「exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(111ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for stabilizing a Si-O containing ceramic coating derived from a hydrogen silsesquioxane resin contains a process for exposing the Si-O containing ceramic coating derived from the hydrogen silsesquioxane resin to an atmosphere containing hydrogen gas for a time and at a temperature sufficient for stabilizing the dielectric constant of the coating.例文帳に追加

ハイドロジェンシルセスキオキサン樹脂から誘導されたＳｉ−Ｏ含有セラミック皮膜を、この皮膜の誘電率を安定化するのに充分な時間及び温度で、水素ガス含有雰囲気に曝すことを含む、ハイドロジェンシルセスキオキサン樹脂から誘導されたＳｉ−Ｏ含有セラミック皮膜の誘電率を安定化させる方法。 - 特許庁

The higher order silane composition contains the higher order silane compound obtained by photopolymerizing a solution of a photopolymerizable silane compound or a photopolymerizable silane compound in a liquid state by exposing it to ultraviolet irradiation.例文帳に追加

本発明は、光重合性を有するシラン化合物の溶液又は光重合性を有する液体状のシラン化合物に、紫外線を照射することにより光重合してなる高次シラン化合物を含有することを特徴とする高次シラン組成物を提供することにより、前記課題を解決したものである。 - 特許庁

The method for inducing or enhancing chondrogenesis in vivo or in vitro is performed by exposing the cells in vivo or in vitro to an extracellular matrix comprising type I collagen, type II collagen or a mixture of type I or type II collagen and hyaluronate and further containing GDF-5.例文帳に追加

インビボ又はインビトロで軟骨形成を誘発又は増強する方法は、コラーゲンＩ型、コラーゲンＩＩ型、又はコラーゲンＩ型若しくはコラーゲンＩＩ型とヒアルロン酸塩との混合物、であってＧＤＦ−５を更に含有しているものを含む細胞外マトリックスに、インビボ又はインビトロで細胞を晒すことにより実行される。 - 特許庁

This method for growing carbon nanotube comprises a process of growing carbon nanotubes by making catalyst fine particles comprising cobalt loaded on a substrate aluminum thin film obtained by exposing an aluminum thin film to the air, to be present in a gas atmosphere for growing carbon nanotubes containing alcohol vapor.例文帳に追加

カーボンナノチューブの成長方法は、アルミニウム薄膜が大気に曝されて得られる下地アルミニウム薄膜上に担持されたコバルトよりなる触媒微粒子を、アルコール蒸気を含有するカーボンナノチューブ成長用ガス雰囲気中に存在させてカーボンナノチューブを成長させる工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Furthermore, because cheap swimming trunks became available with the progress of Japan's economic growth, and because Japanese people, with increased national income, started to want fashionable swimwear as an appeal of their individuality, and in 1960s young people gradually ceased to wear fundoshi, ashamed of exposing their buttocks. 例文帳に追加

また、日本の経済成長が進み、水泳パンツが廉価で入手できるようになったことや、国民所得が上昇したことで、個性を求めて、ファッション性のある水着が求めらるようになり、臀部が露出する褌は恥ずかしいと、下着と同様、1960年代頃（昭和30年半ば頃）から、褌は若者から次第に廃れて行った。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The method for decorating the synthetic resin molding comprises a step for arranging the ink receptive layer toward the synthetic resin molding, a step for joining the transfer film to the synthetic resin molding by heating, and a step for exposing the ink receptive layer by peeling the substrate from the synthetic resin molding via the peeling layer.例文帳に追加

合成樹脂成形体の加飾方法は、上記転写フィルムを、インク受容層を合成樹脂成形体に向けて配置するステップと、加熱により転写フィルムを合成樹脂成形体に接合するステップと、剥離層を介して基体を合成樹脂成形体から剥離してインク受容層を露出させるステップとを備える。 - 特許庁

In the case of lowering the surface potential of the image carrier 1 by a post-exposure means 11 before transferring the toner image to transfer material, a control means 17 controls the exposing light quantity of the post- exposure means 11 based on temperature information from a temperature detection means 9 for detecting the temperature of the toner.例文帳に追加

そして、このトナー画像を転写材に転写させる前にポスト露光手段１１により像担持体１の表面電位を低下させる際、制御手段１７はトナー温度を検知する温度検知手段９からの温度情報に基づいてポスト露光手段１１の露光光量を制御するようにする。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes; a resist pattern forming step of forming a resist pattern by forming a resist film on a surface to be processed, with the resist composition, exposing and developing the resist film; and a patterning step of patterning the surface to be processed, by etching through the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工表面上に本発明のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

