「exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(110ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a chair elbow member mounting structure that can well prevent the axes of the pivot points of a seat support plate and a backrest support member from dropping off without using a special clasp and that can have good appearance without exposing the pivot points outside.例文帳に追加

座支持板と背凭れ支持杆との枢着部における枢軸の脱落防止を、そのための特別の金具を用いることなく良好に防止することができるとともに、前記枢着部が外部に露出することなく、外観の体裁を良好にすることができるようにした椅子における肘部材の取付構造を提供する。 - 特許庁

In an image forming device including an electrostatic latent image carrier using an amorphous silicon photoconductor and an exposure device exposing image information onto the electrostatic latent image carrier by use of illuminating light, the relation of d≤N is satisfied where d (μm) is the film thickness of the amorphous silicon photoconductor and N (μm) the pitch of the illuminating light.例文帳に追加

アモルファスシリコン感光体を使用した静電潜像担持体と、この静電潜像担持体上に、照射光を用いて画像情報を露光する露光装置とを具備する画像形成装置において、アモルファスシリコン感光体の膜厚をｄ（μｍ）とし、照射光のピッチをＮ（μｍ）としたときに、ｄ≦Ｎの関係を満足する。 - 特許庁

A stator 20 comprises: a stator core 21 which faces the rotator 10 on the side opposite to the rotation shaft 10 and has a connection end 80 on the side opposite to the rotator 10; a coil 22 attached to the stator core 21; and an insulative resin part 23 covering the coil 22 and the stator core 21 while exposing the connection end 80.例文帳に追加

固定子２０は、回転軸１０と反対側において回転子１０と対面し、回転子１０と反対側に接続端８０を有する固定子コア２１と、固定子コア２１に取り付けられる巻線２２と、接続端８０を露出させつつ巻線２２と固定子コア２１とを覆う絶縁性の樹脂部２３とを有する。 - 特許庁

In this manufacturing method, a first resist pattern 7 having an aperture 7a for exposing source/drain regions 5, 6 to expose the upper surface of a gate electrode 2 is formed and a second resist pattern 8 having the second apertures 8d, 8e, 8c for defining source/drain electrodes 10, 11 and upper layer wiring 9 is laminated on a first resist pattern.例文帳に追加

ソース・ドレイン領域５，６を表出する開口７ａを有しゲート電極２上面を表出する第一のレジストパターン７を形成し，その上にソース・ドレイン電極１０，１１及び上層配線９を画定する第二の開口８ｄ，ｅ，ｃを有する第二のレジストパターン８を積層する。 - 特許庁

The method for processing the substrate includes a step of forming an interlayer 4 between a chemical amplification type resist film 3 and an antistatic film 5, a step of exposing a desired pattern to a substrate specimen 1; a step of performing a thermal process to the substrate specimen 1 after the exposure; and a step of performing a development process to the substrate specimen 1 after the heat treatment.例文帳に追加

化学増幅型のレジスト膜３と帯電防止膜５との間に中間膜４を形成する工程と、基板試料１に所望のパターンを露光する工程と、露光後の基板試料１に対し加熱処理を施す工程と、加熱処理の後に基板試料１に現像処理を施す工程とを有する。 - 特許庁

A first body case 21 is provided with a display opening portion 42 for externally exposing a display portion 36a of a display device 36 on a built-in control board 32, a display window member 51 is disposed to close the display opening portion 42, and a front side panel 25 is disposed to cover the front side of the display window member.例文帳に追加

第１の本体ケース２１には、内蔵の制御基板３２上の表示装置３６の表示部３６ａを外部に臨ませる表示開口部４２が設けられ、その表示開口部４２を塞ぐように表示窓部材５１が配置され、その前面を覆うように前面パネル２５が配置される。 - 特許庁

This shutter 100 is provided a front blade driving lever 12 driving a front blade group 2, a first rear blade driving lever 15 driving a rear blade group 3, a second rear blade driving lever 19 nearly integrally operating with the first rear blade driving member 15 in the case of exposing operation, a set lever 22, and an auxiliary set lever 26.例文帳に追加

