「extended pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

When the jackpot is not held in the special pattern game 2 and a normal jackpot is held in the special pattern game 1 when setting a probability variation mode, the required time of the special pattern game 2 is extended.例文帳に追加

確率変動モードの設定時に特別図柄遊技２に大当りが保留されておらずに特別図柄遊技１に通常大当りが保留されている場合には特別図柄遊技２の所要時間が延長される。 - 特許庁

The query is configured of a retrieval pattern, a pivot (node as the reference of retrieval pattern extension), the maximum depth difference in the case of retrieving an extended node form the pivot, the maximum number of extended nodes to be presented in the order of frequency and a flag designating whether to retrieve the high rank node.例文帳に追加

クエリは、検索パターン、ピボット（検索パターン拡張の基準とするノード）、ピボットから拡張ノードを探す際の最大depth差、頻度順に提示する拡張ノードの最大数、及び上位ノードを探すかどうかを指定するフラグから構成される。 - 特許庁

A part where a diffusion layer 1 of a transistor and a basic pattern OP of a gate pattern overlap with each other is computed, patterns of specific width are formed on both the sides of the overlap part, and both the sides of the pattern are extended to outside the diffusion layer 1 to obtain a pattern P3 of the phase shifter.例文帳に追加

トランジスタの拡散層１とゲートパターンの基本パターンＯＰとの重複部分を算出し、重複部分の両側に所定幅のパターンを生成し、前記パターンの両側を拡散層１外まで延長して、位相シフタのパターンＰ３として生成する。 - 特許庁

This enables to form a small light distribution pattern P1b extended along the horizontal cutoff line CL1 in a simple optical system.例文帳に追加

これにより、簡単な光学系で、水平カットオフラインＣＬ１に沿って延びる小配光パターンＰ１ｂを形成可能とする。 - 特許庁

The property may be a result of a physical property of the extended pattern in a second direction at a right angle to the first direction.例文帳に追加

特性は、第一方向に対して直角の第二方向における延在パターンの物理的特性の結果であることがある。 - 特許庁

although the line pattern 132 for phase matching provided on the line pattern layer 125 for phase matching is extended around even onto a wire bonding pad layer 122 and a cavity layer 123a provided right below it in conventional constitution, the branching filter of the present invention does not have the line pattern for phase matching extended around.例文帳に追加

従来構成では、位相整合用線路パターン層１２５上に設けられた位相整合用線路パターン１３２が、ワイヤボンディングパッド層１２２およびその直下に設けられているキャビティ層１２３ａ上にも引き回されているのに対して、本発明の分波器ではかかる位相整合用線路パターンの引き回しがない。 - 特許庁

Included are a floating gate pattern formed in a cell region of a semiconductor substrate, a dummy floating gate pattern formed in an interface region at a periphery of the cell region and extended from the floating gate pattern, and a control gate pattern crossing the floating gate pattern in the cell region of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板のセル領域に形成されたフローティングゲートパターンと、前記セル領域周辺の前記インターフェース領域に形成されて、前記フローティングゲートパターンから延長されたダミーフローティングゲートパターン及び前記半導体基板のセル領域で、前記フローティングゲートパターンと交差するコントロールゲートパターンを含めることを特徴とする。 - 特許庁

The substrate 11 has pattern wires 15a-15c on a surface 11a, and the pattern wires 15a-15c are extended from a position, where each socket 13 is placed, to the edge of the substrate 11.例文帳に追加

基板１１は表面１１ａにパターン配線１５ａ〜１５ｃを有しており、パターン配線１５ａ〜１５ｃはそれぞれソケット１３が載置される位置から基板１１の縁まで延びている。 - 特許庁

Surfaces of the wiring pattern 18 and the copper ball 22 are welded with pressure, and the metal on the surface of the copper ball 22 is pressed and extended over the surrounding area by the rolled copper foil 14 of the wiring pattern 18 for bonding.例文帳に追加

配線パターン１８と銅ボール２２の表面とが圧接し、銅ボール２２表面の金属が配線パターン１８の圧延銅箔１４により周囲に押し広げられて接合して成る。 - 特許庁

Between the unevenness pattern 2a of the mold 1A and the substrate 14 a molding material 15 is uniformly extended to transfer the unevenness pattern 11a of the prototype 11 to the surface of the molding material 15.例文帳に追加

型材１Ａの凹凸パターン２ａと基板１４との間で成形材料１５を均一に展伸し、成形材料１５の表面にに原型１１の凹凸パターン１１ａを転写する。 - 特許庁

The connection pattern 32 has a connection part 32a crossing an extended direction of the core wire 4 and a connecting part 32c connecting the connection part 32a and the resistance pattern 31.例文帳に追加