This low-contrast optical apparatus containing a lowcontrast linear light wave 11 can be used to form high-resolution patterns by using a thermoresist 9, in place of a photoresist and by using multiple exposure on a same area, referably by exposing at each exposure patterns having different specified shapes 1, 3, a respectively.例文帳に追加

低コントラストの線形光弁１１を含む低コントラスト光学機器は、フォトレジストの代わりに熱レジスト９を使用すると共に同一領域の多段露光を使用し、好適には各露光にて異なる所定形状１，３のパターンを露光することにより、高解像度パターンを形成すべく使用され得る。 - 特許庁

A BPSG film (interlayer insulating film) 15 for flattening is formed on the thin film resistor 14 and the USG film 13, and contact holes 16, 18 are formed in the BPSG film and in the USG film for exposing the connecting portion of the thin film resistor 14 and a portion for connecting the thin film resistor.例文帳に追加

そして、薄膜抵抗体１４およびＵＳＧ膜１３上に平坦化用のＢＰＳＧ膜（層間絶縁膜）１５を形成し、薄膜抵抗体１４の接続部およびその薄膜抵抗体と接続する部分を露出させるためのコンタクト孔１６、１８をＢＰＳＧ膜およびＵＳＧ膜に形成する。 - 特許庁

The short columnar pieces exposing the brick-like member to the surface are manufactured at a plant, and since the gatepost can be constructed by piling up the pieces at the site, the gatepost can be piled up at the site within a short period, the worker having skilled technology is not required, and the gatepost having the stabilized high quality can be obtained.例文帳に追加

レンガ状部材を表面に露出させた短柱状のピースを工場生産しておき、現場ではこのピースを積み上げることで門柱を構築できるので、現場で短期間に組み立てることが可能であり、作業員の熟練した技能を必要としない、しかも安定した高品質の門柱を得ることができる。 - 特許庁

The lighting device comprises a shade 1 which has a window frame 3 with a pattern on its inside surface, and a window 2, installed inside the window frame 3, enabled to move freely along the frame 3, exposing one part of the pattern while obstructing another part by the movement of the window 2.例文帳に追加

表面に窓用枠３を有し窓用枠３の内側の表面に模様を施したセードと１、窓用枠３内に窓用枠３に沿って移動自在に設けられて模様の一部を遮蔽し他部を露出するとともに移動することにより模様の他部を遮蔽し一部を露出する窓２とを備えている。 - 特許庁

Further, the reflection type exposing method includes: a step of finding a numerical aperture of an illumination optical system so that an influence of a mask size error obtained from variance in measured mask size on a wafer size reaches a predetermined value; and a step of varying coherency of the illumination optical system adaptively to the obtained numerical aperture of the lighting optical system.例文帳に追加

さらに、計測されたマスク寸法のばらつきから求まるマスク寸法誤差のウエハ寸法の影響が所定の値になるように照明光学系の開口数を求めるステップと、求めた照明光学系の開口数にあうように照明光学系のコヒーレンシーを変更するステップとを含む。 - 特許庁

An electronic circuit unit 30 includes: a unit side terminal 32 electrically connected to a casing side terminal 12; a lid portion 38 turnable between a position covering the unit side terminal and a position exposing the terminal outside; and an energizing means 41 for urging the lid portion 38 in the direction D where the unit side terminal 32 is covered.例文帳に追加

電子回路ユニット３０に、筐体側端子部１２に電気接続するユニット側端子部３２と、これを覆う位置と外方に露出させる位置との間で回動可能な蓋体部３８と、ユニット側端子部３２が覆われるＤ方向に蓋体部３８を付勢する付勢手段４１を設ける。 - 特許庁

To ensure the reliability of two detection electrodes without exposing the detection electrodes to external environment while realizing the constitution possible to miniaturize of a sensor main body, in a capacitive humidity sensor constituted so as to convert the change in capacity between two detection electrodes accompanied by a change in humidity to a voltage signal by an SC circuit to detect the same.例文帳に追加

湿度変化に伴う２個の検出用電極間の容量変化を、ＳＣ回路にて電圧信号に変換して検出するようにした容量型湿度センサにおいて、センサ体格の小型化が可能な構成を実現しつつ、２個の検出用電極を外部環境にさらすことなく、電極の信頼性を確保する。 - 特許庁