フォーカルプレンシャッタ１００は、先羽根群２を駆動する先羽根駆動レバー１２と、後羽根群３を駆動する第１の後羽根駆動レバー１５と、露光作動時に第１の後羽根駆動部材１５と略一体に作動する第２の後羽根駆動レバー１９と、セットレバー２２と、補助セットレバー２６とを備えている。 - 特許庁

To provide a fluid controlling device facilitating confirmation of closing and capable of retaining visibility of opening and closing display at a given level by facilitating attachment and detachment of a handle and improving turning operability of the handle, and by automatically and positively exposing an insertion hole of a padlock or the like in a close position of the handle and improving locking nature.例文帳に追加

ハンドルの着脱を容易にし、ハンドルの回動操作性の向上を図り、ハンドルを閉の位置において自動的にかつ確実に南京錠等の挿入孔を露出させ、施錠性の向上を図り、閉の確認が容易であり、開閉表示の視認性を一定に保持できる流体制御器を提供する。 - 特許庁

This stent 1 includes a tubular body 2 having elasticity, and a fluorine coating layer 3 with the membrane thickness of 1-100 μm, provided on the whole surface of the tubular body 2, wherein the fluorine coating layer 3 has one or more slits 4 penetrating through the fluorine coating layer 3 and exposing the surface of the tubular body 2.例文帳に追加

弾性を有するチューブ状の筒体２と、該筒体２の表面全体に設けられた膜厚１〜１００μｍのフッ素コーティング層３とを備え、該フッ素コーティング層３に、該フッ素コーティング層３を貫通して筒体２の表面を露出させる１以上のスリット４が設けられているステント１を提供する。 - 特許庁

In the image forming device using the photoreceptor and having electrifying, imagewise exposing, developing, transferring and fixing means, the amount of nitrate ions (NO3-) detected from the surface of the photoreceptor is in the range of 50-300 μg per 1 m2 area of the photoreceptor in quantitative determination by ion chromatography.例文帳に追加

少なくとも、感光体を用い、帯電−画像露光−現像−転写−定着手段を有する画像形成装置であって、該感光体表面から検出される硝酸イオン（ＮＯ_3^-）量がイオンクロマトグラフ法による定量で感光体単位面積当たり５０〜３００μｇ／ｍ^2の範囲にあることを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁

A circuit device 10A of this configuration comprises an electric conduction pattern 11 consisting of a bonding pad 11A and a die pad 11B, a semiconductor device 12A adhered to the die pad 11B, and sealing resin 13 for sealing the circuit element and the electric conductive pattern 11 by exposing the rear surface of the electric conductive pattern 11.例文帳に追加

本形態の回路装置１０Ａでは、ボンディングパッド１１Ａおよびダイパッド１１Ｂから成る導電パターン１１と、ダイパッド１１Ｂに固着された半導体素子１２Ａと、導電パターン１１の裏面を露出させて回路素子および導電パターン１１を封止する封止樹脂１３とを具備する。 - 特許庁

The optical fiber having improved hydrogen resistance characteristic is manufactured by spinning the optical fiber preform to form the optical fiber and exposing the optical fiber to a deuterium-containing atmosphere until the absorption loss caused by NBOHC in 630 nm wave length is substantially eliminated.例文帳に追加

該光ファイバ用母材を紡糸して光ファイバを作製し、次いで該光ファイバを重水素含有雰囲気中に曝露して波長６３０ｎｍ帯のＮＢＯＨＣに起因する吸収損失が実質的に無くなるまで重水素曝露処理を行って耐水素特性の向上した光ファイバを得る製造方法。 - 特許庁

An LED printing head (LPH) exposing a photoreceptor drum is provided with liquid repellent films 64T with lower wettability for liquid material composing condenser lenses 64 by being hardened than wettability for a substrate around the condenser lenses 64 provided for each LED on the substrate to which a plurality of LEDs are installed.例文帳に追加

