exposingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6234件
The formed product of cellulose substantially composed of only cellulose and having ≥50°contact angle to water is obtained by carrying out heating/drying treatment of cellulose in the presence of caustic soda or carrying out mechanical kneading/powdering in the presence of hydrophobic organic solvent and exposing a specific crystal surface [(110)face] or a sheet structure derived therefrom on cellulose surface.例文帳に追加
セルロースを苛性ソーダ存在下で加熱・乾燥処理するか、疎水性有機溶媒存在下で機械的な混練・粉砕処理をおこなうことにより、特定の結晶面((110)面)またはそれに由来するシート構造をセルロース表面に露出させて得られる、実質上セルロースのみからなり、水に対する接触角度が50°以上であるセルロース成形体。 - 特許庁
To provide a method of detecting an unspecified imaging apparatus for imaging a specific position or place for preventing and exposing spy photo related to copyright piracy, and especially to provide a method and device for detecting an unspecified imaging apparatus for performing illegal photographing while light quantity concentrates on a predetermined range as in a movie theater, a theater, and a concert hole.例文帳に追加
著作権侵害などに関わる盗撮防止および摘発のために、特定位置または場所を撮像している不特定の撮像機器を検出する方法であり、特に、映画館、劇場、コンサートのように、所定範囲に光量が集中している中で不正撮影を行う不特定撮像装置を検出する方法および装置を提供することにある。 - 特許庁
The thin-film-forming apparatus for forming the thin film on the substrate by applying high-frequency voltage on facing electrodes to generate discharge plasma, thereby exciting a gas containing a thin-film-forming gas, and exposing the substrate to it, has a means for controlling oxygen concentration at least in a region which allows presence of the excited gas.例文帳に追加
高周波電圧を対向する電極間に印加することにより放電プラズマを発生させ、薄膜形成ガスを含有するガスを励起して基材を晒すことにより当該基材上に薄膜を形成する薄膜形成装置において、少なくとも前記励起ガスの存在領域での酸素濃度の制御手段を有する薄膜形成装置。 - 特許庁
The method of patterning the conductive tin oxide film using a solution containing a tin compound and a dopant compound soluble in an organic solvent, dissolved in the organic solvent comprises drying a dry film within the range of retaining solubility in a developer, exposing it to a light containing a ultraviolet region to make it insoluble in part and etching a non- exposed portion with the developer.例文帳に追加
有機溶媒に可溶なスズ化合物とドーパント化合物を該有機溶媒に溶解した溶液を用い、該乾燥膜が現像液に対する溶解性を保持する範囲内で乾燥して、紫外領域を含む光により露光することで部分的に不溶にし、現像液で未露光部をエッチングすることを特徴とする導電性酸化スズ膜のパターニング方法。 - 特許庁
An article to be molded having a connection electrode standing on the electrode forming face while being connected electrically with an electrode an electrode is clamped, together with a resin material, by the upper and lower dies 5a, 5b of a molding die through a sealing film 14 and then the article is resin sealed while exposing the top end face of the connection electrode.例文帳に追加
電極形成面に電極と電気的に接続された接続電極が立設された被成形品を、封止用フィルム14を介してモールド金型の上型5aと下型5bとで樹脂材とともにクランプすることにより、前記接続電極の頂部端面を露出させて被成形品を樹脂封止する樹脂封止装置である。 - 特許庁
In platemaking plating method for enabling the lead frame or forming a semiconductor package to be subjected to metal plating required or wire bonding, there is a process for forming a resist film made of photoresist in the entire lead frame, and then exposing only the entire back to light, and then performing the pattern exposure of the front for development, metal plating, and resist peeling.例文帳に追加
半導体パッケージを形成するリードフレームにワイヤーボンディングのために必要な金属めっきを施す製版めっき方法において、リードフレーム全体にフォトレジストのレジスト膜を形成した後、まず先に裏面のみを全面露光し、次いで表面のパターン露光を行ってから、現像、金属めっき、レジスト剥離を行う工程を含むようにする。 - 特許庁