接続パターン３２は、芯線４の延長方向に対して交差する接続部３２ａと、接続部３２ａと抵抗パターン３１とを接続する連結部３２ｃとを有している。 - 特許庁

The respective non-parallel pattern wiring parts 25 to 27 are extended from the rear end parts of the parallel pattern wiring parts 22 to 24 toward the base end parts of the films 4 to be increased in space and separated from each other.例文帳に追加

非平行パターン配線部２５〜２７は平行パターン配線部２２〜２４の後端部からフィルム４の基端部方向に向けて互いに間隔が広くなるよう離間して延在する。 - 特許庁

Then, the wiring pattern of the flexible substrate 5 is extended to the flexible cable 5c and printed and soldering connection is made to a wiring pattern 4a of the glass epoxy substrate 4 through a signal transmitting part 5c.例文帳に追加

そして、フレキシブル基板５の配線パターンをフレキシブルケーブル５ｃにまで延伸させてプリントし、信号伝達部５ｃを介してガラスエポキシ基板４の配線パターン４ａに半田接続する。 - 特許庁

By performing first-stage exposure, the areas F to be irradiated of the photoresist film are irradiated with light by using a phase shift mask formed in a straight line pattern extended in the direction Y in which word lines are extended.例文帳に追加

フォトレジスト膜に第１段階の露光を行い、ワード線の延在方向と同じＹ方向に延在する直線パターンからなる位相シフトマスクを用いて照射領域Ｆに光を照射する。 - 特許庁

A pattern (main pattern) is formed at the first reticule 101 where each end of a plurality of linear elements which are divisions of an element graphic of a pattern P is so extended as to be connected to a membrane part (skirt part) at the end of a pattern region on the reticule or to the other linear element.例文帳に追加

第１のレチクル１０１には、パターンＰの要素図形を複数の直線要素に分割した直線要素の各々の端を、レチクル上のパターン領域の端のメンブレン部（スカート部）又は他の直線要素に接続されるまで延長したパターン（主パターン）を形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a film pattern which allows a functional liquid fed onto a substrate to be excellently wetted and extended on the substrate.例文帳に追加

基板上に供給後の機能液を基板上で良好に濡れ拡がらせることができる膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The forefront end of the insulating film pattern 11 is positioned in the extended area of the tip part 14a(1) of an upper pole chip 14a.例文帳に追加

絶縁膜パターン１１の最前端は、上部ポールチップ１４ａのうちの先端部１４ａ(1) の延在領域内に位置するようにする。 - 特許庁

To provide a thermoelectric module facilitating wiring work by forming a structure enabling connecting a lead extended from a package to a wiring pattern easily.例文帳に追加

パッケージより延出したリードを配線パターンに容易に接続できる構造にして配線作業が容易な熱電モジュールを提供する。 - 特許庁

A non-conductive pattern part 15 is formed on the side face B so as to be extended from a non-conductive area on the upper edge face to the lower edge face.例文帳に追加

側面Ｂには上端面の非導電領域から下端面の方へと延びた非導電パターン部１５が形成されている。 - 特許庁

Additionally, a selector lever 33 of the pattern selector valve 29 is extended to the backside, and its leading end is protruded to the back end of a floor plate 26.例文帳に追加

また、パターン切換弁２９の切換レバー３３を後側に延ばし、その先端部をフロアプレート２６の後端部よりも突出させる。 - 特許庁

This detection method detects a property of an extended pattern formed by at least one line generally extending in a first direction.例文帳に追加

概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する検出方法。 - 特許庁

If the extglob shell option is enabled using the shopt builtin, several extended pattern matching operators are recognized. 例文帳に追加

組み込みコマンドの shopt を使ってシェルのオプションextglob が有効にされていると、拡張パターンマッチング演算子がいくつか認識されるようになります。 - JM

extglob If set, the extended pattern matching features described above under Pathname Expansion are enabled. 例文帳に追加

extglob設定されている場合、拡張されたパターンマッチング機能が有効になります。 これについては、前述のパス名展開で説明しています。 - JM

The detection method includes moving the substrate table in a first direction and measuring a property of the extended pattern along the first direction.例文帳に追加

検出方法は、基板テーブルを第一方向に移動させ、その第一方向に沿って延在パターンの特性を測定することを含む。 - 特許庁

A color layer 25B in the pixel part in the position along the outermost periphery of the display region is extended to the frame pattern 32 consisting of a black color layer to form an extended part 27 so that the step part between the color layer and the frame pattern is disposed apart from the pixel electrode 30.例文帳に追加