感光体ドラムを露光するＬＥＤプリントヘッド（ＬＰＨ）は、複数のＬＥＤが配置される基板上のＬＥＤ各々に対応して設けられた集光レンズ６４の周囲に、硬化されて集光レンズ６４を構成する液状材質に対する濡れ性が基板よりも低い撥液膜６４Ｔが設けられている。 - 特許庁

To realize a mineral particle-containing film enhanced in effects for maintaining health or curing, capable of increasing the ratio of presence of mineral particles having stable electrode pair-forming ability such as tourmaline exposing on the surface or presenting in the vicinity of the surface and effectively acting a large number of mineral particles to an application site such as a human body and the like.例文帳に追加

トルマリン等の安定電極対形成能を有する鉱物粒子の、表面に露出又は表面付近に存在する割合を増加させ、人体等の適用部位に多数の鉱物粒子を有効に作用させることができる、健康保持ないし治療の効果が増大した鉱物粒子含有膜を実現すること。 - 特許庁

The solder joint method includes a solder ball deforming process of deforming a solder ball mechanically to break an oxide film on the surface of the solder ball to expose non-oxidized surface, and a solder melting process of exposing the deformed solder ball mounted on solder joints of a work carried in to energy emission heating to melt the solder ball.例文帳に追加

ボールを機械的に変形させることにより表面の酸化膜を破って非酸化面を露出させるはんだボール変形工程と、変形されたはんだボールを搬入されたワークの接合部に搭載した状態でエネルギーの照射により加熱して溶融させるはんだ溶融工程とを備える。 - 特許庁

This method of manufacturing a wiring board includes a sheet-forming step of forming an insulating sheet, a pattern forming step of forming a predetermined pattern on the insulating film by using photosetting photosensitive paste by means of screen printing method, and an exposing step of curing the pattern by projecting light toward the pattern.例文帳に追加

本製造方法は、絶縁性シートを形成するシート作成工程と、上記絶縁性シートに、スクリーン印刷法により、光により硬化する感光性ペーストを、予め定められたパターンに形成するパターン形成工程と、上記パターンに向けて露光することで該パターンを硬化させる露光工程と、を備える。 - 特許庁

Since one surface of a connecting part 56 forms an entire area exposing surface 56A, where an area corresponding to its stamped hole 54 and an area between adjacent stamped holes 54 are exposed throughout entire areas, by providing a dice 71 this surface, there is not need to form a projecting part having low strength in the dice 71.例文帳に追加

連結部５６の片面は、その打抜孔５４と対応する領域及び隣り合う打抜孔５４同士の間の領域が全域に亘って露出された全域露出面５６Ａとされているので、ここにダイス７１を宛うようにすれば、ダイス７１には、強度の低い凸状部を形成せずに済む。 - 特許庁

The equipment 21 for manufacturing the high voltage CV cable is equipped with an inert gas atmosphere vessel 23 capable of exposing a stranded conductor 25 introduced inside from the conductor introducing port 30, and a packing case 24 having a packing 34 coming in contact with the stranded conductor 25 and arranged on the conductor introducing port 30 side.例文帳に追加

導体導入口３０から内部へ導入される撚線導体２５を不活性ガスに晒すことが可能な不活性ガス雰囲気容器２３と、撚線導体２５に接触するパッキン３４を有し導体導入口３０側に配置されるパッキンケース２４と、を備えて高圧ＣＶケーブルの製造装置２１を構成する。 - 特許庁

The communication device 23 is arranged to be freely movable from a regular attaching position covering the emergency drive switch 7 to a position exposing the emergency drive switch 7 to outside or to be freely removable from the regular attaching position covering the emergency drive switch 7 so that the emergency drive switch 7 is exposed.例文帳に追加

通信装置２３を上記緊急駆動スイッチ７を覆う正規の取付け位置から緊急駆動スイッチ７が外部に露出する位置に移動自在とするか、又は、通信装置２３を上記緊急駆動スイッチ７を覆う正規の取付け位置から緊急駆動スイッチ７が露出するように取り外し自在とする。 - 特許庁