A treating device by radicals comprises an injection nozzle (3) injecting the wastewater containing the hardly decomposable organic materials, at least a pair of discharge electrodes (4, 6) exposing a mist of wastewater injected from the injection nozzle to a high electric field and a high voltage source (8) applying a high voltage for discharging the discharge electrodes.例文帳に追加
本発明のラジカル処理装置は、難分解性有機物を含有し得る排水を噴出する噴出ノズル(3)と、この噴出ノズルから噴出された霧状の排水を高電界にさらすための少なくとも一対の放電電極(4,6)と、この放電電極に放電のための高電圧を印加する高圧電源(8)とを備える。 - 特許庁
The method for manufacturing the printed wiring board has a blackening step of blackening the surface of a conductive layer provided on an insulating substrate; a photolithography step of laminating a dry film on the blackened surface, and exposing and developing the dry film; and an etching step of etching the conductive layer exposed by the photolithography step to form the circuit pattern.例文帳に追加
絶縁基板上に設けられた導電層の表面を黒化する黒化処理工程と、黒化された該表面にドライフィルムを積層し、該ドライフィルムを露光、現像するフォトリソグラフィ工程と、該フォトリソグラフィ工程により露出した導電層をエッチングして回路パターンを形成するエッチング工程とを有するプリント配線板の製造方法である。 - 特許庁
The mounting structure combined with a recess provided at the bottom of a rotatable wiper contained in the housing except an opening for exposing the wiper bottom outside facilitates mounting of the housing under the handlebar of a vehicle because the recess is formed in such dimensions as able to accommodate a stem nut existing in the upper part of a steering shaft.例文帳に追加
また、回転可能なワイパーの底面を外部に露出させる開口を除いて、ハウジング内に含まれる回転可能なワイパーの底面に存在する凹部と組み合わせられた取付構造体は、凹部は操舵シャフトの上部に存在するステムナットを収容するような寸法で構成されるので、ハウジングを車両のハンドルバーの下に取り付けるのを容易にする。 - 特許庁
This apparatus comprises a cover plate 7 for exposing about half the surface of a wafer 2 to be applied with standard particles and covering the other half on the opposite side thereof, a wafer receiving member 6 for fixing the wafer 2 at the backside of this covered wafer 2, and air-purging means for blowing gas off on the covered half surface.例文帳に追加
ウェハ2の表面にて標準粒子を塗付する略半分の面は露出しその反対側の略半分の面を覆う覆い板7と、この覆われたウェハ2の裏面側にて該ウェハ2を固定するウェハ受け部材6と、この固定されたウェハ2の上記覆われた略半分の面の表面側にガスを吹き出してエアパージする手段とを備えたものである。 - 特許庁
The method involves: (a) forming over a substrate a layer of a photosensitive composition; (b) exposing a portion of the layer to actinic radiation; (c) developing the exposed layer to form a waveguide core structure; and (d) heating the waveguide core structure to a temperature and for a time effective to reflow the structure such that it becomes at least partially rounded in cross-section.例文帳に追加
(a)基体上に感光性組成物の層を形成し;(b)化学線で層の一部を露光し;(c)露光層を現像して導波路コア構造を形成し;(d)導波路コア構造が少なくとも部分的に断面が丸くなるようその構造をリフローするのに効果的な温度まで且つ時間の間、導波路コア構造を加熱することを含む。 - 特許庁
The magnetic data are destroyed or the like by exposing magnetism (with a strength enough to destroy the magnetic data) generated (by a method of using a coil or the like) from the outside of the magnetic recording medium or a device or the like incorporating the medium through the utilization of it that the magnetic data written on the magnetic recording medium are affected by other magnetism or destroyed depending on the strength of the magnetism.例文帳に追加
磁気記録媒体に書き込まれている磁気データが、他の磁気に影響を受け、また、その磁気の強さによっては壊れてしまうこと利用し、磁気記録媒体及び同媒体を内蔵した機器等の外部から(コイルを用いる方法等で)発生させた磁気(磁気データを壊してしまう強さ)をあびせることにより磁気データを破壊等する。 - 特許庁