In a photolithographic method including a step for coating the smooth surface 1a of a substrate 1 with a photosensitive material, a step for patternwise exposing the resulting photosensitive material layer 2 and a step for developing the layer 2, the surface of the photosensitive material layer is polished prior to the exposure.例文帳に追加

本発明によるフォトリソグラフィ方法は、平滑面１ａを有する基体１上の、平滑面に感光性材料を塗布する工程と、この感光性材料層２にパターン露光する工程と、現像する工程とを有するフォトリソグラフィ方法にあって、パターン露光に先立って感光性材料層の表面研磨加工を行う。 - 特許庁

This is an electron beam exposing device to radiate the electron beams to a specimen, and has an electron beam generating part to generate the electron beam and has a current detecting part to detect the current of the electron beam with a mark part which is smaller than the area of the cross section of the electron beam in the specimen, by the electron beam radiated to the mark part.例文帳に追加

試料に電子ビームを照射する電子ビーム露光装置であって、電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、試料における電子ビームの断面の面積より小さいマーク部を有し、マーク部に電子ビームが照射されることにより、電子ビームの電流を検出する電流検出部とを備える。 - 特許庁

The cylinder 20 for observation is provided with: an endoscope insertion hole 21 that is made of the optical guide member and in which an insertion section 3 of the endoscope 2 for side view is inserted; and an opening 22 for observation for exposing an observation window 6 included in the endoscope 2 for side view in the axial direction orthogonal to the endoscope insertion hole 21.例文帳に追加

観察用筒体２０は、導光部材で形成され、側視用内視鏡２の挿入部３が挿入される内視鏡挿入孔２１、および側視内視鏡２が備える観察窓６を内視鏡挿入孔２１に直交する軸方向に露出させる観察用開口部２２を備える。 - 特許庁

The resist pattern is formed by using at least a pattern for forming a resist layer 4 on a base material 2 by applying the non-chemical amplification type resist, a process for exposing the resist layer 4, a process for baking the exposed base material 2 at 90-130°C temperature, and a process for developing the baked base material 2.例文帳に追加

非化学増幅型レジストを塗布することによって基材２にレジスト層４を形成する工程と、レジスト層４を露光する工程と、露光を行った基材２を９０℃以上１３０℃以下の温度でベークする工程と、ベークを行った基材２を現像する工程とを少なくとも含んでレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The pellicle 7 has recesses 8, having about 0.5-10 mm depth for exposing alignment marks in substantially the central parts of both right and left side parts of a pellicle frame 2 and where curved surfaces have been formed on outer corner parts 8a and inner corner pats 8b on both sides of each of the recesses 8.例文帳に追加

ペリクル枠２の左右両面側部のほぼ中央部に約０．５ｍｍ〜１０ｍｍの深さを持ったアライメントマーク露出用凹所８が設けられており、かつこのアライメントマーク露出用凹所８の両側の外周隅部８ａと内周隅部８ｂとに夫々湾曲面が形成されたペリクル７の構造である。 - 特許庁

The method for manufacturing an integrated circuit device according to an embodiment comprises the steps of: etching a metal member by using a gas containing halogen; forming a silicon oxide film so as to cover an etched surface of the metal member, without exposing the etched metal member to the atmosphere; and removing the silicon oxide film.例文帳に追加

実施形態に係る集積回路装置の製造方法は、ハロゲンを含むガスを用いて金属部材をエッチングする工程と、エッチングされた前記金属部材を大気に曝すことなく、前記金属部材のエッチング面を覆うようにシリコン酸化膜を形成する工程と、前記シリコン酸化膜を除去する工程と、を備える。 - 特許庁

The aligner exposes a pattern formed in a negative plate on a substrate, such as a wafer and a plate, while irradiating the negative plate, such as a reticle and a mask via a lighting optical system by exposing light from an exposure light source, including at least respectively one air supply port and one exhaust port in the stage space so as to control air current distribution in the space.例文帳に追加

露光光源からの露光光により照明光学系を介してレチクル、マスク等の原板を照明し、前記原板に形成されたパターンをウエハ、プレート等の基板上に露光する露光装置であって、ステージ空間に少なくとも１個づつの給気ポートと排気ポートを備え、その空間内の気流分布を制御する。 - 特許庁

To provide a method for washing a distillation column in an acrylonitrile production plant to remove stains such as deposits in the column, by which the inside of the distillation column can simply and profitably be washed without needing a skilled technique comprising manually working in the distillation column and without exposing a worker to a dangerous atmosphere.例文帳に追加