The ends (light outgoing ends) of the respective optical fibers 18 for pumping light in its lengthwise direction are formed as a flat and thin/narrow end face 18A, and the entire areas of the end face 18A are joined with three side faces 1204A of the first clad 1204 in the first clad exposing part 1210.例文帳に追加

各励起光導入用光ファイバ１８の長さ方向の端部（光出射端）は平坦で細長形状の端面１８Ａとして形成され、この端面１８Ａは、その全域が、第１クラッド露出部１２１０において第１クラッド１２０４の３つの側面１２０４Ａにそれぞれ接合されている。 - 特許庁

A magnetically-separated magnetic recording pattern is formed by forming a magnetic layer on a non-magnetic substrate, then exposing the surface of the magnetic layer partially to a reactive plasma such as oxygen and halogen, or to various kinds of reactive ions generated in the plasma so as to amorphize the portion of the magnetic layer and to modify the magnetic characteristics.例文帳に追加

非磁性基板上に磁性層を形成した後、該磁性層の表面を部分的に酸素、ハロゲン等の反応性プラズマにさらし、もしくは該プラズマ中に生成した各種反応性イオンにさらし、該箇所の磁性層を非晶質化せしめ、磁気特性を改質することにより磁気的に分離した磁気記録パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a latent image forming apparatus which forms an image on a cylindrical latent image carrier by scanning and exposing using a polygon mirror, wherein the magnitude correction at a latent image forming is hardly influenced by the thermal deformation of a body member, and a stable magnitude correction is available, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

ポリゴンミラーを用いた走査露光を行い円筒状潜像担持体に画像を形成する潜像形成装置において、潜像形成時の倍率補正が筐体部材の熱変形の影響を受け難く、安定した倍率補正を得られる潜像形成装置および画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the resist pattern forming method for forming a resist film on a support body and selectively exposing the resist film a plurality of times through a photomask, the width of an exposure portion of the resist film in each selective exposure is larger than the width of a light transmitting portion of the photomask.例文帳に追加

本発明は、支持体上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜に対しフォトマスクを介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎のレジスト膜の露光部幅は、前記フォトマスクの透光部幅よりも大きいことを特徴とするレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

The device for removing the resist is equipped with: a mask susceptor in a chamber for the device for removing the resist; a substrate susceptor arranged inside the mask susceptor and placing the substrate; and a cover-like ashing mask arranged at a position covering the substrate on the mask susceptor and including an opening exposing the periphery of the substrate.例文帳に追加

本発明のレジスト除去装置は、レジスト除去装置のチャンバー内にマスク支持台と、そのマスク支持台の内側に配置されて基板を載置する基板支持台と、マスク支持台の基板を覆う位置に配置されて基板の周辺部を露出させる開口部を有する蓋状のアッシングマスクとを備える。 - 特許庁

A sealing material is fused and softened by heating the sealing material layer with the front substrate and the back substrate disposed so as to oppose each other without exposing them to the atmosphere, the front substrate and the back substrate are pressurized in their mutually approaching directions, and the peripheral fringes of the front substrate and the back substrate are thereby sealed.例文帳に追加

前面基板および背面基板を大気に曝すことなく、互いに対向配置させた状態で、封着材層を加熱して封着材を溶融あるいは軟化させるとともに、前面基板および背面基板を互いに接近する方向に加圧し、前面基板および背面基板の周縁部を封着する。 - 特許庁

This camera possesses a barrier 11 freely opened and closed at the front face of a photographing lens 14 and a mirror holder 12 that is located at a housing position on the back side of the barrier 11 when the barrier 11 is in a closed state and is freely movable from the housing position to an exposing position when the barrier 11 is in an opened state.例文帳に追加