表示領域の最外周に沿って位置した画素部の着色層２５Ｂを黒着色層からなる額縁パターン３２側へ延在させて延在部２７を形成することにより、着色層と額縁パターンとの段差部分を画素電極３０から離して配置する。 - 特許庁

An end of the first extended portion 30 of the current blocking layer 32 terminates at a position closer to a central side without reaching the outer fine-line pattern 37, and the second extended portion 31 of the current blocking layer 32 is extendedly formed up to a lower portion of the conductor of the outer fine-line pattern 37.例文帳に追加

そして、前記電流阻止層の第１の延長部３０は、前記電極層の外郭細線パターン３７よりも中央側において終端し、前記電流阻止層の第２の延長部３１は、前記電極層の外郭細線パターン３７導体下部にまで延長形成されている。 - 特許庁

The ICT wirings 13 and 15 are extended toward the second wiring pattern 21, so that the ICT pads 13 and 15 are placed near the second wiring pattern 21 with a discharge gap G formed between the ICT pads 13 and 15 and the second wiring pattern 21.例文帳に追加

ＩＣＴ配線１３，１５は、ＩＣＴパッド１３，１５が第２配線パターン２１の近傍に位置するように、第２配線パターン２１に向かって延設されて、ＩＣＴパッド１３，１５と第２配線パターン２１との間に放電ギャップＧが形成されている。 - 特許庁

An image is formed by an optical system to be analyzed of a measurement pattern 43A comprising a linear line pattern 41 extended in an X direction, and two line patterns 42A, 42B symmetrically tilted with respect to the line pattern 41 at a tilt angle θ.例文帳に追加

Ｘ方向に伸びた線状のラインパターン４１と、このラインパターン４１に対して対称に傾斜角θで傾斜した２つのラインパターン４２Ａ及び４２Ｂとからなる計測用パターン４３Ａの被検光学系による像を形成する。 - 特許庁

In the ink jet printing system, coating liquid such as the alignment layer is applied to a coating pattern region of the alignment layer or the like where a right-angle triangular pattern is extended in an arrangement for extending opposite sides of the rectangular shape in each corner part, of a rectangular basic coating pattern.例文帳に追加

矩形状の基本塗布パターンの、各コーナ部において矩形の対向辺を延長する配置で直角三角形状パターンを延設した配向膜等の塗布パターン領域に、インクジェット印刷方式で配向膜等の塗布液を塗布する。 - 特許庁

A phase shifter 21 is extended in such a manner that a shifter pattern image 121 produced by illuminating the Levenson phase shift mask having the phase shifter 21 formed thereon and a trim pattern image 131 produced by illuminating a trim mask having a trim pattern 31 formed thereon do not overlap with each other at a position extended in a direction distancing from a gate electrode 11a.例文帳に追加

位相シフタ２１が形成されたレベンソン位相シフトマスクが照明されることで生ずるシフタパターン像１２１と、トリムパターン３１が形成されたトリムマスクが照明されることで生ずるトリムパターン像１３１とが、ゲート電極１１ａから離れる方向へ延長する位置にて互いに重ならないように、その位相シフタ２１を延長する。 - 特許庁

When the reference image macroblock M1 is moved for searching in a vertical direction, a searching pattern generating section 13 establishes extended searching for the searching pattern to extend the searching movement range bridged over between fields.例文帳に追加

探索パターン発生部１３は、参照画マクロブロックＭ１を垂直方向に探索移動させる場合、探索パターンに対して、フィールド間をまたいで探索移動範囲を広げる拡張探索を設定する。 - 特許庁

The variation pattern table 2 is a table in case the number of balls to be shot per unit time is 80, and a variation time in the variation pattern table 1 is extended based on a difference in the number of balls to be shot.例文帳に追加

変動パターンテーブル２は、単位時間当たりの発射球数が８０個の場合のテーブルであり、発射球数の相違に基づき変動パターンテーブル１における変動時間が伸長されている。 - 特許庁

In (c) showing a pattern for measuring an amount of displacement, the sub-scanning length of a reference color pattern is extended and, therefore, an output from a detection sensor is the same as that in the case where sub-scanning displacement does not occur.例文帳に追加

本発明の位置ずれ量測定パターンである（ｃ）では、基準色パターンの副走査長さを延長したため、検出センサからの出力は、副走査位置ずれがない場合と同様となる。 - 特許庁