アクリロニトリル製造プラントにおける蒸留塔内の堆積物などの汚れを洗浄する方法として、蒸留塔内に入って手作業する熟練した技術を必要とせずに簡便に行なえて、作業者を危険な雰囲気に曝すことなく、経済的にも有利な蒸留塔内の洗浄方法とすることである。 - 特許庁

To provide a method of forming a minute resist layer using a thin and uniform photocrosslinkable resin layer in a method of manufacturing a metal pattern including: forming the photocrosslinkable resin layer on a substrate, forming a plating resist layer through a pattern exposing and developing steps, and then performing a plating step.例文帳に追加

基板上に光架橋性樹脂層を形成し、パターンの露光工程、現像工程を経て、めっきレジスト層を形成した後にめっき工程を行う金属パターンの作製方法において、膜厚が薄く、均一な光架橋性樹脂層を用いて、微細なめっきレジスト層を形成する方法を提供する。 - 特許庁

An electronic circuit device 10 includes a printed circuit board 11 with electronic components mounted thereon, a resin sealing part constituted of a resin disposed to cover the electronic components, a convex connector 12 having a connecting metal terminal and exposing from the resin sealing part, and a seal 16 wound around the outer periphery of the resin sealing part.例文帳に追加

電子回路装置１０は、電子部品を実装したプリント回路基板１１と、上記電子部品を覆うよう配置された樹脂からなる樹脂封止部と、接続用金属端子を有し上記樹脂封止部より露出した凸型コネクタ１２と、上記樹脂封止部の外周に巻きつけられたシール材１６と、を有する。 - 特許庁

An organic light emitting display device comprises: a substrate; an element circuit arranged above the substrate; a pixel electrode electrically connected to the element circuit; a pixel defining layer exposing the pixel electrode; an intermediate layer arranged on the pixel electrode, the intermediate layer being configured to emit light; and a first ion injected layer formed on the pixel defining layer.例文帳に追加

基板と、基板上に配される素子回路部と、素子回路部と電気的に連結される画素電極と、画素電極を露出させる画素定義膜と、画素電極上に配されて光を放出する中間層と、画素定義膜上に形成される第１イオン注入層と、を備える有機発光表示装置。 - 特許庁

A method for manufacturing the metallic thin film transfer film comprises the steps of: partly forming the mold release layer on the plastic film; forming the metallic thin film on the overall surface of the plastic film in which the mold release layer is formed; and exposing the metallic thin film surface to an atmosphere of a plasma gas made of a hydrocarbon.例文帳に追加

また、プラスチックフィルムの上に部分的に離型層を形成し、該プラスチックフィルムの離型層が形成された面に金属薄膜を全面に形成し、該金属薄膜面を炭化水素からなるガスをプラズマ化した雰囲気に曝すことを特徴とする金属薄膜転写フィルムの製造方法である。 - 特許庁

A step exposure method for a photosensitive resin when forming a color filter on a substrate in the in-line manufacturing includes: arranging a plurality of step exposure apparatuses in series; segmenting the substrate into a plurality of regions; and exposing each region to which the step exposure apparatuses are assigned.例文帳に追加

インライン方式で基板上にカラーフィルタを形成する場合の感光性樹脂のステップ露光方法において、ステップ露光装置を複数台直列に配列し、前記基板を複数の領域に区分し、前記領域ごとに前記ステップ露光装置を割り当てて露光していくことを特徴とする感光性樹脂のステップ露光方法である。 - 特許庁

Electrostatic latent images can be optically written with the high density by increasing an output of the laser diode as much as possible in the range of the exposure energy and shortening an illumination time of the laser diode per dot as much as possible even if the spot diameter of beam spots for exposing the photoreceptor 2 is not made optically small.例文帳に追加

そして、その露光エネルギーの範囲内で、レーザダイオードの出力を極力大きくし、かつ、１ドットあたりのレーザダイオードの照射時間を極力短くすれば、感光体２を露光するビームスポットのスポット径を光学的に小径化しなくても、静電潜像を高密度で光書込することができる。 - 特許庁

The pattern forming material has at least a photosensitive layer on a support, wherein the photosensitive layer contains a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, and a degree of swelling of a pattern formed by exposing and developing the photosensitive layer in a developer is ≤30%.例文帳に追加

支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像することにより形成されるパターンの現像液による膨潤度が、３０％以下であることを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

To simplify the reverse of a washbasin or a washstand and make it appealing to the eye by supporting the washbasin or the washstand without exposing a feedwater pipe and a drainpipe and without using many metal supports.例文帳に追加