本発明のカメラは、撮影レンズ１４の前面で開閉自在なバリア１１と、上記バリア１１が閉状態にあるときには上記バリア１１の裏側の収納位置に存在し、上記バリア１１が開状態にあるときには上記収納位置から露呈位置へと移動自在な鏡ホルダ１２とを有する。 - 特許庁

The lock mechanism 40 is composed by providing a driving transmission shaft 42 drawing out and exposing a driving output system of a torque motor 15 to the outside of a frame 12, and a lock fitting 45 detachably attached to the driving transmission shaft 42 and abutting on the frame 12 or an inner wall of the vent 5 to prevent driving of the torque motor 15.例文帳に追加

ロック機構４０を、トルクモータ１５の駆動出力系を枠体１２の外側に引き出し露出させた駆動伝達軸４２と、この駆動伝達軸４２に嵌脱自在に装着されるとともに枠体１２または換気口５の内壁に当接してトルクモータ１５の駆動を阻止するロック金具４５とを備えて構成した。 - 特許庁

The method for forming the micropatterns comprises a step of providing a substrate, a step of forming a first microfluidic layer of a photoresist material on the substrate, a step of providing a first photomask, and a step of forming the micropatterns, by exposing the first microfluidic layer by the first photomask for irradiation.例文帳に追加

本発明によるマイクロパターンの形成方法は、基板を提供する工程と、フォトレジスト材料の第一微小流体層を、基板上に形成する工程と、第一フォトマスクを提供する工程と、第一フォトマスクにより、第一微小流体層を露出して照射し、マイクロパターンを形成する工程と、からなる。 - 特許庁

In one embodiment, the method includes a step of providing the mutually interconnected structure, including at least one interconnect layer having a dielectric, at least one conductor, and a first cap layer; and causing the dielectric to contract to form the gas dielectric structure, by exposing the interconnection structure to radiation.例文帳に追加

一実施形態では、本方法は、誘電体と、少なくとも１つの導体と、第１のキャップ層とを有する少なくとも１つの相互接続層を含む相互接続構造を設けること、および相互接続構造を放射にさらすことによって、誘電体を収縮させて気体誘電体構造を形成することを含む。 - 特許庁

In this image forming device equipped with a transfer fixing device 3 and a preliminary heating means 4, release agent non-exposing type toner E constituted by dispersing a release agent in toner particles in a state where it is not exposed to the surfaces of the toner particles is used as toner constituting the toner image T formed by the image producing device 1.例文帳に追加

転写定着装置３と予備加熱手段４を備えた画像形成装置において、作像装置１で形成するトナー像Ｔを構成するトナーとして、離型剤をトナー粒子表面に露出させない状態でトナー粒子内部に分散させてなる離型剤非露出型トナーＥを使用する。 - 特許庁

To provide an outermost layer tape winding wire having different material features exposing two different materials of a coating material and a tape material on a wire surface, and both properties of adhering fluorine resins of a fusion layer to each other and adhering the resin to other resins or fixed objects.例文帳に追加

電線表面に被覆材、テープ材の２種類の異なった材質を露出させ、異なる材料の特徴を兼ね備えた最外層テープ巻き電線、また融着層のフッ素樹脂同士の接着が可能あり、かつ他樹脂や固定物との接着も可能にするという両特性を兼ね備えた最外層テープ巻き電線を提供する。 - 特許庁

The front end surface of the connector housing 10 is provided with a retainer mounting hole 17 for mounting the retainer 40, and the moving plate 30 has window holes 36 for exposing at least a part of the retainer 40 forward, so that an pressing operation or the like can be performed from the front side of the moving plate 30 to the retainer 40.例文帳に追加

コネクタハウジング１０の前端面にはリテーナ４０を組み付けるためのリテーナ取付孔１７が形成され、ムービングプレート３０には、リテーナ４０の少なくとも一部を前方へ露出させる窓孔３６が形成されているので、ムービングプレート３０の前方からリテーナ４０に対して押し込み操作等を行うことができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device wherein a heat dissipator is arranged on the upper and lower surfaces of a resin sealed body by mounting a semiconductor element, wherein an external lead is electrically connected with a conductor member to an electrode plate, and exposing a part of the electrode plate and a part of the conductor member over the outside of the resin sealed body.例文帳に追加