An outer periphery portion of the shield layer 3 is extended onto the ground electrode pattern 5 positioned at the outer periphery portion of the wiring substrate 1, and electrically connected to the ground electrode pattern 5 at an extension part.例文帳に追加

シールド層３の外周部は、配線基板１の外周部に位置するグランド電極パターン５上まで延在されているとともに、延在部でグランド電極パターン５と電気的に接続されている。 - 特許庁

On the other hand, the linear pattern 1 for receiving the VHF-HI band is extended in parallel with the upper side antenna conductor of the loop pattern 12 and an antenna terminal ANT-1 is provided to the left side end.例文帳に追加

一方、ＶＨＦ−ＨＩ帯域受信用の線状パターン１４は、ループパターン１２の上側アンテナ導体に平行に延びており、その左側端には、アンテナ端子ＡＮＴ−１が設けられている。 - 特許庁

The variation pattern table 3 is a table in case the number of balls to be shot per the unit time is 60, and the variation time in the variation pattern table 1 is extended based on the difference in the number of balls to be shot.例文帳に追加

変動パターンテーブル３は、単位時間当たりの発射球数が６０個の場合のテーブルであり、発射球数の相違に基づき変動パターンテーブル１における変動時間が伸長されている。 - 特許庁

Respective wiring patterns of the signal line and the scanning line are extended near the terminal pattern and are electrically connected to the terminal pattern via an ITO film 215, made of the same base as that of a pixel electrode.例文帳に追加

信号線、走査線の配線パターンはそれぞれ上記端子パターンの近傍まで延伸され、画素電極と同一基材のＩＴＯ膜２１５を介して、上記端子パターンと電気的に接続される。 - 特許庁

A subfield 51 of an evaluating pattern 50 is divided into four regions S so that lines and spaces are extended in an X direction in regions S2 and S4, while the lines and spaces are extended in a Y direction in regions S1 and S3.例文帳に追加

評価用パターン５０のサブフィールド５１は４つの区域Ｓに分割され、区域Ｓ２及びＳ４でライン及びスペースがＸ方向に延び、区域Ｓ１及び区域Ｓ３でＹ方向に延びるように配置されている。 - 特許庁

The wiring pattern 15 is provided with extended parts 15b passing the part connected with the bump 21 and extending to the inside of an IC mounted region J and the extended parts 15b are formed while being separated into at least two groups.例文帳に追加

配線パターン１５はバンプ２１と接続する部分を越えてＩＣ実装領域Ｊの内部へ延びる延在部分１５ｂを有し、それらの延在部分１５ｂは少なくとも２つの群に分離して形成される。 - 特許庁

On forming the die 1 with a two piece type structure, the fixed pattern 2 is removed, further, the insert 33 for the extended sleeve fitted into the extended sleeve 57 is removed, and the pin gate 54 is filled with an insert 36 for the pin gate part.例文帳に追加

２枚型構造のダイカスト用金型１を形成する際には，固定型２を取り外すと共に，延設スリーブ５７に嵌入した延設スリーブ用入子３３を取り外し，ピンゲート部入子３６によりピンゲート５４を埋める。 - 特許庁

A conductor pattern 43, extended to the inner circumference of the hole formed on each circuit board, is brought into contact with the wire 50 as the wire 50 is bent.例文帳に追加

配線５０の撓みにより、各回路基板に形成された穴の内周まで延びる導体パターン４３と配線５０とが接触する。 - 特許庁

At a cut off position, an operation rod 21 is pulled from the ground to bring up an operation ring so that the crushing arms 10 in a pendulous state are extended in a radial pattern.例文帳に追加

切断位置で、操作棒２１を地上から引き、操作リングを上昇させて、下垂れ状態の破砕腕１０を放射状に起こす。 - 特許庁

To allow pattern fonts to be extended to a machine readable area, and to allow the creation of individualized implantations using common software.例文帳に追加

パターン・フォントが機械可読領域に拡張されることを可能にし、普通のソフトウェア用いて個別化された埋め込みの作成を可能にする。 - 特許庁

The rewiring pattern 4 has a protrusion region 5a where the protrusion section 4a is provided and a wiring region 5b extended that is connected to this.例文帳に追加

再配線パターン４は突起部４ａが設けられた突起領域５ａとこれに連続して延在する配線領域５ｂとを有する。 - 特許庁

The patterns are varied while being inclined along with the diagonal 22 and pattern moving distances are extended by extending the central inclined display area CA.例文帳に追加

図柄変動を対角線２２に沿って傾斜して行わせ、かつ中傾斜表示領域ＣＡを長くして図柄移動距離を長くする。 - 特許庁