The control board protection seal is constituted so that an acrylic sticky member 2 is applied on one surface of a transparent synthetic resin sheet 1 made of polyvinyl chloride, a film-like peeling member 3 is pasted to the surface of the sticky member 2, and a notch part 4 for inserting a connection line and a hole 5 for exposing an electronic part are formed for the synthetic resin sheet 1.例文帳に追加
本発明の制御基板防護シールは、透明の塩ビ製の合成樹脂シート1の一面にアクリル系の粘着部材2が塗布され、この粘着部材2の表面にフィルム状の剥離部材3が貼着され、更に合成樹脂シート1に接続線挿入用切欠部4および電子部品露出用穴5が開設された構成とするものである。 - 特許庁
In this electronic camera and portable telephone system with a camera, a first housing having a hinge is supported by a second housing in a freely openable and closable way, the surface of the first housing exposing with the second housing closed and the surface of the second housing are respectively provided with an electronic camera each, and in addition, a means for selecting a camera to be used for photographing is provided.例文帳に追加
本発明の電子カメラおよびカメラ付き携帯電話装置は、ヒンジを有する第一の筐体に第二の筐体を開閉自在に支承して、第二の筐体を閉じた状態で露出している第一の筐体と第二の筐体の表面にそれぞれ電子カメラを一つずつ設けるとともに、撮影するカメラを選択する手段を設けている。 - 特許庁
A projecting conductor 14 is pressed from the side of a first main surface 16 of the ceramic green sheet 11 and is buried inside the ceramic green sheet 11, a projection 18 formed at the side of a second main surface 17 of the ceramic green sheet 11 is removed, thus exposing the projecting conductor 14 to the side of the second main surface 17 of the ceramic green sheet 11.例文帳に追加
セラミックグリーンシート11の第1の主面16側から突起状導体14を押し込み、これをセラミックグリーンシート11の内部に埋め込むとともに、セラミックグリーンシート11の第2の主面17側に形成された凸部18を除去することによって、突起状導体14をセラミックグリーンシート11の第2の主面17側に露出させる。 - 特許庁
On the insulating substrate, a protection film is formed which has a contact hole exposing the capacity auxiliary electrode in the through-hole.例文帳に追加
ゲート線及びデータ線と接続され、ドレイン電極を有する薄膜トランジスタと、ドレイン電極に接続され、容量性補助電極と重畳し、容量性補助電極上に位置する開口部を有する容量性結合電極が形成されている絶縁基板上には、開口部内において容量性補助電極を露出する接触孔を有する保護膜が形成されている。 - 特許庁
The method for processing a photoresist composition includes steps of: (a) applying a photoresist composition on a substrate; (b) applying a barrier layer composition that comprises one or more components other than resin having fluorinated backbone substitution above the photoresist composition; and (c) immersion exposing the photoresist layer to radiation activating for the photoresist composition.例文帳に追加
(a)基体の上にフォトレジスト組成物を適用する工程(b)フォトレジスト組成物の上に、フッ素化主鎖置換を有する樹脂以外の、1種以上の成分を含有するバリアー層組成物を適用する工程(c)フォトレジスト層を、フォトレジスト組成物を活性化する放射線に浸漬露光する工程を含む、フォトレジスト組成物の処理方法。 - 特許庁
A colored layer applying process for applying and forming a negative photosensitive material 13 for a colored layer on a substrate 10A for forming the color filter, an exposure process for collectively exposing a colored layer forming area via the exposure mask 20 by a proximity exposure method and a processing process of developing, drying and baking treatment are performed to form the colored layer.例文帳に追加
カラーフィルタ形成用基板10Aに、ネガ型の感光性の着色層用材料13を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域をプロキシミティ露光方法により露光用マスク20を介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、着色層を形成する。 - 特許庁
In addition, this preferable conductive material can be provided by using this manufacturing method of the conductive material characterized by exposing the conductive material precursor, thereafter subjecting it to a hardening/developing process and developing it by a developing agent containing a silver halide solvent after the hardening/developing process.例文帳に追加