本発明は、洗面室等に設置されるの手洗器又は洗面器の裏側を、多くの支持金具を用いることなく、又給水管および排水管を露出させることなく手洗器又は洗面器を支持することにより、手洗器又は洗面器の裏側をシンプルなものとし、見栄えの良い手洗器又は洗面器にすることを課題とするものである。 - 特許庁

The connection part of the superconductive cable comprises a superconductor 12, a conductor connection part 32 to connect the superconductor 12 and a connection object, an insulating layer 13 to cover the superconductor 12 by exposing it partially, and a reinforced insulating layer 31 to cover at least the conductor connection part 32, the exposed superconductor 12, and end part of the insulating layer 13.例文帳に追加

超電導ケーブルの接続部は、超電導導体12と、超電導導体12と接続対象とをつなぐ導体接続部32と、超電導導体12を部分的に露出させて覆う絶縁層13と、少なくとも導体接続部32、露出した超電導導体12および絶縁層13の端部を覆う補強絶縁層31とを有する。 - 特許庁

As a result, in case when the first abnormality is present, it, is corrected (step 160) to prevent the occurrence of defective shot, and in case when the second abnormality is present, a device is stopped for appropriate measures such as repair or the like to reduce downtime of the device or to avoid unnecessary exposing operation.例文帳に追加

この結果、第１の異常が存在した場合には、例えば補正する（ステップ１６０）ことで、不良ショットの発生を抑制することができ、第２の異常が存在した場合には、装置を停止して修理等の適切な処理を行うことで、装置のダウンタイムの短縮や、無駄な露光処理動作の回避が可能となる。 - 特許庁

In a drying section 16 of a non-washing processing apparatus, raw rice supplied onto a drying disc 204 rotating in a predetermined direction A, to which water sticks slightly, is converted into processed rice, by subjecting it to coarse equalization by an adjustment plate 240 and then to finish equalization by a regulation board 242, and thereafter exposing the same to warm air for drying.例文帳に追加

無洗化処理装置の乾燥部１６では、所定方向Ａへ回転する乾燥円盤２０４上に供給された水が僅かに付着した原料米を、調整板２４０が粗均平した後に規制板２４２が仕上均平し、温風を浴びせて乾燥することで処理米にする。 - 特許庁

After a process of either irradiating active energy beams under existence of oxygen on the surface of an electrolyte membrane containing a structure filled with polymer electrolyte, or exposing it to an atmosphere containing oxygen after irradiating at an atmosphere not containing oxygen, the electrolyte membrane and the electrode are jointed to manufacture the membrane electrode assembly.例文帳に追加

該ポリマー電解質が充填された構造を含む電解質膜の表面に、酸素の存在下で活性エネルギー線を照射するか、または酸素を含まない雰囲気で照射した後に酸素を含む雰囲気に曝露する工程の後に、電解質膜と電極とを接合させて膜電極接合体を製造する。 - 特許庁

In this manufacturing method of the member for the plasma display including a process of applying photosensitive paste on the substrate, and exposing it through a photomask, the photomask has a pattern of stripes of broken lines, or combination of stripes of broken lines and stripes of straight lines.例文帳に追加

また、基板上に感光性ペーストを塗布し、フォトマスクを介して露光する工程を含むプラズマディスプレイ用部材の製造方法であって、フォトマスクが、破線状のストライプのパターンまたは破線状のストライプと直線状のストライプの組み合わせからなるパターンを有することを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法。 - 特許庁

The exposure method is characterized in that the peripheral area of an exposed area on an exposed surface (14) is exposed by using, for example, a beam (32) with a small diameter and a laser beam (42) with large irradiation area, e.g. a large diameter is used for exposing the internal area; and the areas are scanned with both the beams at different scanning pitches.例文帳に追加

被露光面（１４）の露光領域の周辺領域に対して照射面積の小さい、例えば径の小さなビーム（３２）を用いて露光し、且つ内部領域を照射面積の大きい、例えば径の大きなレーザビーム（４２）を用いると共に、両レーザビームを異なる走査ピッチで走査することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes steps of applying a photoresist coating film 20 on a glass substrate 50 where a transparent conductive film 54 is formed and exposing and developing the resist to form a photospacer, wherein the insulating film 57 is simultaneously formed while forming the photospacer, in a portion opposing to the peripheral driving circuit and to be lower than the height of the photospacer Ps by using the above photomask.例文帳に追加