外部リードと導電体部材を電気的に接続された半導体素子を電極板に搭載し、電極板の一部及び導電体部材の一部を樹脂封止体の外部に露出させることによって放熱部を樹脂封止体の上下両面に設置した半導体装置を提供する。 - 特許庁

The wiring board 8 has wiring 92 for a substrate-side individual electrode and a terminal 92a for the substrate-side individual electrode, formed on a lower surface of an insulating substrate 81, and further a coating film 82 having a removal portion 82a for exposing the terminal 92a for the substrate-side individual electrode, formed on lower surfaces of the terminal 92a.例文帳に追加

配線基板８は、絶縁性を有する基板８１の下面に基板側個別電極用配線９２および基板側個別電極用端子９２ａが形成され、さらに、その下面には基板側個別電極用端子９２ａを露出する除去部８２ａを備えた被覆膜８２が形成されている。 - 特許庁

In a semiconductor thin film forming method comprising a light irradiating process, a first process of projecting the image of a pattern formed on an optical mask onto the semiconductor thin film for exposing the thin film so as to modify the prescribed region of the semiconductor thin film and a second process of continuously forming insulating films on the semiconductor thin film are provided.例文帳に追加

光の照射工程を有する半導体薄膜の形成方法において、光が光マスク上に形成したパターンを半導体薄膜上に投影露光して、半導体薄膜上の所定の領域を改質する工程と、上記半導体薄膜上に絶縁膜を連続的に形成する工程とを含ませる。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic apparatus in which a resist pattern 24 is provided on a first transistor 1 comprising a thin film transistor Tr, includes the steps: of applying and forming a resist film 22 on the first substrate while covering the thin film transistor Tr; and of forming the resist pattern 24 by performing exposing and developing processing upon the resist film 22.例文帳に追加

薄膜トランジスタＴｒが設けられた第１基板１上にレジストパターン２４が設けられた電子機器の製造方法であり、薄膜トランジスタＴｒを覆う状態で第１基板上にレジスト膜２２を塗布成膜し、このレジスト膜２２に対して露光および現像処理を行うことによりレジストパターン２４を形成する。 - 特許庁

This switch threadably attaches a rod fixing plate 9 and a rod holding plate 10 pinching a rod 7 so as to have the rod fixing plate 9 positioned at the base end part of a screw 11 protruding from the tip surface of a rotation shaft 5 exposing from a switch body 3 using the screw 11 and a nut 12 threadably attached to the screw 11.例文帳に追加

スイッチは、スイッチ本体３から露出する回動軸５の先端面から突出するねじ１１とねじ１１に螺合するナット１２とを用いて、ロッド７を挟持したロッド固定板９とロッド保持板１０とを、ロッド固定板９がねじ１１の基端部に位置するように螺着する。 - 特許庁

This device for exposing a both-side printing circuit card with light by passing the card through an art work is provided with a fixed first art work support part 10, movable second art work support part 14, vertically moving means 26 and 28 for moving the second support part, and a mechanically connecting means between the moving means and the second support part.例文帳に追加

本発明は、両面印刷回路カードをアートワークを通して光に曝すための装置で、固定された第１アートワーク支持部（１０）と、移動可能な第２アートワーク支持部（１４）と、第２支持部を移動するための鉛直移動手段（２６、２８）と、移動手段と第２支持部との間の機械的接続手段と、を備える。 - 特許庁

The display device has a display panel 2 which displays an image, the middle frame 8 on which the display panel 2 is mounted, and a front frame 9 which has an opening portion for exposing a display surface 2a of the display panel 2 on its top surface and also has an engagement portion 9d bent inwardly to engage the middle frame 8 on a flank 9a.例文帳に追加