さらに、該導電性材料前駆体を露光後、硬化現像処理することを特徴とする導電性材料の製造方法を用いることで、また、更に硬化現像処理の後にハロゲン化銀溶剤を含有する現像液で現像処理することを特徴とする導電性材料の製造方法を用いることでより好ましい導電性材料を得ることができる。 - 特許庁
This semiconductor device is provided with a semiconductor substrate 10 having a plurality of electrode pads 40, and a passivation film 50 having an opening 52 for exposing the central region of each of those electrode pads 40; and a pump 60 electrically connected to each of the electrodes 40, and formed so as to be overlapped with the opening 50 and its end.例文帳に追加
半導体装置は、複数の電極パッド40と、それぞれの電極パッド40の中央領域を露出させる開口52を有するパッシベーション膜50とを有する半導体基板10と、それぞれの電極パッド40と電気的に接続されてなり、開口50及びその端部とオーバーラップするように設けられたバンプ60とを含む。 - 特許庁
To provide a plane light source device, using lamps as a light source, enabling narrower framing coping with fear that it would be difficult to achieve narrower framing by drawing around lead wires of the lamps, and unnecessarily exposing the device to the outer face of a back case might damage it by external force.例文帳に追加
ランプを光源として使用した面光源装置においては、ランプのリード線の引き回しによって狭額縁化を達成することが難しく、また不必要にバックケースの外面に露呈させてしまうことで外力によって損傷する虞があったが、これらの恐れを払拭しつつ狭額縁化を可能とした面光源装置を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the electromagnetic wave shielding film comprises (1) a step of laminating a photoresist containing a plating substrate material on a transparent base, (2) a step of forming a geometrical photoresist pattern by exposing and developing the photoresist, and (3) a step of forming a metal layer on the plating substrate material of the photoresist surface formed with the photoresist pattern.例文帳に追加
(1)透明基材上にメッキ下地材料を含有させたフォトレジストを積層させる工程と、(2)前記フォトレジスト層を露光、現像することにより幾何学的なフォトレジストパターンを形成させる工程と、(3)前記フォトレジストパターンを形成したフォトレジスト表面部のメッキ下地材料に金属層を形成させる工程と、を含む方法である。 - 特許庁
The method for processing the food comprises reducing oxidation of ingredients in the food by exposing overheated steam to the food and continuously attaching condensed water to the food surface to heat the food by condensation and heat transmission of water and further keeping the oxygen concentration of atmosphere in the circumference of the food in the lower state than the oxygen concentration in the air.例文帳に追加
食品に過熱水蒸気を曝して該食品表面に凝縮水を連続的に付着させることにより、該食品を水の凝縮伝熱により加熱すると共に、前記食品周囲の雰囲気の酸素濃度を大気中の酸素濃度以下にして、該食品内の成分の酸化を低減することを特徴とする、食品加工方法。 - 特許庁
Circular light shielding sections 25 are formed with the shape of matrix in regions corresponding to pillar-type electrode forming regions on an exposure mask 24 for exposing a negative type dry photo resist film for forming a plating resist film for the pillar-type electrode, while light shielding sections 26 for forming grooves for parting the resist are formed in regions except the electrode forming regions.例文帳に追加
柱状電極形成用のメッキレジスト膜を形成するためのネガ型のドライフォトレジストフィルムを露光するための露光マスク24には、柱状電極形成領域に対応する領域に円形状の遮光部25がマトリクス状に形成され、それ以外の領域にレジスト分断用溝形成用遮光部26が形成されている。 - 特許庁
By exposing the resin laminate comprising a resin layer (A) consisting of a resin (a) and a resin layer (B) consisting of a resin (b) of different kind from the resin (a) to the solvent capable of selectively dissolving the resin (a), and the resin layer (B) left behind is analyzed, or the obtained solution is analyzed.例文帳に追加
樹脂(a)からなる樹脂層(A)、及び、上記樹脂(a)とは異なる種類の樹脂(b)からなる樹脂層(B)を有する樹脂積層体を、樹脂(a)を選択的に溶解することのできる溶媒にさらすことにより、樹脂(a)を選択的に溶解除去したあとに、残された樹脂層(B)を分析するか、又は、得られた溶液を分析する。 - 特許庁