透明導電膜５４が形成されたガラス基板５０上に、フォトレジスト塗膜２０を設け、露光・現像によりフォトスペーサーを形成する工程を具備し、前記フォトマスクを用い周辺駆動回路と対向する部位に絶縁膜５７をフォトスペーサーＰｓの高さより低く、フォトスペーサーの形成と同時に形成する。 - 特許庁

This thread-containing form 10 which is used for a security such as a gift certificate or a stock certificate and is useful for preventing counterfeit, characterized by partially removing materials on both the front and back sides of the form to form a plurality of windows 12a, 12b, thus exposing the thread 11 nipped between the front and back materials of the form to visually see the thread.例文帳に追加

商品券や株券など有価証券に使用される偽造防止用紙１０において、用紙の間に挟まれたスレッド１１が用紙の表裏の材料の一部を除去することにより開けた複数個の窓１２ａ、１２ｂより、表裏それぞれ面に露出し、目視することができるスレッド入り偽造防止用紙である。 - 特許庁

An exposure system including a projection optical system 100 exposing a substrate 101 with electromagnetic radiation and focusing the electromagnetic radiation on the substrate and a liquid supply system supplying a liquid between the projection optical system 100 and the substrate 101 are provided and the projection optical system is disposed below the substrate.例文帳に追加

基板１０１を電磁放射で露光しかつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系１００を有する露光系と、投影光学系１００と基板１０１との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、投影光学系が基板の下方に位置決めされている。 - 特許庁

The method comprises forming a film on a substrate by using a photosetting/thermosetting composition containing no hardening catalyst, exposing and developing to form a film pattern and is characterized in that the developing method is carried out by using an aqueous solution of a basic hardening catalyst for promoting the thermosetting reaction as a developer solution.例文帳に追加

硬化触媒を含有しない光硬化性・熱硬化性組成物を用いて基材上に形成した皮膜を露光、現像して皮膜パターンを形成する方法であって、その現像方法が、熱硬化反応促進用の塩基性硬化触媒の水溶液を現像液として用いることを特徴としている。 - 特許庁

The print-order processing method comprises each process of supplying an output medium sheet, exposing the sheet and forming the latent images of all the images made to order to print, developing the exposed sheet in one processing space, drying the developed sheet and simultaneously delivering the whole prints made to order.例文帳に追加

出力媒体のシートを供給すること、このシートを露光してプリント注文の全ての画像の潜像を形成させること、露光されたシートを一つの処理空間内で現像し、現像されたシートを乾燥し、プリント注文全体を同時に引き渡す各工程を含んでなるプリント注文を処理する方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the electronic device includes steps of: forming a resist film of a negative type photoresist composition on the substrate; obtaining the substrate having the resist pattern by exposing the resist film in the pattern and developing it; forming the metal film on the substrate having the resist pattern; and removing the resist pattern from the substrate using the removing agent composition.例文帳に追加

また、基板上にネガ型フォトレジスト組成物をのレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜をパターン状に露光し、現像してレジストパターンを有する基板を得る工程と、レジストパターンを有する基板の上に金属膜を形成する工程と、上記除去剤組成物を用いてレジストパターンを基板から除去する工程とを有する電子デバイスの製造方法。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device includes: a step of forming a resist layer on a semiconductor substrate; a step of exposing the resist layer with a grating mask; a step of developing the exposed resist layer to form a resist mask having a gradient; and a step of forming an impurity region by implanting ions in the semiconductor substrate via the resist mask.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体基板上にレジスト層を形成する工程と、グレーティングマスクを用いてレジスト層を露光する工程と、 露光されたレジスト層を現像し、勾配を有するレジストマスクを形成する工程と、レジストマスクを介して、半導体基板にイオンを注入することで不純物領域を形成する工程と、を具備する。 - 特許庁

The method for fixing the hydrophilic polymer on the hydrophobic surface by bonding the hydrophilic species to the hydrophilic polymer comprises a step for exposing the hydrophilic polymer to the hydrophilic species so as to bond the hydrophilic species on the hydrophilic polymer, a step for forming a hydrophobic surface and a step for fixing the hydrophilic polymer on the hydrophobic surface.例文帳に追加

親水性種を親水性高分子に結合させて、親水性高分子を疎水性表面に固定する方法であって、親水性高分子を親水性種にさらし、親水性種を親水性高分子に結合させるステップと、疎水性表面を設けるステップと、疎水性表面上に親水性高分子を固定するステップとを有する。 - 特許庁