画像を表示する表示パネル２と、表示パネル２が載置されたミドルフレーム８と、上面９ｅには表示パネル２の表示面２ａを露出させる開口部が設けられ、側面９ａには内側へ折れ曲り、ミドルフレーム８と嵌合する嵌合部９ｄを有するフロントフレーム９とを備える。 - 特許庁

To perform focused exposure processing in which the moving speed precision of a surface plate is improved at low cost by removing a sucking function for holding the printing plate at the surface plate and a printing plate is surely brought into close contact with the surface plate, that is, the image forming point of exposing light is kept on the surface of a printing plate.例文帳に追加

印刷版を定盤へ保持するための吸引機能を取り払うことで、安価に定盤の移動速度精度を向上し、かつ確実に印刷版を定盤へ密着させた状態、すなわち露光光の結像点を印刷版表面に維持することで、ピントの合った露光処理を行う。 - 特許庁

Thereafter, the variation of the light exposure and focal point of an exposure apparatus and the changing direction of the focal point between the step of preparing the data and the step of exposing the lot in the step are estimated (SA5), and the light exposure and the focal point of the exposure apparatus for a next lot are adjusted appropriately based on the estimated variation and direction (SA6).例文帳に追加

そして、前述のデータを作成する工程とそのロットの露光工程との間の、露光装置の露光量の変化量、焦点位置の変化量、および、焦点位置の変化方向を推定する（ＳＡ５）ことにより、次のロットの露光装置の露光量および焦点位置を適切に調整する（ＳＡ６）。 - 特許庁

When a transfer starting point T is set in the setting section H 2 according to the target accuracy of the pattern to be formed, the exposure can be performed efficiently, in such a way that the exposing area on the substrate P can be expanded, and so on, in the case where the mask M and substrate P are moved by prescribe number of strokes.例文帳に追加

このとき、形成するパターンの目標精度に応じて、転写開始点Ｔを整定区間Ｈ２に設定することにより、マスクＭ及び基板Ｐが所定のストロークで移動する場合、基板Ｐ上における露光領域を拡大することができるなど、露光処理を効率良く行うことができる。 - 特許庁

To provide a method for simply and easily manufacturing an insert decorative molded article excellent in aesthetic feeling without exposing a backer layer to the surface of the insert decorative molded product by the trimming of a flange-like part being the unnecessary part of a decorative sheet having a protruded part and the flange-like part continued to the protruded part formed thereto by vacuum forming.例文帳に追加

真空成形により凸部と該凸部に続く鍔状部とを形成した加飾シートの不要部分である鍔状部のトリミングによってインサート加飾成形品の表面にバッカー層を露出させることがなく、美感に優れるインサート加飾成形品を簡便に製造する方法を提供する。 - 特許庁

The method of adsorption removal of atomic hydrogen includes a desorption step for desorbing atomic hydrogen adsorbed by an inconel by heating the inconel and an adsorption removal step for adsorbing and removing atomic hydrogen in an objective gas by exposing the inconel to the objective gas containing atomic hydrogen.例文帳に追加

原子状水素吸着除去方法は、インコネルを加熱することによりインコネルに吸着した原子状水素を脱離させる脱離工程と、インコネルを原子状水素を含む対象ガス中に暴露することにより対象ガス中の原子状水素を吸着除去する吸着除去工程とを含む。 - 特許庁

The method for stabilizing a Si-O containing ceramic coating derived from a hydrogen silsesquioxane resin contains a process for exposing the Si-O containing ceramic coating derived from the hydrogen silsesquioxane resin to an atmosphere containing hydrogen gas for a time and at a temperature sufficient for stabilizing the dielectric constant of the coating.例文帳に追加

ハイドロジェンシルセスキオキサン樹脂から誘導されたＳｉ−Ｏ含有セラミック皮膜を、この皮膜の誘電率を安定化するのに充分な時間及び温度で、水素ガス含有雰囲気に曝すことを含む、ハイドロジェンシルセスキオキサン樹脂から誘導されたＳｉ−Ｏ含有セラミック皮膜の誘電率を安定化させる方法。 - 特許庁