This ozone cleaner comprises an air pump 5 for taking in and feeding the atmosphere, an ozone/negative ion generating means 9 for generating ozone from oxygen in the atmosphere supplied from the air pump 5 and generating negative ions and supplying the ozone and the negative ions, and a sterilizing bag 3 for taking the ozone and the negative ions therein and exposing the subject of sterilization 40 to the ozone and the negative ions.例文帳に追加
大気を取り込み送出するエアポンプ5と、エアポンプ5から供給された大気中の酸素からオゾンを発生させると共に負イオンを発生させてオゾン・負イオンを供給するオゾン・負イオン発生手段9と、オゾン・負イオンを取り込んで被殺菌物40をオゾン・負イオンに晒す殺菌袋3とを備えた構成としたものである。 - 特許庁
After decarburizing and deoxidizing-refining molten steel in a first refining facility capable of exposing the molten steel to vacuum or reduced pressure atmosphere, slag containing CaO is added into the molten steel, and after promoting mainly desulfurization under existence of the slag, the molten steel is cast to make a consumable electrode and this consumable electrode is made to the cast block with a vacuum arc remelting method.例文帳に追加
溶鋼を真空または減圧雰囲気に暴露することが可能な第一の精錬設備内で脱炭、脱酸精錬をした後溶鋼に、CaOを含むスラグを添加して該スラグ存在下で主として脱硫を促進した後鋳造して消耗電極とし、該消耗電極を真空アーク再溶解法により鋳塊とする。 - 特許庁
This device is based on a knowledge that, basically, by exposing a heat radiation plate and forming a plurality of indented portions, irregular reflection is caused to increase luminance and the surface area of the heat radiation plate is increased to improve heat dissipation performance, and a knowledge that by applying an Itro processing, heat dissipation is remarkably improved.例文帳に追加
本発明は,基本的には,放熱板を露出させ複数のくぼみ部を形成させることで,乱反射を起こして輝度を高めることができるとともに,放熱板の表面積を広くできるので,放熱性も向上させることができるという知見や,イトロ処理を施すことで,放熱性を著しく高めることができるという知見に基づく。 - 特許庁
The photographic printing device 1 is used by combining with a display card 4 provided with a card interface to fetch a picture data from outside, a flash ROM to store the picture data and a display panel unit to display the picture based on the picture data, and forms the picture by exposing a photosensitive material S with the light of the display panel unit.例文帳に追加
印画装置1を、外部から画像データを取り込むためのカードインターフェースと、上記画像データを記憶するためのフラッシュROMと、上記画像データに基づいて画像を表示するための表示パネルユニットとを備えるディスプレイカード4と組み合わせて用い、上記表示パネルユニットの光で感光材Sを露光することにより画像を形成する。 - 特許庁
The pattern forming method includes (1) applying a resist composition for negative development comprising a resin of which the polarity increases by the action of an acid to thereby reduce its solubility in a negative developer, (2) exposing the composition, and (3) performing development with a negative developer comprising an organic solvent having a metal impurity content of ≤100 ppb.例文帳に追加
(ア)酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、(イ)露光工程及び(ウ)金属不純物の含有量が、100ppb以下の有機溶剤を含有するネガ型現像液を用いて現像を行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁
To provide a fuel cell system for generating electric power by supplying liquid fuel to a membrane electrode assembly, wherein the membrane electrode assembly is prevented from exposing from the liquid fuel and drying due to vaporization of the liquid fuel and so on during stoppage of the above-mentioned fuel cell system and thus restarting of the above-mentioned fuel cell system is stabilized.例文帳に追加
膜電極組立体に液体燃料を供給することで発電を行なう燃料電池システムにおいて、上記燃料電池システムの停止時において、上記液体燃料の気化等による上記膜電極組立体の液体燃料からの露出および乾燥を防止して、上記燃料電池システムの再起動の安定化を図る。 - 特許庁
The organic light-emitting diode display includes a display panel assembly 50, a support member 70 supporting edges of the display panel assembly and including an opening 715 exposing a rear surface of the display panel assembly, and a buffer member 80 attached to the rear surface of the display panel assembly exposed through the opening of the support member.例文帳に追加
