。 - 特許庁

The method includes steps of: forming a resist film (3) on a substrate (1) to be processed having a film to be processed; exposing the resist film with a desired pattern; developing the resist film to form a resist pattern; and heating the resist pattern at a temperature higher than the deprotection temperature and lower than the glass transition temperature Tg of the resist.例文帳に追加

被加工膜を有する被加工基板（１）上にレジスト膜（３）を形成する工程と、前記レジスト膜に所望のパターンを露光する工程と、前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンに対して該レジストの脱保護温度よりも高温かつガラス転移温度Ｔｇよりも低温にて加熱する工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a display device and a manufacturing method of a display device capable of omitting a high-vacuum process, after formation of an electron emission part by eliminating a process of exposing the electron emitting part in the atmosphere, capable of reducing the manufacturing cost, restraining to a minimum a volume of gas molecules desorbing from a substrate surface, and restraining degradation of the lifetime.例文帳に追加

電子放出部を大気に晒す工程をなくすことで、電子放出部形成後の高真空工程を省略でき、製造コストを低減できるとともにガス分子が基板表面から脱離する量を最小限に抑え、寿命劣化を抑制することが可能となる表示装置及び表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises exposing only the desired aluminum electrode by using a positive-type photosensitive polyimide resin as a photoresist (step 1), generating a zinc film on the exposed surface of the aluminum electrode, with zincating treatment (step 2), electroless plating the desired aluminum electrode with nickel, while starting with a displacement reaction of nickel with the zinc film (step 3), and finally removing the photoresist (step 4).例文帳に追加

ポジ型感光性ポリイミドをフォトレジストとして、所望のアルミ電極のみを露出させ（工程１）、ジンケート処理で露出しているアルミ電極の表面に亜鉛膜を生成し（工程２）、この亜鉛膜との置換反応を初期反応としてニッケル膜を所望のアルミ電極上に無電解めっきし（工程３）、最後に、フォトレジストを除去する（工程４）。 - 特許庁

The optical pattern etching method includes steps of: forming a photosensitive hydrofluoric acid etching material on a semiconductor or quartz glass substrate; exposing the substrate along a pattern; heating the substrate; subjecting the substrate to development by using an alkali developing solution; and subjecting the substrate to hydrofluoric acid etching by using a solution having ≥30% to ≤50% concentration of hydrofluoric acid.例文帳に追加

光パターンエッチング方法は、半導体または石英ガラスからなる基板上に感光性フッ酸エッチング材料を形成する工程と、基板をパターン露光する工程と、基板を加熱する工程と、基板にアルカリ現像液を用いて現像を施す工程と、基板にフッ酸濃度30％以上50％以下の溶液を用いてフッ酸エッチングを行う工程とを備える。 - 特許庁

To provide an organic photoconductor being suitable for an image forming method for forming electrostatic latent images having high density on the organic photoconductor by exposing the images to the light of a semiconductor laser having oscillation wavelength of 350-500 nm or a light-emitting diode and having high photosensitivity and excellent repetition characteristics and reproducibility of dot image, and to provide the image forming method and device using the same.例文帳に追加

発振波長が３５０〜５００ｎｍの半導体レーザ又は発光ダイオードの像露光を用いて有機感光体上に高密度の静電潜像を形成する画像形成方に適し、感度が高くかつ繰り返し特性およびドット画像の再現性に優れる有機感光体、それを用いた画像形成方法および画像形成装置を提供する。 - 特許庁