本発明による有機発光表示装置は表示パネルアセンブリー50と、前記表示パネルアセンブリーの周縁を支持すると共に、前記表示パネルアセンブリーの背面を露出する開口部715を有する支持部材70と、前記支持部材の開口部を通して露出された前記表示パネルアセンブリーの背面に付着された緩衝部材80と、を含む。 - 特許庁
The pattern forming method includes steps 201 and 202 of forming a chemically amplified resist layer on a semiconductor substrate; a step 203 of patternwise exposing the chemically amplified resist layer; a step 204 of heating the chemically amplified resist layer after the exposure; a first developing step 205 in which alkali concentration is high; and a second developing step 206 in which alkali concentration is low.例文帳に追加
半導体基板上に化学増幅型レジスト層を形成する工程201、202と、化学増幅型レジスト層をパターン露光する工程203と、露光処理後に化学増幅型レジスト層を加熱する工程204と、アルカリ濃度の高い第一現像処理工程205、その後アルカリ濃度の低い第二の現像処理工程206を含む。 - 特許庁
To provide a water-in-oil type gel aromatic agent composition that releases an aromatic agent rapidly for good smell, controls residual rate of the aromatic agent and suppresses separation of water or decrease in gel strength caused by returning to a room temperature after freezing or exposing to a high temperature compared with water type gel aromatic agents.例文帳に追加
香料の揮散速度が速く、匂い立ちが良好であり、且つ香料の残存割合を抑制することができ、また、水性ゲルタイプの芳香剤に比して、凍結させた後に再び室温に戻したり、高温に暴露した場合等に生じる、離水やゲル強度の低下等が抑制された油中水型ゲル状芳香剤組成物を提供すること。 - 特許庁
The nonvolatile semiconductor storage device includes a plurality of lower electrodes 11 arranged in a matrix form; a plurality of recording layer patterns 13 provided on the lower electrodes 11 and containing a phase change material; and an interlayer insulation film 12 provided between the lower electrodes 11 and the recording layer patterns 13, and including a plurality of openings 12a for exposing parts of the lower electrodes 11.例文帳に追加
マトリクス状に配置された複数の下部電極11と、下部電極11上に設けられ、相変化材料を含む複数の記録層パターン13と、下部電極11と記録層パターン13との間に設けられ、下部電極11の一部を露出させる複数の開口部12aを有する層間絶縁膜12とを備える。 - 特許庁
The lithography method is characterized by applying the resist containing an aliphatic polyester selected from a group comprising polylactic acid, polybutylene succinate and polycaprolacton on a body to be treated, selectively exposing a part of the resist to ultraviolet rays so as to decompose and volatilize the resist on the part irradiated with the ultraviolet rays and making the resist pattern on the part not irradiated with the ultraviolet rays remain.例文帳に追加
被処理体上に、ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネートおよびポリカプロラクトンからなる群より選択される脂肪族ポリエステルを含有するレジストを塗布し、前記レジストの一部に選択的に紫外線を露光して紫外線照射部のレジストを分解して揮発させ、紫外線未照射部にレジストパターンを残存させることを特徴とするリソグラフィー方法。 - 特許庁
The manufacturing method of the structure includes a step for temporarily assembling the structure using the component having the opening portion developing along the welding line of each jointed component and exposing the welding line, and a step for joining each predetermined component by welding the welding line of temporarily assembled structure.例文帳に追加
さらに、本発明に関わる構造体の製造方法は、接合される構成部材同士の溶接線に沿って展開し、溶接線を露呈させる開放部を有する構成部材を用いて構造体を仮組みする工程と、仮組みした構造体の溶接線を溶接して所定の構成部材同士を接合する工程とを含んでいる。 - 特許庁
The exposure device EX is provided with an exposure part S for exposing a pattern of mask M to a substrate P, a library LB which can keep a mask case C for storing the mask M used by the exposure part S, and a conveyance system H1 having an arm 20 for conveying to library LB while being able to hold each of the mask M and the mask case C.例文帳に追加
露光装置EXは、マスクMのパターンを基板Pに露光する露光部Sと、露光部Sで用いるマスクMを収納するマスクケースCを保管可能なライブラリLBと、マスクMとマスクケースCとのそれぞれを保持可能であるとともに、ライブラリLBに対して搬送するアーム部20を有する搬送系H1とを備えている。 - 特許庁
To deepen understanding of human kind by forming a functional center consisting of DNAs as a base for constructing a human body, cells, protein factors, and cell groups as a literature operator, setting its drama as a depth novel, setting a conventional novel to a surface-layer novel, and forming double-layer literature for exposing both of them on a surface simultaneously.例文帳に追加
人体を構築する基本としてのDNA、細胞、タンパク因子、及び細胞集団よりなる機能中枢を、文学的演算子となし、それらのドラマを深層小説とし、従来の小説を表層小説とし、両者を一挙に画面の上に表出する二層文学として、人類への理解を深化させることを課題とする。 - 特許庁
This control method is through exposing a semiconductor 1 put in an electric field to coherent pulse pumping light P1 and probe light P2, and the variations of the transmissivity and reflectance of the semiconductor 1 are controlled by varying electric field strength and a time difference between the pumping light P1 and the probe light P2 or electric field strength or a time difference between the pumping light P1 and the probe light P2.例文帳に追加
電界中に置いた半導体1にコヒーレントなパルスであるポンプ光P1とプローブ光P2とを当てて行うものであって、電界の強度及びポンプ光P1とプローブ光P2との時間差、または、電界の強度若しくはポンプ光P1とプローブ光P2との時間差を変化させることで、半導体1の透過率、反射率の変化を制御する。 - 特許庁
In the exposing unit comprising an array of a plurality of light emitting elements 101a-101n arranged in a specified pattern, the number of emission times of each light emitting element under exposure (print) is measured as shown at 102a-102n and the quantity of light of each light emitting element is regulated based on the number of emission times thus measured.例文帳に追加
複数の発光素子101aないし101nを所定のパターンに配置した発光素子アレイを用いた露光装置において、露光(印字)中の各発光素子の発光回数を102aないし102nに示すように計測し、計測した各発光素子の発光回数に基づいて、各発光素子の光量を調整する。 - 特許庁
A process for producing crosslinked hollow pipes comprises subjecting an ethylene/α-olefin copolymer, a polypropylene and an organic silane compound to graft reaction in the presence of a free radical generator, molding the resulting reaction product into a hollow pipe, then cutting the hollow pipe to a predetermined length, and exposing the cut hollow pipe in the state of providing bending to water in the presence of a silanol condensation catalyst to effect crosslinking.例文帳に追加
エチレン−αオレフィン共重合体とポリプロピレンと有機シラン化合物とを遊離ラジカル発生剤の存在下でグラフト反応させ、この反応物を中空パイプに成形した後所定長さに切断し、この切断した中空パイプに曲げを施した状態でシラノール縮合触媒の存在下で水分にさらし、架橋する。 - 特許庁
In exposing the liquid crystal composition containing the photosensitive material, the orientation of the liquid crystal molecules is adjusted with application of voltage to a liquid crystal composition layer and the orientation of the liquid crystal molecules is made nearly constant, or the orientation of the liquid crystal molecules is made uniform by adjusting construction of the liquid crystal display device, or a display defect is controlled so as to be excluded from a display region.例文帳に追加
感光性の材料を含む液晶組成物を感光させるに際して、液晶組成物層に電圧を印加して液晶分子の配向を調整し、液晶分子の配向をほぼ一定にし、あるいは液晶表示装置の構造を調整して液晶分子の配向を均一化し、または表示欠陥を表示領域外に規制する。 - 特許庁
When a second enclosure section 2 having a display section 7 is set to a second position for exposing the operation section 3 of the first exposure 1, and when the second enclosure 2 is set to a second position, the display unit 7 indicates whether the turning is made in a clockwise direction to the first enclosure 1 or in a counterclockwise direction.例文帳に追加
表示部7を有する第2の筐体部2が第1の筐体部1の操作部3を露出させる第2の位置となされたとき、この第2の筐体部2が第2の位置となされるときに第1の筐体部1に対して時計回りに回動されたか反時計回りに回動されたかを示す表示を表示部7において行う。 - 特許庁
The immersion exposure process is characterized in that the resolution of the resist pattern is improved by exposing a resist film to light via the nonaqueous liquid of a certain thickness which has a refractive index higher than that of the air and is disposed at least on the resist film within the path where a lithography exposure light propagates through to the resist film.例文帳に追加
前記液浸露光プロセスが、リソグラフィー露光光がレジスト膜に到達するまでの経路の少なくとも前記レジスト膜上に、空気より屈折率が大きい所定厚さの前記非水性液体を介在させた状態で、前記レジスト膜を露光することによってレジストパターンの解像度を向上させる構成であることを特徴とする。 - 特許庁
This food processing method is characterized by heating the food by the condensing heat transfer of the water by continuously sticking the condensate to the food surface by exposing superheated steam to the food, and reducing the oxidation of the component in the food by setting the oxygen concentration of the atmosphere around the food to the oxygen concentration or less in the atmosphere.例文帳に追加
食品に過熱水蒸気を曝して該食品表面に凝縮水を連続的に付着させることにより、該食品を水の凝縮伝熱により加熱すると共に、前記食品周囲の雰囲気の酸素濃度を大気中の酸素濃度以下にして、該食品内の成分の酸化を低減することを特徴とする、食品加工方法。 - 特許庁
To solve the problem of causing breakage of a silicon-based material when a silicon nitride film deteriorates and expands, when manufacturing a microstructure having a hollow space, by processing a sample of exposing a silicon oxide film from an opening of the siliconbased material, covering the silicon oxide film with the siliconbased material, and forming the silicon oxide film on the silicon nitride film.例文帳に追加
シリコン窒化膜上にシリコン酸化膜が形成されており、そのシリコン酸化膜がシリコン系材料で覆われており、そのシリコン系材料の開口からシリコン酸化膜が露出している試料を加工して中空空間を有するマイクロ構造体を製造すると、シリコン窒化膜が変質膨張してシリコン系材料の破壊が生じる。 - 特許庁
The manufacturing method of a substrate with a transparent conductive film includes: a step of depositing an Sn-containing indium oxide film on a transparent substrate by a sputtering method; and a step of exposing the substrate having the Sn-containing indium oxide film in plasma generated from gaseous oxygen while the gas pressure of gaseous oxygen in a chamber is ≥300 Pa.例文帳に追加
透明基板上に、Sn含有酸化インジウム膜をスパッタリング法により形成する工程と、チャンバー中の酸素ガスのガス圧を300Pa以上とし、酸素ガスより生成したプラズマ中に、前記Sn含有酸化インジウム膜付き基板を曝露する工程とを、含むことを特徴とする透明導電膜付き基板の製造方法である。 - 特許庁
The method includes in a first reaction chamber converting at least a part of the copper containing surface layer 4 into a copper halide surface layer 5 and in a second reaction chamber removing at least a part of the copper halide surface layer 5 by exposing it to a photon atmosphere 6, thereby initiating formation of volatile copper halide products 8.例文帳に追加
この方法は、第1反応チャンバ中で、銅含有表面層4の少なくとも一部を、ハロゲン化銅表面層5に変える工程と、第2反応チャンバ中で、光子含有雰囲気6に晒して、ハロゲン化銅表面層5の少なくとも一部を除去して、揮発性のハロゲン化銅生成物8の形成を始める工程とを含む。 - 特許庁
Since the light guide 31a and the light guide 31 are joined at a joining jig 38 into a light guide 35, each light from two light source units 40a and 40b being guided after all through the light guide 35 to a lens system 29 and cast to an edge part of a substrate (W) held by a spin chuck 13 to carry out an edge exposing process.例文帳に追加
ライトガイド31aとライトガイド31bとは合流用治具38においてライトガイド35に合流されるため、2つの光源ユニット40a,40bから出射されたそれぞれの光は結局ライトガイド35によってレンズ系29まで導かれ、スピンチャック13に保持された基板Wの端縁部に向けて出射されてエッジ露光処理が進行する。 - 特許庁
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